专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种应用于真空镀膜的接送料控制方法-CN202310725785.8在审
  • 姜翠宁;李建华 - 广东生波尔光电技术有限公司
  • 2023-06-16 - 2023-10-13 - C23C14/54
  • 本发明涉及真空镀膜的技术领域,具体涉及一种应用于真空镀膜的接送料控制方法。包括料仓、真空箱,所述料仓与所述真空箱之间通过进料口连通,所述真空箱内还设有接料门阀组件以及传送机构,所述接料门阀组件包括在竖直方向上间隔设置的接料件以及位于接料件下侧的密封件,所述传送机构包括运输线以及设于运输线上的对接运输组件,所述控制方法包括接料控制及镀膜控制,本发明通过接料门阀组件将工件在真空箱与料仓之间运输的同时,可将进料口进行封堵,这样可单独对料仓进行破空处理,保持真空箱内一直是真空的状态,从而避免真空箱频繁切换真空与破空状态,导致效率低以及容易导致靶氧化的问题。
  • 一种应用于真空镀膜接送控制方法
  • [发明专利]特种工件辅助镀膜的自动控制方法-CN202010321987.2有效
  • 姜翠宁;徐从高 - 广东生波尔光电技术有限公司
  • 2020-04-22 - 2023-03-28 - C23C14/56
  • 本发明实施例公开了一种特种工件辅助镀膜的自动控制方法,包括如下步骤:四工位平移升降装置反向接收两待静放工件、以及两待翻转工件;四工位平移升降装置上层将两待静放工件及其基片架正向输出至真空镀膜设备的静放室进行静放;四工位平移升降装置通过上层接收两第一基片架;对四工位平移升降装置下层的待翻转工件分别进行180°翻面,并将翻面后工件分别放置于四工位平移升降装置上层的第一基片架;四工位平移升降装置上层将两翻面后工件及第一基片架正向输出至真空镀膜设备的工艺室进行正镀膜。本发明实施例,通过辅助镀膜的自动控制方法,至少可实现工件四出、二进、及自动更换基片架的功能,可实现工件镀膜全自动化处理,自动化程度高。
  • 特种工件辅助镀膜自动控制方法
  • [实用新型]用于电路板或电池电极的卷绕式铜膜真空镀膜设备-CN202222984601.3有效
  • 姜翠宁;李小彭;李仕军;高文波;李星 - 浙江生波智能装备有限公司
  • 2022-11-07 - 2023-03-28 - C23C14/56
  • 本实用新型实施例公开了一种用于电路板或电池电极的卷绕式铜膜真空镀膜设备,至少包括依次设置的放卷室、工艺室、及收卷室;工艺室至少包括:表面活化工艺室,用于对输送而来的柔性PI基材进行二次烘烤,并通过离子源对柔性PI基材进行材料表面活化处理;改性工艺室,用于通过金属源注入Cu离子,使经表面活化处理的柔性PI基材表面,形成由Cu离子和PI材料表面原子或分子相结合的改性嵌入层;弧靶离子镀膜工艺室,用于通过弧源离子源注入Cu离子,使改性嵌入层上形成Cu过渡层;以及磁控溅射镀膜工艺室,用于通过磁控溅射源以直流溅射的方式在Cu过渡层上形成Cu功能层。本实用新型实施例,经工艺室真空镀膜制成的铜膜,其表面附着力满足大于0.7N/mm的要求。
  • 用于电路板电池电极卷绕式铜膜真空镀膜设备
  • [发明专利]用于电路板或电池电极的卷绕式铜膜真空镀膜设备-CN202211384309.6在审
  • 姜翠宁;李小彭;李仕军;高文波;李星 - 浙江生波智能装备有限公司
  • 2022-11-07 - 2023-02-24 - C23C14/56
  • 本发明实施例公开了一种用于电路板或电池电极的卷绕式铜膜真空镀膜设备,至少包括依次设置的放卷室、工艺室、及收卷室;工艺室至少包括:表面活化工艺室,用于对输送而来的柔性PI基材进行二次烘烤,并通过离子源对柔性PI基材进行材料表面活化处理;改性工艺室,用于通过金属源注入Cu离子,使经表面活化处理的柔性PI基材表面,形成由Cu离子和PI材料表面原子或分子相结合的改性嵌入层;弧靶离子镀膜工艺室,用于通过弧源离子源注入Cu离子,使改性嵌入层上形成Cu过渡层;以及磁控溅射镀膜工艺室,用于通过磁控溅射源以直流溅射的方式在Cu过渡层上形成Cu功能层。本发明实施例,经工艺室真空镀膜制成的铜膜,其表面附着力满足大于0.7N/mm的要求。
  • 用于电路板电池电极卷绕式铜膜真空镀膜设备
  • [发明专利]一种高真空环境下多张力连续镀膜设备张力控制系统-CN202211383861.3在审
  • 高文波;李星;姜翠宁;张灵朝 - 浙江生波智能装备有限公司
  • 2022-11-07 - 2023-01-13 - B65H23/188
  • 本发明涉及一种高真空环境下多张力连续镀膜设备张力控制系统,通过初始数据设置模块设置过程目标张力SV、以及建立电子虚轴并设定电子虚轴的转动速度V0,通过动力模块启动走膜,采用速度数据采集模块实时获取各动力辊的转动速度Vn,采用张力数据采集模块实时获取各动力辊前后的过程当前张力PV,通过张力大小比对模块实时比对过程当前张力PV与过程目标张力SV的大小,由速度校正模块的PID控制器调整电子齿轮比R,进而调整各动力辊的转动速度Vn,使各动力辊保持动态的速度变化来维持工艺过程基膜张力恒定,以保证张力稳定,采用速度控制模式控制张力,能够忽略工艺过程动力辊转动到不同的角度阻尼变化较大、阻力矩不均衡的影响。
