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[发明专利]磁传感器-CN202280015332.X在审
发明人： 大川秀一 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G01R33/02 文献下载
摘要：[技术问题]提供一种能够高灵敏度地检测由微弱的电流产生的测量对象磁场的磁传感器。[解决手段]磁传感器(1)具备：传感器芯片(10)，具有：经由磁隙(G1)磁耦合的磁性体层(21、22)；和配置在由磁隙(G1)形成的磁路上的磁敏元件(31)；外部磁性体(41)，与磁性体层(21)磁耦合；和测量电流线圈(C1)，卷绕于外部磁性体(41)，供生成测量对象磁场的电流(I)流过。这样，由于将磁敏元件(31)和磁性体层(21、22)集成于传感器芯片(10)，因此能够将磁隙(G1)设计得非常窄，并且能够将漏磁场的大部分施加于磁敏元件(31)。由此，即使流过测量电流线圈(C1)的电流(I)微弱，也能够高灵敏度地检测由电流(I)产生的磁场。
传感器

[发明专利]生物磁测量装置-CN201780032459.1有效
发明人：川端茂德;涩谷朝彦;大川秀一 -专利权人：国立大学法人东京医科齿科大学;TDK株式会社
申请日： 2017-06-02 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： A61B5/05 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够根据测量对象将磁传感器配置在最适合的位置的生物磁测量装置。本发明的生物磁测量装置(1)具有检测生物磁的多个磁传感器(11)、和形成有以与生物相向的方式可拆装地保持多个磁传感器(11)的框(13)的保持部(12)。此外，本发明的生物磁测量装置(1)具有检测生物磁的多个磁传感器(11)、和形成有以与生物相向的方式可移动地保持多个磁传感器(11)的轨道(16)的保持部(12)。
生物测量装置

[发明专利]肌肉活动测定装置及肌肉活动测定方法-CN201780034727.3有效
发明人：川端茂德;大川秀一;牛尾修太 -专利权人：国立大学法人东京医科齿科大学;TDK株式会社
申请日： 2017-06-06 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： A61B5/05 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种能够更高精度地测定感测对象的肌肉活动的肌肉活动测定装置以及肌肉活动测定方法。本发明的肌肉活动测定装置(1)具有：磁传感器部(11)，其感测由生物体产生的磁场；识别单元，其识别肌肉活动测定装置(1)的设置方向。识别单元具有用于以磁传感器部(11)的磁敏方向(X)与成为感测对象的生物体的肌肉纤维的延伸方向大致正交的方式设置肌肉活动测定装置(1)的识别信息即容纳体(20)表面的标识(24)。
肌肉活动测定装置方法

[发明专利]磁传感器-CN201780032067.5有效
发明人：潮田健太郎;龟野诚;林承彬;大川秀一 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2017-05-22 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： G01R33/09 文献下载
摘要：[技术问题]提高将四个磁敏元件桥接而成的磁传感器的检测精度。[解决方案]具备设置于传感器基板(20)的表面的磁性体层(41～43)和桥接的磁敏元件(R1～R4)。磁性体层(41)包含主区域(M1)和随着远离主区域(M1)而宽度变窄的收敛区域(S1)，磁性体层(42)包含主区域(M2)和随着远离主区域(M2)而宽度变窄的收敛区域(S5、S7)，磁性体层(43)包含主区域(M3)和随着远离主区域(M3)而宽度变窄的收敛区域(S6、S8)。收敛区域(S1～S4)的端部和收敛区域(S5～S8)的端部分别隔着间隙(G1～G4)而相对，磁敏元件(R1～R4)分别配置于由间隙(G1～G4)形成的磁路上。根据本发明，因为由在各磁敏元件中流通的电流而产生的磁通不对其它磁敏元件带来影响，所以检测精度得到了提高。
传感器

[发明专利]生物磁测量装置-CN201580042153.5在审
发明人：川端茂德;角谷智;大川秀一 -专利权人：国立大学法人东京医科齿科大学;TDK株式会社
申请日： 2015-08-05 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： A61B5/05 文献下载
摘要：本发明提供一种能够正确地对病患部位进行诊断，并且可简便、轻松地利用的生物磁测量装置。本发明的生物磁测量装置(1)的一个实施方式具有管体(10)；膨胀部(11)，其位于管体(10)的所需的区域，通过气体的供给能够膨胀；以及磁传感器部(13)，其固定在膨胀部(11)的内壁，对来自管体(10)外的磁场进行检测。优选管体(10)和膨胀部(11)由相同材料构成，膨胀部(11)的壁厚比管体(10)的壁厚薄。
生物测量装置

