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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]具有部分反射器的波导-CN201880100631.7有效
发明人：迟万里;马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇;奥斯汀·莱恩;卡沃斯·乔拉基 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2018-11-16 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：提供了一种波导，例如图像复制波导。波导包括具有两个外表面的基板，用于通过从外表面反射光束，来在基板中传播图像光的光束。衍射光栅由基板支撑，并被配置用于衍射入射光束。部分反射器设置在基板中，在第一表面和第二表面之间并且平行于第一表面和第二表面。部分反射器被配置用于分离入射光束，增加波导中光束部分的数量，从而提高输出光瞳密度。
具有部分反射波导

[发明专利]用于体布拉格光栅的取代单苯核和多苯核单体及其聚合物-CN202180076956.8在审
发明人：莱夫·约瑟夫·普尔维斯二世;奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔本 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： C07C271/28 文献下载
摘要：本公开提供了记录材料，该记录材料包括用于体布拉格光栅(包括但不限于，用于全息应用的体布拉格光栅)的单苯核或多苯核衍生单体和聚合物。公开了用于布拉格光栅应用的单苯核或多苯核衍生单体和聚合物的几种结构，形成具有较高折射率、低双折射率和高透明度的材料。所公开的单苯核或多苯核衍生单体及其聚合物可以用于任何体布拉格光栅材料，包括在第一步骤中固化基质、然后通过单体的第二固化步骤写入体布拉格光栅两级聚合物材料。
用于布拉格光栅取代单苯核多苯核单体及其聚合物

[发明专利]化学扩散处理的体全息图及其制作方法-CN202180077290.8在审
发明人： 奥斯汀·莱恩;马文·迪翁·阿里姆;杨阳;珍妮·阿什利·麦克尼尔 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：一种用于制造光学光栅的方法，该光学光栅沿基本上与由光学光栅所限定的平面垂直的方向具有非均匀的折射率分布，该方法包括：在第一材料转移层(304)和第二材料转移层(306)之间放置具有第一表面和与所述第一表面相反的第二表面的光聚合材料层(302)，使得光聚合材料层的第一表面与第一材料转移层接触，并且光聚合材料层的第二表面与第二材料转移层接触，以允许通过扩散在光聚合材料层、与第一材料转移层和第二材料转移层之间进行材料转移。扩散的材料可以是来自光聚合物的光抑制剂或未反应的单体，或来自转移层的光抑制剂或高折射率材料。
化学扩散处理全息图及其制作方法

[发明专利]用于体布拉格光栅的取代丙烷核单体及其聚合物-CN202180076955.3在审
发明人： 奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔本;莱夫·约瑟夫·普尔维斯二世 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2021-11-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C07C271/16 文献下载
摘要：本公开提供了包括用于体布拉格光栅的丙烷衍生单体和聚合物的记录材料，该体布拉格光栅包括但不限于用于全息应用的体布拉格光栅。公开了用于布拉格光栅应用的丙烷衍生单体和聚合物的几种结构，其导致材料具有较高折射率、低双折射率和高透明度。所公开的丙烷衍生单体及其聚合物可以用于任何体布拉格光栅材料，包括两级聚合物材料，该两级聚合物材料在第一步骤中固化基质，然后通过单体的第二固化步骤写入体布拉格光栅。
用于布拉格光栅取代丙烷单体及其聚合物

[发明专利]光活化的受控自由基聚合-CN202080033922.6有效
发明人：马修·科尔伯恩;奥斯汀·莱恩 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2020-05-04 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G11B7/245 文献下载
摘要：本文公开的技术涉及全息光学材料和元件。全息记录材料的实例包括通过第一折射率表征并被配置成聚合以形成聚合物基质的基质单体、分散在基质单体中并通过不同于第一折射率的第二折射率表征的写入单体、以及用于写入单体的受控自由基聚合的光催化剂。写入单体被配置成在暴露于记录光时聚合。光催化剂被分散在基质单体中。光催化剂包括例如过渡金属光催化剂或无金属的有机光催化剂，诸如用于原子转移自由基聚合的光催化剂或用于加成断裂链转移聚合的过渡金属光催化剂。
活化受控自由基聚合

