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[发明专利]抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法-CN201210251272.X无效
发明人：市川幸司;增山达郎;山口训史 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-07-19 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了抗蚀剂组合物和用于制备抗蚀图案的方法，所述抗蚀剂组合物具有：具有由式(I)表示的结构单元的树脂，在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，酸生成剂，和具有由式(IA)表示的阴离子的盐，其中R¹、A¹、A¹³、X¹²、A¹⁴、R^1A和R^2A如说明书中限定。
抗蚀剂组合用于制备图案方法

[发明专利]盐、光致抗蚀剂组合物及用于制备光致抗蚀剂图案的方法-CN201210186846.X无效
发明人： 增山达郎;向井优一 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-06-07 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明提供盐、光致抗蚀剂组合物及用于制备光致抗蚀剂图案的方法。本发明公开一种由式(I)表示的盐，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，A¹表示C1-C30一价有机基团，X¹表示其中氢原子可以被羟基代替的C1-C10脂族烃基，m¹和m²各自独立地表示1至4的整数，以及Z⁺表示有机阳离子。
光致抗蚀剂组合用于制备图案方法

[发明专利]树脂和包含其的光刻胶组合物-CN201210112342.3无效
发明人： 增山达郎;市川幸司 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2012-04-16 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C08F222/14 文献下载
摘要：本发明提供树脂和包含所述树脂和产酸剂的光刻胶组合物，所述树脂包含衍生自式(I)所表示的化合物的结构单元：其中R¹表示氢原子或甲基，A²表示二价含氟C1-C12烃基，并且A¹表示由式(a-g1)所表示的基团：其中A¹⁰在每次出现时独立地为C1-C5脂肪族烃基，A¹¹表示C1-C5脂肪族烃基，X¹⁰在每次出现时独立地为-O-、-CO-、-CO-O-或-O-CO-，并且s表示0至2的整数。
树脂包含光刻组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201110038475.6无效
发明人： 增山达郎;山口训史 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2011-02-14 - 公布日： 2011-08-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，所述的光致抗蚀剂组合物含有：包含由式(IA)表示的阴离子的锍盐，其中R¹和R²独立地表示氢原子、C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基，并且所述脂族烃基、所述饱和环烃基、所述芳族烃基和所述芳烷基可以具有一个或多个选自由羟基、氰基、氟原子、三氟甲基和硝基组成的组中的取代基，并且所述脂族烃基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替，或R¹和R²相互结合以与它们连接的氮原子一起形成C4-C20含氮环；丙烯酸类树脂，其具有酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；和酸生成剂。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201110005775.4无效
发明人： 增山达郎;向井优一;岛田雅彦 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2011-01-07 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含：选自由式(I)表示的单体、由衍生自由式(I)表示的单体的结构单元构成的聚合物，和由衍生自由式(I)表示的单体的结构单元和衍生自由式(II)表示的单体的结构单元构成的聚合物组成的组中的至少一种，在式(I)中，R¹表示氢原子或甲基，W¹表示C3-C20二价饱和环烃基，A¹表示单键或*-O-CO-R²-，其中*表示与W¹＝N-的结合位置，并且R²表示C1-C10二价饱和烃基，在式(II)中，R³表示氢原子或甲基，A²表示单键或*-O-CO-(CH₂)_n-，其中*表示与R⁴-的结合位置，n表示1至7的整数，并且R⁴表示C3-C20饱和环烃基；树脂，其具有酸不稳定基团，并且不溶或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液；和酸生成剂。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201010516733.2无效
发明人： 增山达郎;桥本和彦;重松淳二 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-10-13 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含：一种包含衍生自通式(I)所示化合物的结构单元的聚合物：其中，R¹表示氢原子或甲基；R²表示可具有一个以上取代基的C6-C12芳烃基；R³表示氰基或者可具有一个以上取代基并可包含一个以上杂原子的C1-C12烃基；A¹表示单键、-(CH₂)_g-CO-O-*或-(CH₂)_h-O-CO-(CH₂)_i-CO-O-*，其中g、h和i各自独立表示1至6的整数，并且*表示与氮原子的成键位置，一种具有酸不稳定性基团并且不溶于或微溶于碱性水溶液的树脂，但是该树脂通过酸的作用可变得溶于碱性水溶液；以及一种产酸剂。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201010530371.2无效
发明人： 增山达郎;平冈崇志 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-10-20 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种光致抗蚀剂组合物，其包含：通过辐射能够产生酸和碱的化合物；一种具有酸不稳定性基团且不溶于或微溶于碱性水溶液的树脂，该树脂在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；以及一种产酸剂。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201010284067.4无效
发明人： 增山达郎;畑光宏 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-09-13 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物：其中R¹，R²和R³各自独立表示氢原子或C1-C4烷基，A¹表示单键或C1-C2亚烷基，R⁴和R⁵各自独立表示氢原子或C1-C2烷基，R⁶和R⁷各自独立表示氢原子等。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201010284062.1无效
发明人： 增山达郎;畑光宏 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-09-13 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂、酸生成剂和由式(I)表示的化合物，在式(I)中，R¹表示可以具有一个或多个羟基的C2-C12烷基等，R²和R³各自独立表示氢原子等，R⁴，R⁵和R⁶各自独立表示氢原子等，A¹表示单键或C1-C2亚烷基，在所述C1-C2亚烷基中的一个或多个-CH₂-可以被-O-代替。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物-CN201010247395.7无效
发明人：畑光宏;增山达郎 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-08-05 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，其包含树脂，酸生成剂和由式(C1)表示的化合物，在式(C1)中，Rc2表示可以具有一个或多个取代基的C7-C20芳烷基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团，在式(1)中，Rc3和Rc4各自独立地表示氢原子或直链，支链或环状C1-C12脂族烃基，Rc5表示C1-C30二价有机基团，并且Rc3和Rc4或Rc5可以彼此结合以与Rc3和Rc4或Rc5结合的氮原子一起形成环。
光致抗蚀剂组合