[发明专利]透析槽用紧固件-CN201280052301.8有效
发明人：松村幸夫;大川秀一;结城忠雄;大岛和巳;信田浩二;大泽太护;喜多村和男 -专利权人： AGC工程株式会社
申请日： 2012-10-26 - 公布日： 2014-07-02 - 主分类号： B01D61/50 文献下载
摘要：本发明提供一种制作容易、且品质良好稳定、价格也便宜、轻量、操作优异的透析槽用紧固件。该透析槽用紧固件被使用在透析槽中，该透析槽包括：室框、交换膜，该室框、交换膜形成脱盐室和/或浓缩室；以及电极框，该电极框将该室框及交换膜夹持于内侧，其特征是，所述透析槽用紧固件包括：保持部件，该保持部件具有供被处理液流过所述脱盐室、浓缩室的入口及出口；紧固部，该紧固部以规定的紧固压力对该保持部件进行紧固；以及格子状结构体，该格子状结构体与所述电极框抵接或隔着规定的板状部件与所述电极框抵接，并利用所述紧固部的紧固通过该抵接部分对所述电极框、室框及交换膜进行紧固，该格子的间距宽度为10mm以上50mm以下。
透析紧固

[发明专利]透析槽用室框的制造方法-CN201280052331.9无效
发明人：松村幸夫;大川秀一;结城忠雄;大岛和巳;信田浩二;大泽太护;喜多村和男 -专利权人： AGC工程株式会社
申请日： 2012-10-26 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： B01D61/46 文献下载
摘要：提供一种制作容易、品质稳定、价格低廉且密封性及耐热性优异的透析槽用室框的制造方法。将裁截后的框架(1)设置于脉冲焊接机(30)的未图示的台座上，将分配器(13)与连通口(9)及连通口(11)嵌合，并且，以覆盖中央开口(3)的方式配置网状物(15)。接着，对焊接部(A、B)及焊接部(C、D)进行脉冲焊接。此外，以一次的冲压操作同时进行作为隔板的网状物(15)及分配器(13)的安装。然后，去除焊接部的毛刺，并对缺陷部进行修正。
透析槽用室框制造方法

[发明专利]透析槽用室框的制造方法-CN201310330346.3无效
发明人：松村幸夫;大川秀一;结城忠雄;大岛和巳 -专利权人： AGC工程株式会社
申请日： 2013-07-31 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： C09J5/06 文献下载
摘要：本发明涉及透析槽用室框的制造方法。本发明提供能够以低成本容易地制作且密封性、耐热性优异的透析槽用室框的制造方法。在台座(7)上配置EPM、EPDM等乙丙橡胶制、形成室框(10)的垫片(1)的冲切成框架状的交联橡胶片材，并在开口(3)的内侧配置成为流路部的间隔物的聚烯烃制的网(15)。然后，作为将垫片(1)和网(15)接合的接合剂，在网(15)上以带状配置未交联橡胶(21)后，通过热压，使垫片(1)和网(15)一体化。
透析槽用室框制造方法

[发明专利]磁记录介质的制造方法-CN200710005172.8无效
发明人：诹访孝裕;服部一博;大川秀一 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2007-02-15 - 公布日： 2007-08-29 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种磁记录介质的制造方法，能够制造具有凹凸图案的记录层、表面充分平坦、记录/再现特性良好的磁记录介质。在具有形成有记录要素作为凹凸图案的凸部的记录层的被加工体之上，使第一填充材料成膜而覆盖记录要素，并且填充凹部的至少一部分，在第一填充材料之上使被检测材料成膜，在被检测材料之上使第二填充材料成膜，对被加工体的表面照射加工用气体，来除去第一填充材料、被检测材料以及第二填充材料中在记录要素上表面的上侧所成膜的部分中的至少一部分，从而将表面平坦化，在平坦化工序中，检测出从被加工体被除去而飞散的被检测材料的成分，基于该被检测材料的成分的检测结果而停止加工用气体的照射。
记录介质制造方法

[发明专利]图案描绘方法、压模制造方法及图案描绘装置-CN200610108516.3无效
发明人：中田胜之;服部一博;大川秀一 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2006-07-25 - 公布日： 2007-01-31 - 主分类号： G11B5/82 文献下载
摘要：本发明提供一种能描绘图案的图案描绘方法，该图案描绘方法使得形成区域中的内圆周一侧及外圆周一侧的两端成直线。在一边使表面形成树脂层的基材沿箭头R的方向旋转，一边将构成凹凸图案的凸部及凹部中一方的平面图案描绘在树脂层上时，在应该形成一方的形成区域(A0)上的从沿基材的旋转方向的带状曝光区域(A1)的旋转方向的一端部侧至另一端部侧之间，间歇地两次(N次)照射描绘用电子束，通过这样对沿旋转方向的两个带状照射区域(A1a、A1b)，照射描绘用电子束。
图案描绘方法制造装置

