“夏原”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果84个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种高矫顽力烧结钕铁硼厚磁体的制备方法-CN202310487740.1在审
发明人：夏原;李光;许亿;曾明亮 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01F41/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种高矫顽力烧结钕铁硼厚磁体的制备方法，包括：步骤1.利用磁控溅射技术在烧结钕铁硼基体的外表面镀附重稀土‑焊料金属合金膜层，在基体的待焊面的合金膜层外继续镀附富含相同焊料金属的钎料膜层；步骤2.多片完成步骤1溅射镀层的钕铁硼基体，依次摆放具有钎料膜层的待焊面位于相邻基体之间，进行第一级真空热处理，使得合金膜层中的重稀土元素向钕铁硼基体的内部扩散；步骤3.继续进行第二级真空热处理，相邻钕铁硼基体之间所含相同焊料金属相互扩散，并扩散进入磁材表层，使得相邻基体焊接为一体，得到提高了矫顽力的烧结钕铁硼厚磁体。本发明中利用磁控溅射技术，解决了目前制备的钕铁硼厚磁体矫顽力不能满足工业需求的问题。
一种矫顽力烧结钕铁硼厚磁体制备方法

[发明专利]一种烧结钕铁硼磁体晶界扩散多元素重稀土的方法-CN202110613330.8有效
发明人：夏原;许亿;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01F41/02 文献下载
摘要：本发明属于烧结钕铁硼磁体表面工程技术领域，针对现有技术中多元素重稀土合金靶材在制造和应用方面存在的问题，本发明的目的在于提供一种烧结钕铁硼磁体晶界扩散多元素重稀土的方法，首先采用磁控溅射技术在烧结NdFeB磁体表面制备多层涂层，其中第一层为Dy或Tb等重稀土涂层，第二层为Al等低熔点涂层。后续涂层，根据晶界扩散工艺要求重复第一层和第二层涂层。涂层制备完成后，磁体放入真空扩散炉，对磁体进行梯度温度加热。通过第一阶段真空热处理在NdFeB磁体表面形成多元素重稀土合金涂层，通过第二阶段真空热处理实现低熔点元素和重稀土元素在烧结NdFeB磁体晶界内的协同扩散。最后进行回火处理，实现烧结NdFeB磁体矫顽力的提升。
一种烧结钕铁硼磁体扩散多元稀土方法

[发明专利]一种诱导重稀土元素沿晶界定向扩散的方法-CN202310077346.0在审
发明人：夏原;许亿;李光;李成灿 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2023-01-17 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01F41/02 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种诱导重稀土元素沿晶界定向扩散的方法，包括：磁体的预处理；诱导性涂层的沉积：在烧结钕铁硼磁体表面沉积由多主元合金金属材料构成的诱导性涂层；高致密性缓冲涂层的沉积：沉积由多主元合金金属材料和重稀土材料构成的高致密性缓冲涂层；重稀土涂层的沉积：沉积由重稀土材料构成的重稀土涂层；多阶热扩散处理。其中，多主元合金金属包含的金属元素类型不低于三种；多次热扩散处理过程的温度顺次增加。本发明通过多涂层及对应的热处理方式的结合，较大程度地抑制重稀土晶内扩散现象，诱导重稀土元素沿晶界定向扩散，不仅能够进一步提高重稀土利用率和矫顽力增量，还可降低剩磁与磁能积的下降幅度。
一种诱导稀土元素界定扩散方法

