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[发明专利]二氧化钛基光催化剂及其制备方法和应用-CN03811962.5无效
发明人：冈田克己;西原克浩;下崎新二;正木康浩;梶村治彦;小田孝治;高桥通泰;矢尾正;永冈佐太延;小笠原忠司;渡边宗敏 -专利权人：住友钛株式会社;住友金属工业株式会社
申请日： 2003-03-20 - 公布日： 2005-08-17 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：在二氧化钛中含有金属卤化物，并由二氧化钛和/或其前体(所述二氧化钛和/或其前体可以任选进行热处理)通过与含有由式MX_n或MOX_n (其中M＝金属，X＝卤素，n＝整数)表示的金属卤化物的反应气体接触、加热而制备出的二氧化钛基光催化剂，它稳定地表现出对于可见光辐照的高光催化活性。所述光催化剂可以随后通过与水接触或热处理而稳定，和/或通过与同多酸和/或杂多酸接触而改善，以使在二氧化钛中包括金属配合物。以该种方式制备的光催化剂表现出新的ESR特征。本发明也提供用于制备这些光催化剂，光催化剂分散体和含有所述光催化剂的光催化涂层流体的方法，提供光催化功能产品和使用所述光催化剂制造所述光催化功能产品的方法。
氧化光催化剂及其制备方法应用

[发明专利]光催化复合材料及其制备方法-CN02828608.1无效
发明人：下崎新二;小笠原忠司;渡边宗敏;小田孝治;永冈佐太延;正木康浩;矢尾正 -专利权人：住友钛株式会社
申请日： 2002-07-26 - 公布日： 2005-06-01 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：通过下面的方法制备具有高活性和良好耐久性的光催化复合材料：通过四氯化钛的汽相淀积，基材的表面涂布有二氧化钛的连续薄膜。当基材是无机纤维物质如玻璃布时，单个纤维或纤丝涂布有二氧化钛。通过这样一种方法在基材上提供光催化剂的连续薄膜：该方法包含汽相淀积步骤和加热步骤，所述汽相淀积步骤使加热至100－300℃的基材如无机纤维物质与通过蒸馏纯化的四氯化钛蒸气和水蒸汽的混合蒸气接触，以在基材的表面上形成二氧化钛前体的薄膜，所述的加热步骤在氧化性气氛中将基材于300－600℃加热，从而将前体转化成为二氧化钛，所述的连续薄膜包含平均晶体直径为50nm或以下的二氧化钛晶体且具有高活性和与基材的良好粘附件。
光催化复合材料及其制备方法

[发明专利]钛粉末烧结体-CN02805035.5无效
发明人：大西隆;小笠原忠司;渡边宗敏;加藤雅通 -专利权人：住友钛株式会社
申请日： 2002-02-15 - 公布日： 2004-09-22 - 主分类号： B22F5/00 文献下载
摘要：提供过滤器和、固体高分子型水电解槽中的供电体、固体高分子型燃料电池中的集电体、进而提供液体的分散板，特别是适用于喷墨打印机用油墨分散板等的多孔质体。烧结用气体雾化法制造的由钛或者钛合金构成的球状粉末，形成板状的多孔质的钛粉末烧结体。通过无加压充填及无加压烧结可以得到35～55％的空隙率。
粉末烧结

[发明专利]一氧化硅烧结体及其制造方法-CN02803178.4无效
发明人：夏目义丈;大西隆;小笠原忠司;渡边宗敏;岩濑敏治 -专利权人：住友钛株式会社
申请日： 2002-07-25 - 公布日： 2004-02-18 - 主分类号： C04B35/01 文献下载
摘要：本发明的目的是提供具有作为一氧化硅气相淀积材料所要求的均匀的组织、良好的机械加工性和抗飞溅性的一氧化硅烧结体，或直径至少100mm并具有作为溅射靶材料所要求的形状的一氧化硅烧结体，并稳定、高产地得到这些烧结体。通过在至少15Mpa的压力、1200－1350℃温度的热压条件下进行烧结，可以得到堆积密度至少为1.68g/cm³的一氧化硅烧结体，进一步通过使用具有在整体式外模内设置间隙并组合分割成多段的内模的结构、并在该间隙中设置缓冲材料的压模，可以得到直径至少为100mm、并且堆积密度为至少2.13g/cm³ (真密度的至少95％)的一氧化硅烧结体，可以提供最适合真空气相淀积、溅射等的气相成膜材料。
氧化烧结及其制造方法

[发明专利]一氧化硅蒸镀材料及其制造方法、制造原料和制造装置-CN01815020.9无效
发明人：有本伸弘;西冈和雄;木崎信吾;小笠原忠司;藤田诚 -专利权人：住友钛株式会社
申请日： 2001-08-30 - 公布日： 2003-10-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明涉及以下高纯度一氧化硅蒸镀材料、其制造方法、以及制造原料等。(1)高纯度一氧化硅蒸镀材料，在形成蒸镀膜时可以抑制飞溅现象，且平均体积密度为2.0g/cm3、维氏硬度为500以上。(2)高纯度一氧化硅蒸镀材料的制造方法，在原料室中比一氧化硅升华温度低的温度下进行脱气处理之后，实施升温而使一氧化硅升华，蒸镀到沉积室的沉积衬底上形成高纯度一氧化硅蒸镀材料，其金属不纯物的总量为50ppm以下。(3)所述的一氧化硅蒸镀材料的制造原料，其中金属硅粉与二氧化硅粉的平均粒度同时为1～40μm和/或摩尔混合比SiO/Si为0.90～0.99。
氧化硅蒸镀材料及其制造方法原料装置