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[发明专利]损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置-CN202310292387.1在审
发明人：横山亮一;表和彦;小林大辅 -专利权人：株式会社理学;中部电力株式会社
申请日： 2023-03-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G01N23/207 文献下载
摘要：提供一种不管周围的状态如何都能够对单晶状态的试样的损伤进行测定的损伤测定方法、装置、记录介质以及X射线衍射装置。包含如下步骤：将细束的白色X射线照射到单晶状态的试样的步骤(S03)；检测通过照射产生的衍射光斑的步骤(S05)；算出与检测出的衍射光斑的特定方向的强度分布的方差有关的系数的步骤(S06)；以及从所算出的系数确定试样的损伤状态的步骤。“单晶状态”是指材料由单晶或粗大晶粒形成的状态。
损伤测定方法装置记录介质以及射线衍射

[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法-CN202310823157.3在审
发明人： 小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-07-21 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及曝光装置以及物品的制造方法。曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动一边对基板进行曝光，具有利用来自光源的光对原版的被照明面进行照明的照明光学系统。照明光学系统包括：第1遮光部，配置于从被照明面的共轭面向光源侧离开的位置；第2遮光部，配置于从共轭面向被照明面侧离开的位置；以及遮蔽部，配置于第1遮光部与第2遮光部之间，划定被照明面的照明范围，沿着照明光学系统的光轴的方向上的共轭面与第1遮光部之间的第1距离以及沿着光轴的方向上的共轭面与第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下，第1遮光部以及第2遮光部被配置成第1距离和第2距离不同。
曝光装置以及物品制造方法

[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法-CN202080060934.8有效
发明人： 小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-07-21 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种曝光装置，该曝光装置一边使原版和基板在扫描方向上移动，一边对所述基板进行曝光，其特征在于，具有利用来自光源的光对所述原版的被照明面进行照明的照明光学系统，所述照明光学系统包括：第1遮光部，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧离开的位置；第2遮光部，配置于从所述共轭面向所述被照明面侧离开的位置；以及遮蔽部，配置于所述第1遮光部与所述第2遮光部之间，划定所述被照明面的照明范围，沿着所述照明光学系统的光轴的方向上的所述共轭面与所述第1遮光部之间的第1距离以及沿着所述光轴的方向上的所述共轭面与所述第2遮光部之间的第2距离的和是5mm以上并且20mm以下，所述第1遮光部以及所述第2遮光部被配置成所述第1距离和所述第2距离不同。
曝光装置以及物品制造方法

[发明专利]曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法-CN202211306939.1在审
发明人：山本和树;小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-10-25 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法。本发明提供有利于降低在基板上产生的曝光不均的曝光装置。针对基板中的同一拍摄区域进行多次扫描曝光的曝光装置具备：光源部，周期性地射出脉冲光；以及控制部，使用从所述光源部射出的脉冲光来控制所述多次扫描曝光，所述控制部以使在所述多次扫描曝光中的各次扫描曝光中在所述拍摄区域上周期性地产生的曝光不均通过所述多次扫描曝光而至少部分性地相抵的方式，根据所述曝光不均的周期，在所述多次扫描曝光中变更扫描曝光中的来自所述光源部的脉冲光的射出开始定时。
曝光装置方法以及物品制造

[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法-CN201911333037.5有效
发明人：中山谅;小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2019-12-23 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及产品的制造方法，提供一种有益于使与照明模式对应的能量密度的光入射到光学积分器的技术。使用来自光源的光对被照明面进行照明的照明光学系统包括：生成部，使来自光源的光衍射，将多个种类的光强度分布中选择出的光强度分布生成于光瞳面；光学积分器，配置于生成部与被照明面之间的光路上；及光透射部件，配置于生成部与光学积分器之间的光路上，多个种类的光强度分布包括光瞳面处的分布形状相互不同的第1光强度分布和第2光强度分布，光透射部件包括在第1光强度分布生成时和第2光强度分布生成时光共同地透射的第1区域和第1区域以外的第2区域，第1区域包括光的发散程度比第2区域高的发散部。
照明光学系统曝光装置以及产品制造方法