[发明专利]一种内燃机表面催化多孔涂层及其制备方法-CN202211686748.2在审
发明人：夏原;李国栋;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2022-12-26 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C25D11/02 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种内燃机表面催化多孔涂层及其制备方法，包括：将待加工件表面进行清洗和干燥，得到预处理后的待加工件；将待加工件置于电解液中，采用等离子体微弧氧化进行操作，在待加工件表面镀覆形成致密层；向电解液中加入纳米催化材料分散，在等离子体微弧氧化操作的条件下，至等离子体光谱的强度达到不低于峰值的2/5，完成过渡层的镀覆；调节等离子体微弧氧化操作的加工参数，继续进行等离子体微弧氧化操作，至离子发射光谱的强度达到峰值的7/10～4/5时，完成内燃机表面催化多孔涂层的制备。本发明最终制备的涂层载体兼备高强度、高孔隙率以及大量蜂巢孔洞的属性，解决了目前内燃机催化载体比表面积不足的问题。
一种内燃机表面催化多孔涂层及其制备方法

[发明专利]一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法-CN202211142038.3在审
发明人：夏原;许亿;李光;李成灿 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2022-09-20 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01F41/02 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种提高烧结钕铁硼磁体重稀土晶界扩散效率的方法，包括：磁体的预处理；等离子体清洗；重稀土离子的注入：在向烧结钕铁硼磁体施加负偏压的前提下，同时采用高功率脉冲磁控溅射和离子源，溅射重稀土靶材，完成重稀土离子注入；重稀土涂层的沉积：通入惰性气体调节真空度至0.4‑1Pa，而后在向烧结钕铁硼磁体施加负偏压的前提下，采用高功率脉冲磁控溅射，溅射重稀土靶材，完成烧结钕铁硼磁体表面的重稀土涂层的沉积；真空热处理：将沉积有重稀土涂层的烧结钕铁硼磁体进行热处理。实现了提高磁体浅表层结构缺陷密度，增加重稀土扩散通道，进而最终提高重稀土扩散效率的效果。
一种提高烧结钕铁硼磁体稀土扩散效率方法

[发明专利]一种铝合金压铸基体的阻隔涂层-CN202110831553.1有效
发明人：夏原;李国栋;许亿 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2021-07-22 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明涉及基体防护涂层技术领域，提供了一种铝合金压铸模具的阻隔涂层，包括设置在基体表面的过渡层，远离基体侧的过渡层上设置有强化层，远离过渡层侧的强化层上设置有阻隔层，远离强化层侧的阻隔层上设置有抗粘层；在服役温度(650℃)环境下，能够避免发生模具的阻隔涂层剥落或层间微裂，同时避免引起裂纹的加速扩展汇集而形成主裂纹，从而避免引发基体失效；与此同时，在多层涂层中，层间界面中不会引发微裂纹，避免降低涂层韧性，尤其是在高温环境下，提升了涂层服役性能。
一种铝合金压铸基体阻隔涂层

[发明专利]一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法-CN202010227914.7有效
发明人：夏原;高方圆;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2021-12-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜的方法，解决了现有制备技术中面临的沉积温度高，过程难控制以及成本昂贵等问题，保障了工业化生产过程中的工艺稳定性和可重复性。同时，柔性晶态薄膜在力学和宽波段光学透过性能方面表现出很大的优势，可以更好地用于表面防护涂层及红外窗口透明保护膜等，带来巨大的经济和社会效益。
一种室温溅射制备晶态透明氧化铝薄膜方法

[发明专利]一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法-CN202010316745.4有效
发明人：夏原;许亿;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C22C45/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种高熵合金组合物、高熵合金薄膜及高熵合金靶材和薄膜的制备方法，组合物包括Al、Cr、Ti、Gd和Zr；薄膜为通过组合物经真空熔炼和磁控溅射制得。本发明的实施方式具有如下优点：1、特定的原料种类之间的协同配合使最终得到的高熵合金薄膜具有优异的耐高温、抗腐蚀和高强度等优异性能；2、利用磁控溅射的方法，将铸态时晶态的AlCrTiGdZr合金转变成非晶态的薄膜，极大的提高了薄膜的致密性，减少了薄膜的缺陷，进一步提高薄膜的性能，使其具有更为广阔的应用前景；3、整个操作过程可以在室温下进行，且无污染排放物生成，使整个制备具有高效清洁的优点。
一种合金组合薄膜制备方法

