专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体结构及其制备方法-CN202210369163.1在审
  • 尹晓明;周俊;王桂磊 - 北京超弦存储器研究院;长鑫科技集团股份有限公司
  • 2022-04-08 - 2023-10-24 - H10B12/00
  • 本申请提供了一种半导体结构及其制备方法。所述一种半导体结构,包括:层叠设置的衬底、第一结构和第二结构;所述第一结构包括第一晶体管和第二晶体管,所述第一晶体管包括第一晶体管源极、第一晶体管沟道、第一晶体管栅极和第一晶体管漏极,所述第二晶体管包括第二晶体管源极、第二晶体管沟道、第二晶体管栅极和第二晶体管漏极,所述第一晶体管沟道为凹字型结构,第一晶体管栅极位于第一晶体管沟道的凹型结构内,所述第二晶体管沟道为凹型结构,第二晶体管栅极位于第二晶体管沟道的凹型结构内;第二结构,所述第二结构包括第一连接线,所述第一连接线被配置成电连接所述第一晶体管漏极和所述第二晶体管栅极。
  • 一种半导体结构及其制备方法
  • [实用新型]一种土建工程用多功能测量工具-CN202321318619.8有效
  • 尹晓明 - 北京金晟源建筑工程有限公司
  • 2023-05-29 - 2023-10-24 - G01D11/00
  • 本实用新型公开了一种土建工程用多功能测量工具,包括伸缩杆,所述伸缩杆的输出端设有鹅颈管,所述鹅颈管上设有双出轴步进电机,所述双出轴步进电机的输出端连接设有螺杆,所述螺杆上套接设有套管,所述套管远离双出轴步进电机的一端均设有压力传感器,所述套管上设有限位槽,所述限位槽内设有与双出轴步进电机固定连接的限位杆,所述伸缩杆远离鹅颈管的一端设有手柄和与双出轴步进电机和压力传感器电性连接的控制器。本实用新型的优点在于:可以对不便进入的低矮处和较高处也能进行测量。
  • 一种土建工程多功能测量工具
  • [发明专利]一种装配式空箱水工挡土墙-CN202311044215.9在审
  • 季荣;蔡丽婧;尹晓明;王易天;张珂 - 上海勘测设计研究院有限公司
  • 2023-08-18 - 2023-10-10 - E02D29/02
  • 本发明提供一种装配式空箱水工挡土墙,包括底板和安装在底板上的墙体;所述底板由若干预制钢筋混凝土空心板沿所述底板的长度方向拼装而成,所述墙体由若干竖墙单元沿所述墙体的长度方向拼装而成;所述竖墙单元为多层拼接结构,且每个竖墙单元均由若干预制箱体在高度方向上拼接而成;每个预制箱体上均开有竖向孔洞,且相同竖墙单元上的各个预制箱体的竖向孔洞依次连通形成用于插装竖向拉筋的竖向插孔;所述预制钢筋混凝土空心板与竖墙单元采用钢筋套筒灌浆连接;本发明通过竖向拉筋连接竖墙单元中的各个预制箱体,以提升竖墙单元的整体性,从而提升墙体的整体刚度,保证水工挡土墙使用安全性。
  • 一种装配式空箱水工挡土墙
  • [发明专利]用于撤销联动操作的方法和装置及计算机可读存储介质-CN202010595768.3有效
  • 尹晓明 - 青岛海尔科技有限公司
  • 2020-06-28 - 2023-09-19 - G05B15/02
  • 本申请涉及智能设备控制技术领域,公开一种用于撤销联动操作的方法。该方法包括:接收第一设备发送的用于指示联动场景内的多个第二设备执行对应的联动操作的第一联动指令,根据第一联动指令生成并发送与多个第二设备对应的多个第二联动指令,在接收到第一设备发送的第一撤销指令之后,确定多个第二联动指令是否已经被发送,如果多个第二联动指令中存在已发送的第二联动指令,则根据第一撤销指令生成并发送与已发送的第二联动指令对应的第二撤销指令,以使第二设备撤销对应的联动操作。本申请能够一次性还原联动场景内的多个设备的联动操作,因此,简化了用户操作,提升了用户体验。本申请还公开了一种用于撤销联动操作的装置及存储介质。
  • 用于撤销联动操作方法装置计算机可读存储介质
  • [发明专利]一种半导体集成电路及其制备方法-CN202210202876.9在审
  • 尹晓明;周俊;王桂磊 - 北京超弦存储器研究院;长鑫科技集团股份有限公司
  • 2022-03-03 - 2023-09-15 - H10B12/00
