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[发明专利]离子注入装置及离子注入方法-CN202210117792.5在审
发明人：山口干夫;石桥和久;工藤哲也 -专利权人：住友重机械离子科技株式会社
申请日： 2022-02-08 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明可加速动作参数的调整。离子注入装置具备：射束生成装置，生成照射到工作件的离子束；控制装置(52)，设定用于控制射束生成装置的动作的多个动作参数；测定装置，测定离子束的至少一种射束特性；存储装置(56)，累积将多个动作参数的设定值集与离子束的至少一种射束特性的测定值建立对应关联的数据集；及分析装置(54)，根据累积于存储装置(56)的多个数据集，生成用于根据多个动作参数中所包含的至少一个特定参数的设定值推算至少一种射束特性的函数。在变更多个动作参数中所包含的至少一个特定参数的设定值时，控制装置(52)对函数输入至少一个特定参数的变更后的设定值来计算出至少一种射束特性的推算值。
离子注入装置方法

[发明专利]离子注入装置及模型生成方法-CN202110238943.8在审
发明人：石桥和久;工藤哲也;山口干夫 -专利权人：住友重机械离子科技株式会社
申请日： 2021-03-04 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明评价离子束的物理量的测定的妥当性。离子注入装置(10)具备：射束生成装置，根据注入配方生成离子束；多个测定装置，测定离子束的至少一个物理量；及控制装置(60)，获取包含通过多个测定装置测定的多个测定值的数据集，使用表示多个测定值的相关关系的模型，评价离子束的至少一个物理量的测定的妥当性。
离子注入装置模型生成方法

[发明专利]离子注入装置及使用该装置的多片晶片的处理方法-CN201610630017.4有效
发明人： 工藤哲也;戎真志;藤井嘉人 -专利权人：住友重机械离子技术有限公司
申请日： 2016-08-03 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01J37/20 文献下载
摘要：本发明提供离子注入装置及使用该装置的多片晶片的处理方法。第1及第2输送机构(80，85)将两片一组的晶片从晶片容器(59)经由缓冲装置(60)输送至对准装置(66)，对准后分别向第1及第2装载锁定室(53，54)各送入一片。中间输送机构(90)将两片一组的晶片的一片从第1装载锁定室输送至真空处理室(16)，离子注入处理后从真空处理室输送至第1装载锁定室，将两片一组的晶片的另一片从第2装载锁定室输送至真空处理室，离子注入处理后从真空处理室输送至第2装载锁定室。第1及第2输送机构(80，85)将两片一组的注入处理完的晶片从第1及第2装载锁定室(53，54)送出并存放到晶片容器(59)中。
离子注入装置使用晶片处理方法

[发明专利]离子注入装置及离子注入装置的控制方法-CN201910409564.3在审
发明人：冈田庆二;藤井嘉人;工藤哲也;戎真志;广川卓 -专利权人：住友重机械离子技术有限公司
申请日： 2015-06-15 - 公布日： 2019-08-16 - 主分类号： H01J37/18 文献下载
摘要：本发明提供一种离子注入装置及离子注入装置的控制方法，其课题在于提供一种能够减小输送过程中对晶片的污染的影响的技术。本发明的离子注入装置(10)具备：真空处理室(16)，进行对晶片(W)的离子注入处理；一个以上的装载锁定室(54a、54b)，用于向真空处理室(16)搬入晶片，并从真空处理室(16)搬出晶片；中间输送室(52)，与真空处理室(16)及装载锁定室(54a、54b)这两者相邻而设；装载锁定室‑中间输送室连通机构(72a、72b)，其具有连通装载锁定室(54a、54b)与中间输送室(52)之间的装载锁定室‑中间输送室连通口及能够封闭装载锁定室‑中间输送室连通口的闸阀；及中间输送室‑真空处理室连通机构(70)，其具有连通中间输送室(52)与真空处理室(16)之间的中间输送室‑真空处理室连通口及能够屏蔽中间输送室‑真空处理室连通口的一部分或全部的可动式屏蔽板。
输送室真空处理室装载锁定室离子注入装置连通口晶片连通机构连通输送过程可动式屏蔽板搬出搬入减小屏蔽闸阀离子封闭污染

[发明专利]离子注入装置及离子注入方法-CN201210394014.7有效
发明人：二宫史郎;月原光国;工藤哲也;山田达也 -专利权人：斯伊恩股份有限公司
申请日： 2012-10-17 - 公布日： 2018-01-23 - 主分类号： H01L21/265 文献下载
摘要：本发明公开了一种离子注入装置和离子注入方法。在向晶片中注入离子的过程中，测量离子束电流，获得根据在真空束线室或真空处理室内操作的结构的位置变化而发生变化的真空流导的变化，另外，利用安装在所述真空束线室或所述真空处理室内的真空计检测一个或多个位置处的真空度的变化。利用所获得真空流导和所检测的一个或多个位置处的真空度来校正离子束电流的量，并控制注入至所述晶片中的剂量。
离子注入装置方法