[发明专利]磁记录介质、磁记录再现装置及磁记录介质的制造方法-CN200610093226.6无效
发明人：诹访孝裕;服部一博;大川秀一 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2006-06-23 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： G11B5/82 文献下载
摘要：本发明提供一种磁记录介质以及具有这种磁记录介质的磁记录再现装置，所述磁记录介质的记录层以规定的图案形成，记录要素作为凹凸图案的凸部而形成，该磁记录介质的面记录密度高且难以产生磁头的碰撞，可靠性高。磁记录介质(12)包括记录要素(25)，其作为在基板之上以规定的凹凸图案形成的记录层(24)的凸部而形成；填充材料(28)，其填充到记录要素(25)之间的凹部(26)，表面(32)中的填充材料(28)之上的表面粗糙度大于记录要素(25)之上的部分的表面粗糙度。
记录介质再现装置制造方法

[发明专利]凹凸图案形成方法、母盘、压模及磁记录介质的制造方法-CN200610088681.7无效
发明人： 大川秀一;中田胜之;服部一博;高井充 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2006-06-02 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以高精度形成相当于伺服信息的、微细且复杂的凹凸图案的凹凸图案形成方法以及利用该方法的磁记录介质的制造方法。在该凹凸图案形成方法中，将形成在树脂层支承材料上的树脂层(52)加工成不正规凹凸图案，并基于该树脂层(52)而对记录层(树脂层支承材料)进行蚀刻，从而将该记录层加工成使上述不正规凹凸图案接近上述基本凹凸图案的凹凸图案，其中，上述不正规凹凸图案是，相对规定的基本凹凸图案，在该基本凹凸图案的部分凹部上形成分割用凸部(52A)，而使该基本凹凸图案的至少一部分凹部分割了的凹凸图案。
凹凸图案形成方法母盘记录介质制造

[发明专利]磁记录介质及其制造方法、磁记录再现装置、压模及其制造方法-CN200610084244.8无效
发明人： 大川秀一;中田胜之;服部一博;高井充 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2006-05-30 - 公布日： 2006-12-06 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供记录层以凹凸图案形成且生产效率高的磁记录介质、具有该磁记录介质的磁记录再现装置、用于制造该磁记录介质的压模、该压模的制造方法以及磁记录介质的制造方法。记录层(22)的伺服区域部分的一部分，相对基本的伺服凹凸图案，以将该基本伺服凹凸图案的凹部以及凸部中的任意一方的至少一部分沿径向(Dr)分割而成的不正规伺服凹凸图案来形成，而且，在上述基本的伺服凹凸图案中，用于记录0以及1的信息中的任意一方的方格状区域为构成凹部的凹部单位区域(CU)、且用于记录另一方信息的方格状区域为构成凸部的凸部单位区域(PU)。
记录介质及其制造方法再现装置

[发明专利]磁记录介质及磁记录再现装置-CN200610005488.2无效
发明人： 大川秀一;高井充;岛川和也 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2006-01-16 - 公布日： 2006-08-30 - 主分类号： G11B5/62 文献下载
摘要：本发明提供一种可靠性高的磁记录介质，其具有以凸部形成记录要素的记录层以及被填充在记录要素之间的凹部中的填充物，即使与磁头接触表面也很难受到损伤，从而可以确实的获得良好的记录、再现特性。磁记录介质(12)包括：在基板(22)上以规定的凹凸图案形成并且以该凹凸图案的凸部形成记录要素(24A)的记录层(24)；和被填充在记录要素(24A)之间的凹部(26)中的填充物(28)，填充物(28)实质上是由Si以及O构成的，且O原子数相对于Si原子数的比率大于等于1.5且小于2。
记录介质再现装置

[发明专利]磁记录介质和磁记录再生装置-CN200510099494.4无效
发明人：诹访孝裕;服部一博;大川秀一 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2005-09-06 - 公布日： 2006-08-09 - 主分类号： G11B5/82 文献下载
摘要：提供记录层以规定的凹凸图形形成，记录要素作为凹凸图形的凸部形成且使面记录密度高和磁头的碰撞不容易发生而可靠性高的磁记录介质、和装备这样的磁记录介质的磁记录再生装置。磁记录介质(12)包括：作为在基板(22)上以规定的凹凸图形形成的记录层(24)的凸部形成的记录要素(24A)的记录层(24)、和充填在记录要素(24)之间的凹部(26)上的充填要素(28)；在上述记录要素(24A)的上表面(32)上形成有与其下方的记录要素24的宽度方向的中央部相当的部分在基板(22)侧凹下得最深，且使宽度在离开基板(22)的方向上单调增加的剖面形状的表面凹部(30)。
记录介质再生装置

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