[发明专利]体光栅中的折射率廓线的变迹-CN202180071000.9在审
发明人：珍妮·阿什利·麦克尼尔;马文·迪翁·阿里姆;奥斯汀·莱恩;杨洋;卡沃斯·约拉布奇 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G02B27/01 文献下载
摘要：可以通过将光聚合物层曝光于光栅形成光以在光聚合物层中形成周期性折射率变化来制造光栅耦合器。光聚合物层可以曝光于变迹光，从而以空间选择性方式减小周期性折射率变化的幅度。也可以通过使光聚合物层的(一个或多个)外表面经受化学反应剂来实现或促进变迹，该化学反应剂使得在应用的(一个或多个)表面附近的折射率对比度减小。光栅的变迹折射率廓线有助于降低光栅耦合器的不同光栅之间的光学串扰。
光栅中的折射率

[发明专利]使用灰色调光刻制造可变蚀刻深度光栅的技术-CN202180064054.2在审
发明人：艾略特·弗兰克;尼哈·兰詹·莫汉蒂;奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔本;安吉特·沃拉 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2021-08-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种制备具有可变光栅深度的光栅的方法包括：在衬底上沉积具有均匀厚度轮廓的第一光栅材料层；在第一光栅材料层上形成具有可变厚度轮廓的蚀刻掩模层；对蚀刻掩模层和第一光栅材料层进行蚀刻，以将第一光栅材料层的均匀厚度轮廓改变为非均匀厚度轮廓；在第一光栅材料层上形成图案化的硬掩模；以及使用图案化的硬掩模对第一光栅材料层进行蚀刻，以在第一光栅材料层中形成具有可变深度的光栅。
使用色调光刻制造可变蚀刻深度光栅技术

[发明专利]用于监控光栅形成的系统-CN201980051600.1有效
发明人：马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇;卡沃斯·乔拉基;奥斯汀·莱恩 -专利权人：元平台技术有限公司
申请日： 2019-08-05 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：监控系统监控在包括一时间段的时间间隔内光栅的折射率的变化。监控系统包括光源组件、探测组件、功率计(例如衍射和/或透射功率计)和控制器。光源组件发射探测光束。扫描组件在光栅的区域上扫描探测光束。功率计测量与光栅的区域相互作用(例如被透射或衍射)的探测光束的一部分的功率。控制器部分地基于在时间间隔内的测量的功率读数来确定正在形成的光栅的光栅参数的变化(可以是时间的函数)。
用于监控光栅形成系统

[发明专利]全息光栅中的折射率调制修改-CN202080056315.1在审
发明人：马蒂厄·查尔斯·拉乌尔·莱博维奇;奥斯汀·莱恩;迟万里;李熙允 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本文公开的技术涉及修改全息光学元件(诸如全息光栅)中的折射率调制。根据某些实施例，全息光学元件或变迹光栅包括聚合物层，该聚合物层包括以第一折射率为特征的第一区域和以第二折射率为特征的第二区域。全息光学元件或变迹光栅包括分散在聚合物层中的多个纳米粒子。纳米粒子在第一区域或第二区域中具有较高的浓度。在一些实施例中，纳米粒子可以被配置为提高折射率调制。在一些实施例中，纳米粒子可以被配置为通过降低光栅侧面附近的折射率调制来使光栅变迹。可以在全息图制造之前或之后，通过将单体储存缓冲层施加到聚合物层来调制折射率。
全息光栅中的折射率调制修改

[发明专利]具有不同功能的树脂的空间沉积-CN202080033375.1在审
发明人： 奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G03H1/02 文献下载
摘要：本文公开的技术涉及光学装置。具有不同光学性质的树脂可以沉积在不同区域中以提供增加的光学功能。难以设计出满足若干技术要求的单一光聚合物材料。不同树脂可以沉积在相同基底上以制备具有空间上变化的性质的单一膜。不同树脂还可以被施加至堆叠中的不同基底。通过使用不同的树脂，可以制造满足若干技术要求的光学部件。
具有不同功能树脂空间沉积