  • 本申请提供了一种半导体集成电路及其制备方法,半导体集成电路包括层叠设置的衬底、外围电路和存储阵列,衬底的一侧设置有所述外围电路,所述外围电路位于所述衬底与所述存储阵列之间,所述衬底中设置有控制所述存储阵列的外围电路;所述存储阵列包括多个存储单元,所述存储单元包括晶体管结构;所述晶体管结构包括:依次层叠设置在所述外围电路远离所述衬底一侧的栅极导线段、源极、第一隔离层、漏极,还包括沟道;所述沟道为中空桶状结构,所述沟道内部为栅极,所述栅极与所述栅极导线段连接。采用本申请提供的堆叠结构,可以在晶体管尺寸不进行缩微的条件下,存储密度直接提升接近一倍,达到传统两到三代技术节点演进的效果。
  • 一种半导体集成电路及其制备方法
  • [发明专利]一种半导体结构及其制备方法-CN202210203996.0在审
  • 尹晓明;周俊;王桂磊 - 北京超弦存储器研究院;长鑫科技集团股份有限公司
  • 2022-03-03 - 2023-09-15 - H01L29/10
  • 本申请提供了一种半导体结构及其制备方法,所述半导体结构包括:依次层叠设置的源极、介电层、漏极和衬底;沟道,所述沟道为中空桶状结构,所述沟道内部为栅极;所述沟道依次贯穿层叠设置的所述源极、所述介电层并延伸至所述漏极中,并被所述源极、所述介电层和所述漏极包围。本申请提供的晶体管为垂直沟道型晶体管,回避了垂直环栅晶体管(VGAA)器件中存在的掺杂深度与沟道宽度波动不易控制,以及浮体效应等工艺难点。同时器件结构便于加工,工艺流程相对垂直环栅晶体管(VGAA)更为简单,更易于与电容器工艺集成,可以同时兼顾低成本与高密度,从而提高DRAM产品竞争力。
  • 一种半导体结构及其制备方法
  • [发明专利]一种含铅玻璃综合回收利用装置-CN201911301245.7有效
  • 刘红广;张伟;尹晓明 - 湖南恒晟环保科技有限公司
  • 2019-12-17 - 2023-09-15 - C03B3/00
  • 本发明公开了一种含铅玻璃综合回收利用装置,包括装置主体、分离框、过滤板、回收箱和控制面板,所述装置主体底端的两侧皆安装有回收箱,回收箱的顶端延伸至装置主体的内部,回收箱且上方的装置主体内部设置有分离框,并且分离框内部一端安装有过滤板,所述分离框的两外侧壁上皆固定有伸缩杆,且相邻伸缩杆之间的装置主体内壁上安装有回位弹簧,回位弹簧远离装置主体内壁的一端与分离框的外壁固定连接,所述装置主体内部的一端蓄热炉,蓄热炉的外壁与装置主体的内壁固定连接。本发明不仅提高装置的回收效果,避免玻璃原料浪费的现象,还提高装置的环保性。
  • 一种铅玻璃综合回收利用装置
  • [实用新型]一种室内装修用墙壁画线装置-CN202320527078.3有效
  • 尹晓明 - 北京金晟源建筑工程有限公司
  • 2023-03-17 - 2023-06-13 - E04G21/18
  • 本实用新型公开了一种室内装修用墙壁画线装置,涉及建筑装饰技术领域,包括底座,所述底座的顶部固定安装有安装架,所述安装架顶部的中部转动安装有丝杆,所述安装架顶部的一侧固定安装有竖板,本实用新型的有益效果为:通过观察标针与刻度标识便可得知画线距离,提高画线的精准度,到达画线高度,随后当需要画横线时,我们松动第一紧固螺栓,接触第一紧固螺栓对画线杆的限位,随后我们拉动画线杆便可画出横线,同时在一些较为狭窄拉动不便的区域内也可事先将画线杆拉至转套一侧进行推动画线杆也可进行画线,使用方式多变,兼容性高,并且在对高处进行画线时无需使用工具便可调节画线高度,最后还无需两个人进行画线施工,使用方便。
  • 一种室内装修墙壁画线装置
  • [发明专利]动态存储装置及其制备方法-CN202210056489.9在审
  • 戴瑾;尹晓明 - 北京超弦存储器研究院
  • 2022-01-18 - 2023-06-06 - H10B12/00
