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[发明专利]磁记录媒体的制造方法-CN200410089611.4无效
发明人：诹访孝裕;高井充;服部一博;大川秀一 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2004-10-28 - 公布日： 2005-05-04 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种磁记录媒体的制造方法，能够确实高效率地制造具有表面充分平坦且记录·再现精度高的凹凸图案的记录层的磁记录媒体。包括在凹凸图案的记录层(32)上形成封顶膜(42)的封顶膜形成工序；在封顶膜(42)上形成下侧非磁性膜(36A)的下侧非磁性膜形成工序；在下侧非磁性膜(36A)上形成上侧非磁性膜(36B)的上侧非磁性膜形成工序，至少在上侧非磁性膜形成工序中对被加工体施加偏置功率，而且，在下侧非磁性膜形成工序中不施加偏置功率，或者相比于上侧非磁性膜形成工序将偏置功率抑制得小，将非磁性材料(36)填充到凹凸图案的凹部(34)内。
记录媒体制造方法

[发明专利]磁记录媒体的制造方法-CN200410064475.3无效
发明人：诹访孝裕;高井充;服部一博;大川秀一 -专利权人： TDK股份有限公司
申请日： 2004-08-27 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种磁记录媒体的制造方法，其能够有效可靠地制造具有形成了规定的凹凸图案的记录层且表面充分平坦的磁记录媒体，该制造方法，在非磁性材料填充步骤中，将作为每单位时间的成膜厚度的成膜率V、上述偏置功率为0的情况下的上述成膜率V_o、非磁性材料的成膜厚度t、记录元件的宽度L、记录元件之间的凹部的深度d，以满足下述关系式(I)的方式，调节成膜加工条件，并向被加工体(10)成膜·填充非磁性材料，其中该关系式为，0.1≤V/V_o≤－0.003×(L·d/t)+1.2……(I)。
记录媒体制造方法