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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]溅射靶以及磁性膜-CN201980007232.0有效
发明人：岩渊靖幸;增田爱美;小庄孝志 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2019-05-23 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅射靶，其含有0.001mol％～0.5mol％的Bi、45mol％以下的Cr、45mol％以下的Pt、60mol％以下的Ru、合计1mol％～35mol％的金属氧化物，剩余部分包含Co和不可避免的杂质。
溅射以及磁性

[发明专利]溅射靶、磁性膜以及垂直磁记录介质-CN201980054069.3有效
发明人： 增田爱美;清水正义;岩渊靖幸 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2019-05-23 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明是一种溅射靶，其含有0.05at％以上的Bi，金属氧化物的合计含量为10vol％～60vol％，剩余部分包含Co和Pt。
溅射磁性以及垂直记录介质

[发明专利]垂直磁记录介质-CN201880091890.8有效
发明人： 增田爱美;清水正义 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-09-21 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： G11B5/66 文献下载
摘要：本发明的垂直磁记录介质具有颗粒层(2)和盖层(3)作为构成记录层(1)的至少一部分的层，所述颗粒层(2)包含金属氧化物作为非磁性体且磁性体分散于所述非磁性体，所述盖层(3)形成于所述颗粒层(2)上且不包含金属氧化物，所述盖层(3)的正下方的颗粒层的与盖层的边界部分的氧化物相含有选自由Zn、W、Mn、Fe以及Mo构成的组中的至少一种。
垂直记录介质

[发明专利]溅射靶、磁性膜和磁性膜的制造方法-CN201880004047.1有效
发明人： 增田爱美;清水正義;下宿彰 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供一种可形成兼具磁性颗粒间的良好的磁分离性和高矫顽力的磁性膜的溅射靶、磁性膜和磁性膜的制造方法。本发明的解决方案在于本发明的溅射靶以原子比换算计含有1at.％以上的Zn，其一部分或全部形成Zn‑Ti‑O和/或Zn‑Si‑O的复合氧化物，Pt为45at.％以下，余量包含Co和不可避免的杂质。
溅射磁性制造方法

[发明专利]溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体-CN202111090388.5在审
发明人：清水正义;岩渊靖幸;增田爱美 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体，其中该溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。
溅镀靶积层膜制造方法记录媒体

[发明专利]溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体-CN201880003684.7有效
发明人：清水正义;岩渊靖幸;增田爱美 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的溅镀靶含有Co与选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属作为金属成分，上述选自由Cr及Ru组成的群中之一种以上的金属的含量相对于Co的含量的摩尔比为1/2以上，且含有Nb2O5作为金属氧化物成分。
溅镀靶积层膜制造方法记录媒体

[发明专利]溅镀靶、积层膜的制造方法、积层膜及磁记录媒体-CN201880003554.3在审
发明人：清水正义;岩渊靖幸;增田爱美 -专利权人： JX金属株式会社
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2019-05-28 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的溅镀靶含有Co及Pt作为金属成分，Pt的含量相对于Co的含量的摩尔比为5/100～45/100，且含有Nb₂O₅作为金属氧化物成分。
溅镀靶积层磁记录媒体金属氧化物摩尔比金属制造

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