“小泉僚”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]曝光方法、曝光装置和制造物品的方法-CN201810874025.2有效
发明人： 小泉僚;中村忠央 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了曝光方法、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种曝光方法，所述曝光方法用于重复地执行用于经由投影光学系统对基板进行曝光的曝光处理，所述方法包括：第一曝光处理，所述第一曝光处理用于测量所述投影光学系统的光学特性，并且在基于所述测量的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光；第二曝光处理，所述第二曝光处理用于在基于通过预测公式估计所述光学特性的结果来校正所述光学特性的同时对所述基板进行曝光，其中，重复地执行所述第一曝光处理，并且在其中判断所确定的所述预测公式的系数已收敛的所述第一曝光处理之后开始所述第二曝光处理。
曝光方法装置制造物品

[发明专利]决定方法、曝光方法、信息处理装置、介质以及制造方法-CN201810491571.8有效
发明人：中村忠央;小泉僚 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-05-22 - 公布日： 2021-05-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及决定方法、曝光方法、信息处理装置、介质以及制造方法。一种决定方法，是在将掩模的图案经由投影光学系统转印到基板的曝光装置中决定在表示所述投影光学系统的成像特性的变动的模型式中使用的表示所述成像特性的饱和值的系数的决定方法。
决定方法曝光信息处理装置介质以及制造

[发明专利]曝光装置、曝光方法和制造物品的方法-CN202010590397.X在审
发明人：宫野皓贵;小泉僚;茂泉纯;三上晃司 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。曝光装置包括：第一温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布；第二温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布，其中，在执行曝光操作的第一时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于执行曝光操作而引起的投影光学系统的像差的变化，并且在第一时段之后并且不执行曝光操作的第二时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于不执行曝光操作而引起的像差的变化。
曝光装置方法制造物品

[发明专利]曝光装置和物品制造方法-CN202010472360.7在审
发明人： 小泉僚 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光基板的曝光装置。该装置包括被配置成将掩模的图案投影到基板上的投影光学系统、被配置成调整投影光学系统的成像特性的调整单元以及被配置成使用预测公式预测由投影光学系统吸收曝光能量引起的成像特性的波动，基于预测的结果控制调整单元并曝光基板的控制单元。控制单元应用一种模式，在该模式下，在用于顺序地曝光多个基板的作业中，在曝光每个基板之前测量成像特性，并且在完成作业之后，基于各个测量结果来更新预测公式中的预测系数。在该模式下，不仅在作业中设定的曝光视角内而且还在作业中设定的曝光视角外测量成像特性。
曝光装置物品制造方法

[发明专利]曝光装置和物品制造方法-CN201611025260.X在审
发明人： 小泉僚 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2016-11-16 - 公布日： 2017-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及曝光装置和物品制造方法。本发明提供用于曝光基板上的多个击射区域中的每一个的曝光装置。该曝光装置包括控制单元，该控制单元被配置为使用用于控制在基板上曝光的击射区域的形状的控制信息来控制曝光基板上的多个击射区域中的每一个的曝光处理，从而使得多个击射区域相邻。控制信息包含校正信息，该校正信息用于基于相邻的多个击射区的布局信息校正由曝光多个击射区域中的每一个时多个击射区域的形状的变形导致的多个击射区域的相邻部分的偏移。控制单元通过使用校正信息控制曝光处理。
曝光装置物品制造方法

1
共 5 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top