  • 本申请实施例提供了一种动态存储装置及其制备方法。动态存储装置的制备方法包括:提供硅衬底,在所述硅衬底上制备硅基半导体层;在所述硅基半导体层的一侧依次制备第一绝缘层、第一金属层和第二金属层,形成读取场效应管;在所述第二金属层的一侧制备连接层;在所述连接层的一侧依次制备第三金属层、金属氧化物半导体层、第二绝缘层和第四金属层,形成写入场效应管。本申请实施例中制得两个场效应管:读取场效应管和写入场效应管,由写入场效应管将数据写入读取场效应管。由于写入数据和读取数据涉及不同的场效应管,从动态存储装置读取数据时,无需破坏数据,从而不必重写数据,节省数据处理时间,提高应对大批量数据处理需求的处理能力。
  • 动态存储装置及其制备方法
  • [发明专利]MOS管、存储器及其制备方法-CN202210333652.1在审
  • 戴瑾;尹晓明;周俊 - 北京超弦存储器研究院
  • 2022-03-30 - 2023-06-06 - H01L29/78
  • 本申请实施例提供了一种MOS管、存储器及其制备方法。在本申请实施例提供的MOS管中,通过将源极结构、金属氧化物半导体结构和漏极结构设置为沿垂直于衬底基板方向的叠置结构,且源极结构、金属氧化物半导体结构和漏极结构在衬底基板的正投影至少部分重叠,从而能够简化MOS管的结构,能够降低MOS管的制备难度,进而能够降低应用有该MOS管的存储器的制备难度,能够降低应用有该MOS管的存储器的制造成本。同时,能够降低MOS管的体积,能够提高存储器中容纳的MOS管的数量,有利于应用有该MOS管的存储器的集成化,能够进一步降低存储器的制造成本。
  • mos存储器及其制备方法
  • [发明专利]场效应管、存储器、存储器的制备方法及电子设备-CN202210613174.X在审
  • 尹晓明;赵超;韩宝东 - 北京超弦存储器研究院
  • 2022-05-31 - 2023-06-06 - H10B12/00
  • 本申请实施例提供了一种场效应管、存储器、存储器的制备方法及电子设备。在本申请实施例提供的存储器的制备方法中,通过侧向刻蚀初始结构列的初始牺牲半导体结构,使得初始叠置结构的第一中间牺牲半导体结构的两侧面沿第二方向相对于初始源极结构和初始漏极结构缩进,通过外延工艺在初始叠置结构的两侧面制备包括沟道结构的半导体结构,然后去除中间牺牲半导体结构,从而能够精准控制制备得到叠置结构中沟道结构的尺寸,能够提高沟道结构的制备精度,从而能够保障存储器中各个场效应管性能的均一性,进而保障存储器的性能。
  • 场效应存储器制备方法电子设备
  • [发明专利]一种非对称图形的图案化方法-CN202111457543.2在审
  • 尹晓明;周俊;韩宝东 - 北京超弦存储器研究院
  • 2021-12-02 - 2023-06-06 - H01L21/027
  • 本发明提供了一种非对称图形的图案化方法,包括以下步骤:在待蚀刻材料层表面形成第一掩膜层,通过第一掩膜层定义预设对称图案;将对称图案转移至待蚀刻材料层内,形成第一图案结构;在第一图案结构表面形成第二掩膜层,通过第二掩膜层定义预设非对称图案;将非对称图案转移至待蚀刻材料层内,形成第二图案结构;第一图案结构与第二图案结构叠加形成非对称图形结构。本发明是针对图形加工工艺的改进,主要是将非对称图形分解为对称图案与非对称图案,并分别进行加工,避免了由非对称图形造成的图形扭曲,改善了器件电学性能的均一性,可广泛应用在DRAM的有源区结构上,表现为阵列中晶体管关态电流的分布更为集中,操作窗口得到改善。
  • 一种对称图形图案方法
  • [发明专利]场效应管、存储器及其制备方法-CN202210333650.2在审
  • 戴瑾;尹晓明 - 北京超弦存储器研究院
  • 2022-03-30 - 2023-06-06 - H01L29/78
  • 本申请实施例提供了一种场效应管、存储器及其制备方法。该场效应管包括叠层结构和两个半导体结构,叠层结构和两个半导体结构;叠层结构被构造为设置在基板的一侧,叠层结构包括沿第一方向依次叠层设置的漏极结构、栅极单元和源极结构,漏极结构和源极结构在基板的正投影至少部分重叠,第一方向垂直于基板。通过将漏极结构、栅极单元和源极结构沿垂直于基板的方向叠层设置为叠层结构,且漏极结构和源极结构在基板的正投影至少部分重叠,从而能够简化场效应管的结构,能够降低制备场效应管的难度,以及降低制备场效应管的成本。
  • 场效应存储器及其制备方法

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