[发明专利]离子注入装置及离子注入方法-CN201210199695.1有效
发明人：二宫史郎;工藤哲也 -专利权人：斯伊恩股份有限公司
申请日： 2012-06-14 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： H01J37/02 文献下载
摘要：一种离子注入方法，其中在射束扫描方向扫描离子束并且在与射束扫描方向垂直的方向机械地扫描晶圆，该方法包括将相对于所述离子束的晶圆旋转角度设定使得为是变化的，其中，以阶梯的方式改变所述晶圆旋转角度的设定角度，从而以每个设定角度将离子注入所述晶圆，以及其中，在晶圆旋转一次期间的多次离子注入操作中的以各个设定角度的离子注入中，将晶圆扫描区域长度设定为是变化的，并且同时，改变离子束的射束扫描速度，从而将所述离子注入所述晶圆并且对其他半导体制造工艺中的晶圆表面内剂量不均匀性进行校正。
离子注入装置方法

[发明专利]离子注入装置及离子注入装置的控制方法-CN201510328896.0在审
发明人：冈田庆二;藤井嘉人;工藤哲也;戎真志;广川卓 -专利权人：住友重机械离子技术有限公司
申请日： 2015-06-15 - 公布日： 2015-12-30 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：本发明提供一种离子注入装置及离子注入装置的控制方法，其课题在于提供一种能够减小输送过程中对晶片的污染的影响的技术。本发明的离子注入装置(10)具备：真空处理室(16)，进行对晶片(W)的离子注入处理；一个以上的装载锁定室(54a、54b)，用于向真空处理室(16)搬入晶片，并从真空处理室(16)搬出晶片；中间输送室(52)，与真空处理室(16)及装载锁定室(54a、54b)这两者相邻而设；装载锁定室-中间输送室连通机构(72a、72b)，其具有连通装载锁定室(54a、54b)与中间输送室(52)之间的装载锁定室-中间输送室连通口及能够封闭装载锁定室-中间输送室连通口的闸阀；及中间输送室-真空处理室连通机构(70)，其具有连通中间输送室(52)与真空处理室(16)之间的中间输送室-真空处理室连通口及能够屏蔽中间输送室-真空处理室连通口的一部分或全部的可动式屏蔽板。
离子注入装置控制方法

[发明专利]离子注入方法及离子注入装置-CN201210080204.1有效
发明人：二宫史郎;工藤哲也;越智昭浩 -专利权人：斯伊恩股份有限公司
申请日： 2012-03-23 - 公布日： 2012-09-26 - 主分类号： H01L21/265 文献下载
摘要：本发明提供一种离子注入方法及离子注入装置，其在不利用晶圆的分步旋转而进行离子注入时，实现与对应于容易在利用等离子体的工序及退火工序中产生的面内不均匀图案的形状相应的二维离子注入量面内分布。本发明在对离子束进行往返扫描且沿与离子束扫描方向正交的方向机械扫描晶圆来将离子注入于晶圆中时，利用规定速度校正量的各个控制函数对离子束扫描方向的射束扫描速度和机械扫描方向的晶圆扫描速度同时且独立地进行速度控制，从而生成用于校正其他半导体制造工序的晶圆面内不均匀性的各向同性同心圆形状的晶圆面内离子注入量分布。
离子注入方法装置

[发明专利]机动二轮车的制动装置-CN201210015190.5有效
发明人：竹之内和也;深谷修一;工藤哲也;细川冬树 -专利权人：本田技研工业株式会社
申请日： 2012-01-17 - 公布日： 2012-08-15 - 主分类号： B62L3/08 文献下载
摘要：本发明提供一种能够形成与行走环境变化对应的前后分配的制动装置。具有能够应对公路行走和环形跑道行驶等那样的行驶环境变化、干的路面和湿的路面那样的路面状况变化的第一控制模式和第二控制模式。另外，在比右把手(27)靠车身中心侧将模式切换机构(26)配置在上位的切断开关(28)与下位的起动开关(29)之间。由模式切换机构(26)切换第一控制模式与第二控制模式。这样，任意地切换第一控制模式和第二控制模式，从而能够进行与行走环境变化对应的机动二轮车的制动控制。
机动二轮制动装置

[发明专利]橱柜收纳库-CN200810129562.0无效
发明人： 工藤哲也;滨田淳;铃木贵之;铃木秀夫;横野智子 -专利权人：可丽娜株式会社
申请日： 2008-06-30 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： A47B77/04 文献下载
摘要：本发明提供内部还具有滑动的收纳部的、多重结构的抽屉式橱柜收纳库，能够防止收纳在内抽屉中的被收纳物和收纳在外抽屉前板内侧的被收纳物发生干扰，有效地利用收纳空间。配置在橱柜中的多层收纳库(200)，其特征在于，包括：内抽屉(230)，具有被拉出方向的端缘的一部分后退的后退部(500)；和外抽屉(300)，具有位于内抽屉(230)的下方的底板(240)以及延伸到至少超过内抽屉(230)的高度的前板(250)；内抽屉(230)以及外抽屉(300)分别滑动，与内抽屉(230)以及外抽屉(300)的位置无关，只要它们重叠，即存在从内抽屉(230)的后退部(500)一直到位于后退部(500)下方的外抽屉(300)的底板的连续的贯通空间(540)。
橱柜收纳

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