  • 一种真空环境张力连续镀膜设备控制系统
  • [发明专利]用于电路板或电池电极的卷绕式铜膜真空镀膜方法-CN202211383881.0在审
  • 徐从高;李建华;姜翠宁;高文波;李星 - 浙江生波智能装备有限公司
  • 2022-11-07 - 2023-01-06 - C23C14/02
  • 本发明实施例公开了一种用于电路板或电池电极的卷绕式铜膜真空镀膜方法,包括:在放卷室对柔性PI基材进行一次烘烤,并将柔性PI基材放卷向前输送;在表面活化工艺室对输送而来的柔性PI基材进行二次烘烤,并通过离子源对柔性PI基材进行材料表面活化处理;在改性工艺室通过金属源注入Cu离子,使经表面活化处理的柔性PI基材表面,形成由Cu离子和PI材料表面原子或分子相结合的改性嵌入层;在弧靶离子镀膜工艺室通过弧源离子源注入Cu离子,使改性嵌入层上形成Cu过渡层;在磁控溅射镀膜工艺室通过磁控溅射源以直流溅射的方式在Cu过渡层上形成Cu功能层;在收卷室对生成Cu功能层的铜膜进行卷收处理。本发明实施例制成的铜膜,其表面附着力满足大于0.7N/mm的要求。
  • 用于电路板电池电极卷绕式铜膜真空镀膜方法
  • [实用新型]一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置-CN202123075242.1有效
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-08-30 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置,包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体送入或送出真空回转室的传送组件以及设于回转架的底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件,转动驱动件包括固设于真空回转室底部的定子和可转动地设于定子内的转子,定子与真空回转室之间设有密封件,转子与定子之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔。将镀膜生产线从中间“翻折”180°,从而将镀膜生产线的长度缩短一半,另外转动驱动件能在真空回转室外的大气环境中正常运行,在填充于磁流体密封腔内的磁流体和密封件的密封作用下可保证真空回转室不会在转动驱动件的位置处发生漏气,保证了驱动平稳性的同时保证了气密性。
  • 一种连续镀膜生产线基片架回转驱动装置
  • [实用新型]一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备-CN202123106721.5有效
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-08-30 - C23C14/56
  • 本实用新型提供一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备,包括侧部设有分别供基片架本体进入和送出的密封输入口和密封输出口的真空回转室、用于对真空回转室进行抽真空的抽气装置以及可转动地设于真空回转室内的回转驱动装置,密封输入口和密封输出口设于真空回转室的同一侧部,回转驱动装置包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体通过密封输入口送入真空回转室或通过密封输出口送出真空回转室的传送组件以及设于回转架底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件。本实用新型可将镀膜生产线从中间“翻折”180°,将镀膜生产线长度缩短一半,另外还可使基片架本体的进料和出料位于同一工位位置,进而节省工位,提高镀膜效率。
  • 一种用于连续镀膜生产线上基片架回转设备
  • [发明专利]特种工件镀膜控制系统-CN202010321985.3有效
  • 李星;钟玉盛;姜翠宁 - 广东生波尔光电技术有限公司
  • 2020-04-22 - 2022-06-17 - C23C14/54
  • 本发明实施例公开了一种特种工件镀膜控制系统,至少包括:主控制单元;90°翻转输送驱动单元,驱动90°翻转装置对工件进行90°翻转;自动抓取移载驱动单元,驱动自动抓取移载装置移动至缓冲传送工位抓取工件;180°翻转驱动单元,对移载至其上的工件进行第一次180°翻面或第二次180°翻面;自动控制系统,控制四工位平移升降装置;真空镀膜控制系统,控制真空镀膜设备对工件进行镀膜。本发明实施例,通过本控制系统,至少可将90°翻转装置、自动抓取移载装置、180°翻转装置、四工位平移升降装置、真空镀膜设备按镀膜工序全自动控制起来,实现工件镀膜全自动化处理,自动化程度高。
  • 特种工件镀膜控制系统