[发明专利]一种同时提高烧结钕铁硼矫顽力和耐蚀性的方法-CN202011491685.6有效
发明人：夏原;许亿;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-12-17 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： C23C14/16 文献下载
摘要：本发明属于烧结钕铁硼磁材表面工程领域，本发明公开了一种同时提高烧结钕铁硼矫顽力和耐蚀性的方法，具体包括如下步骤：(1)镀膜前处理；(2)辉光等离子体清洗；(3)晶界扩散层—重稀土涂层沉积；(4)阻隔层—高熵合金氮化物涂层沉积；(5)耐蚀层—高熵合金涂层沉积；(6)真空热处理；(7)待样品冷却至室温，取出样品，完成对烧结NdFeB磁材的处理。该方法采用磁控溅射在烧结NdFeB磁材表面制备一种新型多层涂层，其中最底层：采用重稀土涂层作为晶界扩散涂层；最外层：采用高熵合金涂层作为耐蚀涂层；中间层：采用高熵合金氮化物涂层作为阻隔涂层。三种涂层所组成的多层涂层在经过真空热处理后，可解决烧结NdFeB矫顽力和耐蚀性无法同时提高的问题。
一种同时提高烧结钕铁硼矫顽力耐蚀性方法

[发明专利]一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法-CN202010228017.8有效
发明人：夏原;高方圆 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层的制备方法，通过等离子特性参数的检测与反馈控制，交替沉积形成的Al/Al2O3多层膜结构，有效的减少了涂层的微缺陷，均匀致密的Al2O3层阻断了贯穿涂层的晶界，实现了钕铁硼磁体耐腐蚀性能的显著提高；同时提高了Al涂层的表面硬度，可有效防止因表面划伤而导致的涂层失效。另外，该方法还解决现有制备技术中面临的沉积速率低，结构难控制以及涂层厚度受限等问题，保障了工业化生产过程中的工艺稳定性和可重复性。同时，超强的耐腐蚀特性可实现在高盐度气候中长期使用，尤其适用于海上风能电机中的钕铁硼永磁体材料，将会带来巨大的经济和社会效益。
一种钕铁硼磁体表面高耐蚀防护涂层制备方法

[发明专利]利用离化溅射技术在磁材表面实现冷镀的镀膜方法-CN202010418115.8有效
发明人：夏原;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种利用离化溅射技术在磁材表面实现冷镀的镀膜方法，包括如下步骤：制备铝锌硅‑稀土以作为复合靶材；对磁材进行研磨清洗处理，然后放入真空室中进行离子刻蚀；当磁材完成离子刻蚀后，在负偏压50～200V下开启离子源和溅射电源，控制离子源的功率在0.7～1.5kW，并将复合靶材加载350～550V电压，然后持续镀膜20～40分钟，在磁材表面的镀膜厚度达到要求后停止；待磁材冷却后，对真空室充气，然后打开真空室取出镀膜后的磁材，完成镀膜过程。本发明在铝锌硅涂层中添加了稀土元素钕，可以提高涂层的致密性，离化磁控溅射制备技术的低温沉积特性不会对磁材本身的性质以及磁材产生影响，而且离化磁控溅射技术更容易精确控制涂层厚度和涂层成分，制备的涂层均匀性更好。
利用溅射技术表面实现镀膜方法

