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[发明专利]成膜控制装置、成膜装置以及成膜方法-CN202280005853.7在审
发明人： 大泷芳幸;松平学幸;山口刚;宫内充祐 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2022-02-04 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：成膜控制装置具有：光源(42)，其对配置于旋转体(25)的基板(S)照射光；受光部(46)，对于从所述光源照射的光，该受光部接收透过形成在所述基板上的薄膜的层的透过光或者被形成在所述基板上的薄膜的层反射的反射光；位置信息取得部(48)，其取得与所述旋转体的圆周方向的位置对应的位置信息；以及控制部(4)，其对成膜条件进行控制，所述控制部包含：时机控制部，其根据由所述位置信息取得部取得的所述旋转体的圆周方向的位置信息来确定作为目标的基板的位置，对接收从所述光源向该确定的位置的基板照射的光的透过光或者反射光的时机进行控制；膜厚判定部，其根据由所述受光部接收到的透过光或者反射光，计算由多个层构成的薄膜的各层的膜厚，判定所述各层的膜厚与构成具有期望的分光特性的薄膜的各层的目标膜厚的膜厚差；以及成膜条件设定部，其在所述各层的膜厚相对于所述目标膜厚存在规定值以上的膜厚差的情况下，对针对该层的成膜条件进行校正以使得存在该膜厚差的层的膜厚成为该层的目标膜厚，然后设定所述成膜条件。
控制装置以及方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202080064503.9在审
发明人：室谷裕志;宫内充祐;大泷芳幸;长谷川友和;松平学幸 -专利权人：学校法人东海大学;株式会社新柯隆
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变所述蒸镀材料的组成的气体，将成膜室(2a)的内部的包含基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将成膜室(2a)的内部的包含蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在基板(S)上，并且在第1区域(A)中向基板(S)照射离子。
方法装置

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202080064516.6在审
发明人：室谷裕志;宫内充祐;大泷芳幸;长谷川友和;松平学幸 -专利权人：学校法人东海大学;株式会社新柯隆
申请日： 2020-10-09 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：在成膜室(2a)的内部至少设置蒸镀材料和基板(S)，通过排气和/或提供不改变蒸镀材料的组成的气体，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述基板(S)的第1区域(A)设定为0.05Pa～100Pa的气氛，将所述成膜室(2a)的内部的包含所述蒸镀材料的第2区域(B)设定为0.05Pa以下的气氛，在上述的状态下，通过真空蒸镀法，在第2区域(B)中使蒸镀材料蒸发，在第1区域(A)中将蒸发出的蒸镀材料成膜在被蒸镀物上。
方法装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201710229298.7有效
发明人：长江亦周;宫内充祐;大泷芳幸;重田勇辉;佐守真悟 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2017-04-10 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开一种成膜装置及成膜方法，其用于形成薄膜，所述成膜装置包括：真空腔室；排气机构，其与所述真空腔室相通以进行排气；基板保持机构，其用于将基板保持在所述真空腔室内；成膜机构，其设置于所述真空腔室内；导入机构，其与所述真空腔室相连通；所述导入机构能够在所述成膜机构的成膜过程中向所述真空腔室内导入含羟基气体。
装置方法

[发明专利]LED光源装置、膜厚测量装置以及薄膜形成装置-CN201280069673.1有效
发明人：佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;宫内充祐;长江亦周 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2012-02-27 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：提供能够增大光量变化量的膜厚测量用的LED光源装置(30)。LED光源装置(30)配置有：多个LED发光源(34～36)；多个准直构件(342、352、362)，它们配置于各发光源的下游侧，并使来自各发光源的入射光分别准直地射出；多个第1滤光构件(37、38)，它们配置于各准直构件的下游侧，并仅使入射光中的特定波长区域以上的光透射和/或反射，或者仅使特定波长区域以下的光透射和/或反射而射出；以及聚光构件(39)，其配置于第1滤光构件(38)的更下游侧，并使来自各第1滤光构件的入射光会而射出，并且，在各准直构件(342、352、362)的下游侧且在各第1滤光构件(37、38)的上流侧，配置有仅使来自各准直构件的入射光中的特定范围的波长透射而射出的第2滤光构件(344、354、364)。
滤光构件准直构件入射光射出配置波长区域发光源光透射反射薄膜形成装置膜厚测量装置光量变化聚光构件膜厚测量波长透射准直

[发明专利]膜厚测量装置和成膜装置-CN201280073820.2有效
发明人：佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;姜友松 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2012-06-13 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：提供能够高精度地测量光学膜厚的膜厚测量装置。膜厚测量装置(6)具备通过照射侧光纤(f1)向监视基板(Sm)照射光的投光器(11)、通过受光侧光纤(f2)接收从投光器(11)照射后由监视基板(Sm)反射的光的受光装置(22)、和捆扎多个照射侧光纤(f1)和多个受光侧光纤(f2)而形成的光学传感器用探头(13)，其中，在光学传感器用探头(13)的与监视基板(Sm)对置的末端面上分别配置有多个照射侧光纤(f1)的端面和多个受光侧光纤(f2)的端面，照射侧光纤(f1)的各个端面以与受光侧光纤(f2)的端面相邻的状态呈圆弧状或圆环状排列，并且，受光侧光纤(f2)的各个端面以与照射侧光纤(f1)的各个端面相邻的状态呈圆弧状或圆环状排列。
测量装置

[发明专利]测量装置和成膜装置-CN201280073844.8有效
发明人：佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;姜友松 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2012-09-10 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：提供一种能够实现更高速的测量并能够获得更高精度的测量结果的装置，来作为对薄膜的光学特性值和光学膜厚值中的至少一个值进行测量的测量装置。对形成于监视基板(Sm)的薄膜的包括光学特性值和光学膜厚值中的至少一方的值进行测量的测量装置(101)具备光信号产生机构(10)，其将多个LED单元(11a～11f)利用光学滤光镜所生成的单色光调制成对于每个光源单元互不相同的设定频率，并发出多个光信号；照射机构(20)，其对该多个光信号进行复用而生成复用信号，并通过光纤将复用信号向监视基板(Sm)照射；检测机构(30)，其通过光纤检测由监视基板(Sm)反射的复用信号并输出电信号；信号分离机构(50)，其对检测机构(30)所输出的电信号实施带通滤波器的滤波处理，从该电信号中将每个设定频率的成分信号分离出来；以及计算机构(80)，其基于分离出来的每个设定频率的成分信号，按照每个设定频率计算出成分信号所表示的光学特性值，该测量装置同时测量多个所述光学特性值。
测量装置

[发明专利]光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置-CN201080029355.3有效
发明人：佐井旭阳;日向阳平;大泷芳幸;姜友松 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2010-06-29 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供能够高精度地计测光学膜厚和分光特性的光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置。光学式膜厚计由投光器(11)、反射镜(17)、受光器(19)和分光器(20)构成，具有反射镜(17)，该反射镜(17)相对于测定光的入射方向位于实际基板(S)的相反侧，且反射面被配置成与测定光的光轴大致垂直。另外，实际基板(S)被配置成相对于测定光的光轴具有规定的倾斜角度(α)。测定光(出射光和反射光)2次透过实际基板(S)，能够增大透过率(光量)的变化量，能够提高膜厚测定的控制精度。另外，能够防止因透过位置的不同而产生测定误差，另外，在受光器(19)侧不会检测到未通过规定路径而2次透过测定基板的测定光，所以能够高精度地计测光学膜厚和分光特性。
光学式膜厚计以及具有薄膜形成装置

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