[发明专利]具有不同衍射功能的树脂在不同基底上的空间沉积-CN202080033432.6在审
发明人： 奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-07 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G03H1/02 文献下载
摘要：本文公开的技术涉及衍射光学装置(430、440、1104)。难以设计出满足若干技术要求(例如，高动态范围、低的吸收和雾度、良好的分辨率、跨越可见光谱的灵敏度等)的单一光聚合物材料。为了解决这个问题，具有不同光学性质的不同树脂(1110、1120、1130)被施加至堆叠(1104)中的不同基底(1112、1122、1132)。通过使用不同的树脂，可以制造满足扩展的技术要求的光学部件。
具有不同衍射功能树脂基底空间沉积

[发明专利]用于体布拉格光栅的芴衍生的单体和聚合物-CN202080033443.4在审
发明人： 奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩;莱夫·普尔维斯 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-05 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： C07C271/16 文献下载
摘要：本公开内容提供了用于体布拉格光栅的包括芴衍生的单体和聚合物的记录材料，所述体布拉格光栅包括但不限于用于全息术应用的体布拉格光栅。公开了若干种芴结构：简单取代的芴、cardo芴和螺芴。芴衍生的聚合物在布拉格光栅应用中导致材料具有较高的折射率、低的双折射率和高透明度。芴衍生的单体/聚合物可以用于任何体布拉格光栅材料，包括两级聚合物材料，其中在第一步骤中固化基质，并且然后通过单体的第二固化步骤写入体布拉格光栅。
用于布拉格光栅衍生单体聚合物

[发明专利]用于体布拉格光栅的噻蒽衍生的单体和聚合物-CN202080031926.0在审
发明人： 奥斯汀·莱恩;马修·E·科尔布恩;莱夫·普尔维斯 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-05 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C07D339/08 文献下载
摘要：本公开内容提供了用于体布拉格光栅的噻蒽衍生的单体和聚合物，所述体布拉格光栅包括但不限于用于全息术应用的体布拉格光栅。描述了若干种噻蒽结构，包括被卤素、含硫基团、苯基基团、至少一个可聚合基团等取代的结构。噻蒽衍生的聚合物在布拉格光栅应用中导致材料具有较高的折射率、低的双折射率和较少的固态堆积。噻蒽衍生的单体/聚合物可以用于任何体布拉格光栅材料，包括两级聚合物材料，其中在第一步骤中固化基质，并且然后通过单体的第二固化步骤写入体布拉格光栅。
用于布拉格光栅衍生单体聚合物

[发明专利]用于体布拉格光栅的潜像-CN202080031878.5在审
发明人：马修·E·科尔布恩;奥斯汀·莱恩 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-05 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C08F283/00 文献下载
摘要：本公开内容提供了用于体布拉格光栅的潜像聚合物的特定的引发剂/介质化学。包括氮氧化物的使用的光介导化学允许第一步成像发生，其中光诱导的图案以材料记录，而光栅不明显。第二漂白/显影步骤完成固化过程并露出光栅。
用于布拉格光栅

[发明专利]用于体布拉格光栅的热可逆和可重组的交联聚合物-CN202080030522.X在审
发明人：马修·E·科尔布恩;奥斯汀·莱恩 -专利权人：脸谱科技有限责任公司
申请日： 2020-05-05 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： C08G18/80 文献下载
摘要：本公开内容提供了用于体布拉格光栅的热可逆和可重组的聚合物。这些聚合物可以用于任何体布拉格光栅材料，但是它们在两级聚合物材料中特别有用，其中在第一步中固化基质，并且然后通过单体的第二固化步骤写入体布拉格光栅。可重组的聚合物是基质的一部分，并且当施加热时，特定的交联键断裂，允许材料松弛，并且允许用于第二写入步骤的更多单体进入基质。当热被移除时，交联键重新形成，但是具有不同的、重组的结合配偶体。
用于布拉格光栅可逆重组交联聚合物

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