专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]ZnO类半导体元件-CN200980114001.6无效
  • 中原健;田村谦太郎;汤地洋行;赤坂俊辅;川崎雅司;大友明;塚崎敦 - 罗姆股份有限公司
  • 2009-02-20 - 2011-04-13 - H01L33/00
  • 本发明提供一种ZnO类半导体元件,该元件的特征在于,在形成含有包含ZnO类半导体的受主掺杂层的层叠体时,能够在不使受主元素浓度降低的情况下,抑制受主掺杂层或在受主掺杂层之后形成的层的平坦性劣化及晶体缺陷增加,并且能够使膜的特性得以稳定化。其中,在ZnO基板1上依次层叠有n型MgZZn1-ZO(0≤Z<1)层2、非掺杂MgZnO层3、MQW活性层4、非掺杂MgXZn1-XO层5、受主掺杂MgYZn1-YO层6。受主掺杂MgYZn1-YO(0<Y<1)层6中包含至少1种受主元素,并且,在该层上相接触地形成有非掺杂的MgXZn1-XO(0<X<1)层5。由此,可以在向受主掺杂层中充分导入受主元素的同时,使受主掺杂层的表面平坦性得到改善。
  • zno半导体元件
  • [发明专利]ZnO系半导体元件-CN200880119750.3无效
  • 中原健;川崎雅司;大友明;塚崎敦 - 罗姆股份有限公司
  • 2008-11-20 - 2010-11-17 - H01L29/04
  • 本发明提供一种ZnO系半导体元件,能够在层叠侧主面具有C面的MgZnO基板上生长平坦的ZnO系半导体层。该ZnO系半导体元件采用主面具有C面的MgxZn1-xO(0≤x<1)基板,并在以使所述主面的法线向基板晶轴的m轴c轴平面投影的投影轴与c轴所形成的Φm角满足0<Φm≤3的方式形成的主面上,使ZnO系半导体层(2~5)外延生长。然后,在ZnO系半导体层(5)上形成p电极(8),在MgxZn1-xO基板(1)的下侧形成n电极(9)。这样,通过在MgxZn1-xO基板(1)的表面形成沿m轴方向规则地排列的台阶,能够防止台阶积累现象,并且提高层叠在基板(1)上的半导体层的膜的平坦性。
  • zno半导体元件
  • [发明专利]ZnO系半导体元件-CN200880114737.9无效
  • 中原健;汤地洋行;川崎雅司;大友明;塚崎敦 - 罗姆股份有限公司
  • 2008-09-05 - 2010-09-29 - H01L33/00
  • 本发明提供一种ZnO系半导体元件,其缓和自补偿效应、抑制施主杂质的混入,以容易进行p型化。使MgxZn1-xO(0≤x<1)基板的主面法线向基板晶轴的a轴c轴平面投影的投影轴向a轴方向倾斜Φa度、且向基板晶轴的m轴c轴平面投影的投影轴向m轴方向倾斜Φm度,角度Φa满足70≤{90-(180/π)arctan(tan(πΦa/180)/tan(πΦm/180))}≤110,且满足Φm≥1,由于被这样形成,所以在该主面上形成的ZnO系半导体层能够抑制施主杂质的混入、缓和自补偿效应而容易进行p型化,从而能够制作出所希望的ZnO系半导体元件。
  • zno半导体元件

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