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- [发明专利]等离子体处理方法及设备-CN98108961.5有效
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森山公一朗;青田幸人;金井正博;大利博和
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佳能株式会社
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1998-05-22
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2003-12-24
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H01L21/3065
- 一种等离子体处理方法，包括步骤通过阻抗匹配电路向处理室中馈送比处理过程中的第二高频电源的功率要低的第二高频电源，然后再向该处理室馈送功率比处理过程中的第一高频电源高的第一高频电源，以生成等离子体；减小所述第一高频电源的强度，使之降到处理过程中第一高频电源的功率值的100-200％，提高所述第二高频电源的强度，使之升到处理过程中第二高频电源的功率值的70-100％，然后再调节所述第一高频电源的强度，以获得预定值的等离子体强度；使所述阻抗匹配电路进行一次匹配操作，同时调节所述第一高频电源的值，以获得一个处理过程中的理想等离子体强度值。
- 等离子体处理方法设备
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