[发明专利]照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法-CN202210471767.7在审
发明人： 小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-04-29 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及照明光学系统、曝光装置及制造物品的方法。本发明提供了一种用于照亮物体的照明光学系统，包括：第一透光构件和第二透光构件，以及被配置为控制第一透光构件和第二透光构件的驱动的控制单元，其中，在控制单元驱动第一透光构件使得光对第一透光构件的入射角增加的同时，控制单元驱动第二透光构件使得光对第二透光构件的入射角减小，从而改变从照明光学系统出射的光的强度。
照明光学系统曝光装置制造物品方法

[发明专利]轮毂单元轴承的状态判定装置、轮毂单元轴承的状态判定方法、程序及轮毂单元轴承-CN202180014353.5在审
发明人： 小林大辅 -专利权人：日本精工株式会社
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： F16C41/00 文献下载
摘要：一种状态判定装置，具有：保持机构，其保持轮毂单元轴承所具备的凸缘部的周边的规定位置的磁特性的基准信息；获取机构，其获取所述轮毂单元轴承的所述规定位置的磁特性的测定信息；导出机构，其导出由所述保持机构保持的基准信息与由所述获取机构获取的测定信息的变化量；以及判定机构，其基于由所述导出机构导出的变化量，判定所述轮毂单元轴承的状态，所述规定的位置是磁特性随着相对于所述凸缘部的应力变化而变动的位置。
轮毂单元轴承状态判定装置方法程序

[发明专利]光聚合起始剂-CN202080086263.2在审
发明人：平田明理;小林大辅;竹田贺美 -专利权人：科巨希化学股份有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C08F2/50 文献下载
摘要：本发明的技术问题在于提供一种光聚合起始剂，与并用单体的相溶性高，抑制臭气或渗出问题，并且对长波长光线的灵敏度高。本发明发现了在分子内具有一个以上的乙烯性不饱和键及一个以上的光聚合起始性官能基的光聚合起始剂，以至达成了本发明。可优选地使用选自丙烯酰胺基、丙烯酸酯基、乙烯基、烯丙基、马来酰亚胺基等中的一种以上作为乙烯性不饱和键，可优选地使用具有特定结构的二苯甲酮化合物作为光聚合起始性官能基。
聚合起始

[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及物品的制造方法-CN202210113166.9在审
发明人：箕田贤;小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2022-01-30 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。提供一种对被照明面进行照明的照明光学系统，其特征在于，具有：光学积分器，利用来自光源的光形成2次光源；以及变形透镜，所述光学积分器包括：入射侧光学元件，排列有多个第1光学元素；以及射出侧光学元件，包括与所述多个第1光学元素中的每一个对应地排列的多个第2光学元素，所述变形透镜配置于所述入射侧光学元件与所述射出侧光学元件之间。
照明光学系统曝光装置以及物品制造方法

[发明专利]光固化性指甲化妆材料-CN201811295244.1有效
发明人：平田明理;竹之内美希;足立祐辅;小林大辅 -专利权人：科巨希化学股份有限公司
申请日： 2018-11-01 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： A61K8/87 文献下载
摘要：本发明提供一种光固化性指甲化妆材料，其涂布性、固化性、安全性以及保存稳定性优异，即使涂得较薄也具有充分的固化性，以及提供由该指甲化妆材料得到的、具有良好的光泽性和持久性并且兼具柔软性和强韧性、并能够容易地进行修补、除去的凝胶指甲、指甲贴以及指甲片。光固化性指甲化妆材料的特征在于，包含具有(甲基)丙烯酰胺基的聚氨酯(A)。
光固化指甲化妆材料