[发明专利]一种钕铁硼磁体表面防护的复合改性方法-CN201910314786.7有效
发明人：夏原;许亿;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2019-04-18 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： H01F41/02 文献下载
摘要：本发明实施例公开了本发明提供了一种钕铁硼磁体表面防护的复合改性方法，包括如下步骤：对钕铁硼磁体进行前处理；将磁体置于真空室的工件架上，抽离真空室空气；通过外加电源给工件架提供负偏压，完成对磁体的辉光清洗；通过高功率脉冲磁控溅射电源给Al靶材提供负偏压产生高密度的Al等离子体，同时通过外加电源给工件架提供负高压，并匹配两者脉冲波形，完成对工件的Al等离子体浸没离子注入沉积过程；通过单极脉冲磁控溅射电源给Al靶材提供负偏压，同时通过外加电源给工件架提供负偏压在工件表面沉积Al膜；重复上述磁控溅射和等离子体浸没离子过程，得到位于工件基体表面的复合改性涂层，提高钕铁硼磁铁表面耐腐蚀性能。
一种钕铁硼磁体表面防护复合改性方法

[发明专利]一种应用于钕铁硼的非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法-CN202010418357.7有效
发明人：夏原;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供一种应用于钕铁硼的低锰含量非晶铝锰涂层的HIPIMS制备方法，制备铝锰‑稀土以作为复合靶材；先对钕铁硼磁材进行研磨清洗和真空离子轰击清洗；磁材温度降低至120～150℃，调整真空室内氩气流量至工作真空度0.3～0.8Pa，开启脉冲电源且与靶材基距为60～100mm，负偏压为50‑150V，峰值功率密度为500～800W/cm2，然后开始脉冲磁控溅射镀膜，控制磁材温度不超过200℃，持续镀膜30‑60min后停止；待磁材冷却后，对真空室充气，取出镀膜后的磁材，完成镀膜过程。本发明通过调整靶基距、偏压、基片温度和功率等参数得到了最适合于制备非晶铝锰涂层的磁控溅射工艺参数，降低了形成铝锰非晶结构所需要的锰含量。
一种应用于钕铁硼非晶铝锰涂层 hipims 制备方法

[发明专利]一种类金刚石薄膜的制备方法-CN202010317118.2有效
发明人：夏原;许亿;李光 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明实施例涉及薄膜制备技术领域，本发明实施例公开了一种类金刚石薄膜的制备方法，包括：将薄膜载体置于真空环境并通入Ar；外加偏压电源进行辉光清洗；更换Ne惰性气体作为工作气体，并给碳靶提供靶材电压；外加复合直流HiPIMS电源给薄膜载体提供负偏压；调整完成HiPIMS电源与复合直流HiPIMS电源的波形匹配，并依据预定薄膜沉积时间完成薄膜沉积，获得目标产物类金刚石薄膜。本发明采用复合直流HiPIMS作为偏压，并与高功率脉冲磁控溅射电源匹配，实现对HiPIMS电源在脉冲期间和脉冲结束后等离子体能量的单独调控与优化，进而在不破坏sp3键前提下诱导内应力的释放，解决目前尚无在保证高sp3键含量的同时又可降低DLC薄膜内应力的问题。
种类金刚石薄膜制备方法

[发明专利]一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法-CN202010227623.8有效
发明人：夏原;高方圆 -专利权人：中国科学院力学研究所
申请日： 2020-03-27 - 公布日： 2021-01-01 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种切削刀具用耐高温氧化铝厚膜涂层的制备方法，该方法制备出的氧化铝厚膜涂层具有均匀致密的结构，最高获得了29GPa的硬度，接近于α‑Al2O3单晶材料的硬度值。在刀具本体材料和α‑Al2O3涂层之间设计如Ti/TiN结构的结合层/过渡层，对提高涂层和基体之间的结合强度有较大的益处，使得涂层材料具有良好的附着力，达到70N。同时实际的使用结果表明，涂覆有本实施例α‑Al2O3厚膜涂层的硬质合金刀具，可高速干切削硬度HRC63的淬火钢，且刀具刃口在1200℃切削，仍能保持良好的红硬性，与常规涂层刀具对比，低摩擦有效降低了由于高温粘附带来的切削力。
一种切削刀具耐高温氧化铝涂层制备方法

1
2
3
4
5
6
下一页»
尾页
共 84 条