[发明专利]化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物-CN201010249208.9无效
发明人： 增山达郎;畑光宏 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-08-06 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： C07C271/28 文献下载
摘要：本发明提供一种由式(C1)表示的化合物和一种包含树脂、酸生成剂和由式(C1)表示的化合物的光致抗蚀剂组合物，在所述式(C1)中，R^c2表示具有至少一个硝基的C6-C10芳族烃基，并且R^c1表示由式(1)表示的基团，在所述式(1)中，R^c4表示氢原子等，R^c5表示C1-C30二价烃基，并且R^c3表示由式(3-1)，(3-2)或(3-3)表示的基团，在所述式(3-1)，(3-2)或(3-3)中，R^c6，R^c7，R^c8，R^c9，R^c10，R^c11，R^c12，R^c13和R^c14各自独立地表示C1-C30烃基。
化合物含有光致抗蚀剂组合

[发明专利]盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物-CN201010188312.1无效
发明人：市川幸司;杉原昌子;增山达郎 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-05-25 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： C07D307/33 文献下载
摘要：本发明提供一种盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物。一种以式(I-AA)表示的盐，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C4全氟烷基，X¹表示单键等，Y¹表示C1-C36脂族烃基等，A¹和A²各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar¹表示可以具有一个或多个取代基的(m₄+1)价C6-C20芳族烃基，B¹表示单键等，m₁和m₂各自独立地表示0至2的整数，m₃表示1至3的整数，条件是m₁+m₂+m₃＝3，并且m₄表示1至3的整数，以及一种光致抗蚀剂组合物，其含有以式(I-AA)表示的盐和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
以及含有光致抗蚀剂组合

[发明专利]盐以及含有该盐的光致抗蚀剂组合物-CN201010188189.3无效
发明人：市川幸司;杉原昌子;增山达郎 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-05-25 - 公布日： 2010-12-01 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明提供：一种以式(I-CC)表示的盐，其中Q¹和Q²各自独立地表示氟原子等，X¹表示单键等，Y¹表示C1-C36脂族烃基等，A¹和A²各自独立地表示C1-C20脂族烃基等，Ar¹表示可以具有一个或多个取代基的(m₄+1)价C6-C20芳族烃基，B¹表示单键等，B²表示能够通过酸的作用消除的基团，m₁和m₂各自独立地表示0至2的整数，m3表示1至3的整数，条件是m₁+m₂+m₃＝3，并且m₄表示1至3的整数；和一种光致抗蚀剂组合物，其包含以式(I-CC)表示的盐以及树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶或难溶于碱水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱水溶液。
以及含有光致抗蚀剂组合

[发明专利]锍化合物-CN201010144660.9无效
发明人： 增山达郎;重松淳二;朴汉雨 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2010-03-24 - 公布日： 2010-09-29 - 主分类号： C07C381/12 文献下载
摘要：本发明提供由式(Ia)表示的锍化合物、包含该锍化合物和树脂的化学放大型光致抗蚀剂组合物以及制备该锍化合物的方法。在式(Ia)表示的锍化合物中，Q¹和Q²各自独立地表示氟原子或C1-C6全氟烷基，R¹表示具有β-酮酯结构的C5-C42有机基团，并且A+表示有机抗衡离子。本发明的化学放大型光致抗蚀剂组合物包含上述锍化合物和树脂，所述树脂包含具有酸不稳定基团的结构单元，并且不溶于或难溶于碱性水溶液，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液。
化合物

[发明专利]二酰亚胺类化合物及包含该化合物的化学增幅抗蚀剂组合物-CN200910164949.4无效
发明人：武元一树;增山达郎;平冈崇志 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2009-07-27 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： C07D221/06 文献下载
摘要：一种由结构式(I)表示的二酰亚胺类化合物，其中，R¹代表C1-C20脂肪烃基等；W¹代表-CO-O-等，Q¹和Q²各自独立地代表氟原子等；并且A代表由结构式(I-1)表示的基团，其中，A¹代表-CH₂-CH₂-等，本发明还公开了含有该化合物的化学增幅抗蚀剂组合物。
亚胺化合物包含化学增幅抗蚀剂组合

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