[发明专利]曝光装置和制造物品的方法-CN202080061309.5在审
发明人： 小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-07-21 - 公布日： 2022-04-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明更有利地防止在被照射表面上的光强度分布中重心光线的偏离。扫描曝光装置的照明光学系统具有第一遮光单元(18)和第二遮光单元(19)，第一遮光单元包括第一和第二遮光构件，第一和第二遮光构件之间在扫描方向上的相对距离可变并且第一和第二遮光构件均具有在扫描方向上面向另一构件的端部的端部，第二遮光单元包括第三和第四遮光构件，第三和第四遮光构件之间在扫描方向上的相对距离可变并且第三和第四遮光构件均具有在扫描方向上面向另一构件的端部的端部。第一遮光单元和第二遮光单元分别布置在朝向光源侧和朝向非照射表面侧离开被照射表面的共轭平面的位置处。在垂直于扫描方向的方向上共轭平面中的预定位置，第一和第二遮光构件的互相面对的端部的中点与包括照明光学系统的光轴且与扫描方向垂直的平面之间的第一距离与上述平面与第三和第四遮光构件的互相面对的端部的中点之间的第二距离一致。
曝光装置制造物品方法

[发明专利]曝光装置以及物品制造方法-CN202080060758.8在审
发明人：中山谅;小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-08-05 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在进行基板的扫描曝光的曝光装置中，利用来自光源(1)的光对原版(24)的被照明面进行照明的照明光学系统具有：衍射光学元件(6)，在预定面上通过衍射作用变换来自所述光源(1)的光束的光强度分布；第1遮光部(18)，配置于从所述被照明面的共轭面向所述光源侧散焦后的位置；以及第2遮光部(20)，配置于从所述被照明面的所述共轭面向所述被照明面侧散焦后的位置。所述衍射光学元件(6)具有以下衍射特性：针对由所述第1遮光部(18)和所述第2遮光部(20)在所述被照明面上产生的、对通过所述扫描曝光对某一点进行照明的期间中的入射角度分布进行累计而得到的累计入射角度分布，降低所述扫描曝光的扫描方向和与该扫描方向正交的非扫描方向之差。
曝光装置以及物品制造方法

[发明专利]照明光学系统、曝光装置以及制造物品的方法-CN201811034310.X有效
发明人：中村有志;小林大辅 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-09-06 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及照明光学系统、曝光装置以及制造物品的方法。本发明提供了一种照明光学系统，该照明光学系统通过使用来自光源的光束对待照明的表面进行照明，包括：被配置为透射来自光源的光束的光学元件；以及具有入射表面的构件，透过所述光学元件的光束入射在该入射表面上，其中，所述光学元件具有包括所述光学元件的中央部分的第一区域和在所述第一区域外部的第二区域，并且其中，所述光学元件被形成为使透过所述第一区域的光束的一部分和透过所述第二区域的光束的一部分在所述入射表面上重叠。
照明光学系统曝光装置以及制造物品方法

[发明专利]滚动机械要素的疲劳诊断方法和滚动机械要素的疲劳诊断系统-CN202080044497.0在审
发明人： 小林大辅;小野晃一朗 -专利权人：日本精工株式会社
申请日： 2020-02-05 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： G01N27/72 文献下载
摘要：本发明提供一种能够在轴承部件产生损伤之前掌握疲劳状态，并且能够不分解滚动轴承而进行疲劳状态的诊断的方法及系统。在不分解滚动机械要素的情况下，通过配置于结构部件的附近的磁传感器，测定该结构部件的轴向以及径向的磁通密度，计算相对于与该结构部件的使用开始前的磁通密度相当的基准磁通密度的变化量，并根据该变化量来判定滚动机械要素的疲劳发展度。
滚动机械要素疲劳诊断方法系统

[发明专利]曝光装置、调整方法和物品制造方法-CN201810983842.1有效
发明人： 小林大辅;中村有志 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2018-08-28 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及曝光装置、调整方法和物品制造方法。提供一种曝光装置。装置中的照明光学系统包含衍射光学元件、会聚光学系统、检测从会聚光学系统出射的光束的检测器、以及能够在光路中在会聚光学系统会聚光束的预先确定的面附近的位置被插入/去除的第一光阑。第一光阑具有开口直径，使得当来自光源的光在衍射光学元件上的入射角度偏离目标角度时检测器的输出减小。基于第一光阑被插入到所述位置中时的检测器的输出和第一光阑从所述位置缩回时的检测器的输出，控制器执行调整入射角度的处理。
曝光装置调整方法物品制造

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