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- [发明专利]一种多功能晶片腐蚀和清洗装置及使用方法-CN202011389381.9在审
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姚炜
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宁波瑞曼特新材料有限公司
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2020-12-01
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2021-03-16
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H01L21/67
- 本发明公开一种多功能晶片腐蚀和清洗装置及使用方法,涉及半导体加工制造领域,汇流管道固定于升降支撑组件上,汇流管道中设置有腐蚀液管道和清洗液管道,分别用于通入腐蚀液和清洗液,能够完成腐蚀和清洗两个步骤,简化了工艺流程,提高了晶片加工质量;升降支撑组件能够带动汇流管道上升或下降,进而调节喷淋高度;主喷淋臂的两端铰接于汇流管道上,副喷淋臂的两端固定于汇流管道上,两个喷淋臂可工作于定点喷淋和摆动喷淋两种模式,可以提高晶片腐蚀的均匀度;晶片承载组件中第二驱动部件用于驱动第二支撑杆摆动,使得晶片载具可以小角度倾斜,用于排出腐蚀液或清洗液,第三驱动部件用于驱动晶片载具转动,进而使得晶片稳定旋转。
- 一种多功能晶片腐蚀清洗装置使用方法
- [发明专利]一种电梯运行方法及系统-CN201611189727.4在审
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施惠栋
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宁波瑞曼特新材料有限公司
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2016-12-21
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2017-03-29
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B66B1/28
- 本发明公开一种电梯运行方法及系统。所述方法通过获取电梯内人员和货物的总压力值和所占底面积;当压力值大于等于压力预设阈值且小于压力安全阈值或底面积值大于等于底面积预设阈值且小于底面积安全阈值时,不响应电梯外部用户的停靠请求;当压力值大于压力安全阈值或面积值大于面积安全阈值时,不响应电梯内部和外部的停靠请求;当压力值小于压力预设阈值且面积值小于面积预设阈值时,电梯正常运行,响应外部及内部停靠请求。通过本发明的方法及系统,可以有效评估电梯内部空间利用情况,并配合此电梯运行方法,可以节约乘坐电梯以及等待电梯人员的时间,提高了电梯运行效率,且保证了电梯运行的安全性。
- 一种电梯运行方法系统
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