  • [实用新型]具有双向传输及吸附贴片功能的真空吸附装置-CN202122559819.X有效
  • 李茂;姜翠宁 - 浙江生波智能装备有限公司
  • 2021-10-22 - 2022-06-14 - B65G47/66
  • 本实用新型属于自动化运输设备的技术领域,尤其涉及具有双向传输及吸附贴片功能的真空吸附装置。机架;吸附机构,包括设于机架上的吸附平台;第一运输线,包括设于所述机架上的第一升降架、设于所述机架上且位于吸附平台相对两侧上的X向运输组件,所述X向运输组件上端面为X向运输平面,所述第一升降架用以带动X向运输组件上下升降以使X向运输平面高于或低于所述吸附平台的上端面;第二运输线,包括设于所述机架上的第二升降架、设于所述机架上且位于吸附平台另外两侧上的Y向运输组件。实现自动对接运载以及换向运载,从而解决了现有吸附平台黏合产品后需要重新搬运的问题,大大提升效率。
  • 具有双向传输吸附功能真空装置
  • [实用新型]一种新型自动分离装置-CN202122638297.2有效
  • 李茂;姜翠宁 - 浙江生波智能装备有限公司
  • 2021-10-29 - 2022-06-14 - B65G47/34
  • 本实用新型属于自动化运输设备的技术领域,尤其涉及一种新型自动分离装置。包括机架、传输机构、分离机构,分离机构包括设于所述机架上的顶升吸附组件、顶升分离组件,通过在镀膜自动化线上增加可与自动化线对接的传输机构,且利用分离机构,将载板玻璃吸附固定的同时,利用顶升分离组件配合载板玻璃原有的吸附孔,使顶升分离组件可从载板玻璃背面穿过并将粘附在载板玻璃上的产品吸附并顶起,起到自动分离的作用,有利于提高效率。
  • 一种新型自动分离装置
  • [发明专利]一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置-CN202111490062.1在审
  • 高文波;李小彭;彭友前;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-12-08 - 2022-05-03 - C23C14/56
  • 本发明提供一种连续镀膜生产线用的基片架回转驱动装置,包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体送入或送出真空回转室的传送组件以及设于回转架的底部且用于驱动回转架转动180°的转动驱动件,转动驱动件包括固设于真空回转室底部的定子和可转动地设于定子内的转子,定子与真空回转室之间设有密封件,转子与定子之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔。将镀膜生产线从中间“翻折”180°,从而将镀膜生产线的长度缩短一半,另外转动驱动件能在真空回转室外的大气环境中正常运行,在填充于磁流体密封腔内的磁流体和密封件的密封作用下可保证真空回转室不会在转动驱动件的位置处发生漏气,保证了驱动平稳性的同时保证了气密性。
  • 一种连续镀膜生产线基片架回转驱动装置
  • [发明专利]特种工件辅助镀膜的自动控制生产线-CN202010322695.0有效
  • 徐从高;姜翠宁 - 广东生波尔光电技术有限公司
  • 2020-04-22 - 2022-05-03 - C23C14/56
  • 本发明实施例公开了一种特种工件辅助镀膜的自动控制生产线,至少包括由前向后延伸的下平台、及设于下平台上的四工位平移升降装置;在第一反向接料状态,四工位平移升降装置沿下平台向前移动至与真空镀膜设备相对的位置,上层传动平台先后反向传动,以反向接收从真空镀膜设备的工艺室先后反向输出的放置于基片架上的两待静放工件;下层传动平台向上升起后先后反向传动,以反向接收从真空镀膜设备的静放室先后反向输出的放置于第二基片架上的两待翻转工件。本发明实施例,通过辅助镀膜的自动控制生产线,至少可以与真空镀膜设备实现自动化无缝对接,从而可一次自动接收四个工件,有利于实现工件镀膜全自动化处理,自动化程度高。
  • 特种工件辅助镀膜自动控制生产线
  • [实用新型]一种用于真空镀膜的雾化装置-CN202122495702.X有效
  • 李小彭;姜翠宁 - 洛阳生波尔真空装备有限公司
  • 2021-10-15 - 2022-05-03 - B05B17/06
  • 本实用新型提供一种用于真空镀膜的雾化装置,包括壳体和设于壳体内的雾化器本体,雾化器本体的两端分别设有通液接口和雾化喷头,通液接口用于通入供雾化器本体进行雾化的液态有机镀膜材料,雾化器本体上设有用于增压的增压接头。本发明先对液态有机镀膜材料的雾化,而后可以再对雾化后液态有机镀膜材料进行汽化,汽化后的有机镀膜材料可均匀地附着并涂覆于基材的表面上,成膜的过程在真空环境下完成,其适用范围广,可以获得较薄的镀膜层,也可以满足厚膜的需要,其均匀性容易控制,效率高,并且可以获得均匀性高和更高膜层性能的薄膜。
  • 一种用于真空镀膜雾化装置

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