专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁传感器-CN201880027218.2有效
  • 城野纯一;关根孝二郎;土田匡章 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2018-04-24 - 2022-04-29 - G01R33/09
  • 一种磁传感器,抑制各磁阻元件的检测位置以及检测时刻的偏移,并以高精度并且以高空间分辨率进行测定。磁传感器100在与第一磁阻元件1以及第二磁阻元件2的平面正交的方向上排列有多个磁阻元件单元10,该磁阻元件单元10中以第一方向为检测轴的平面型的第一磁阻元件1与以和第一方向不同的第二方向为检测轴的平面型的第二磁阻元件2对置配置,与测定样品6对置的面是与磁阻元件单元10的排列方向平行的面103。
  • 传感器
  • [发明专利]磁阻元件以及磁阻元件的制造方法-CN201880008084.X有效
  • 安藤康夫;大兼干彦;藤原耕辅;城野纯一;关根孝二郎;土田匡章 - 国立大学法人东北大学;柯尼卡美能达株式会社
  • 2018-01-16 - 2021-07-09 - G11B5/39
  • 本发明涉及磁阻元件以及磁阻元件的制造方法。当形成磁阻效应膜时,有效地实现覆盖层的保护并且减少该覆盖层所造成的负面影响,实现所希望的磁阻特性。本制造方法包括:第一工序,将层叠膜加工成规定的形状,上述层叠膜包括通过磁场使电阻变化的磁阻效应膜4和该磁阻效应膜的上层的厚度10nm~60nm的范围内的覆盖层40(图4的b、图4的c);第二工序,以绝缘膜61覆盖保护上述层叠膜(图4的d);第三工序,通过反应性蚀刻在上述绝缘膜形成开口来使上述覆盖层的表面在该开口露出(图4的e);第四工序,对通过第三工序而在开口露出的覆盖层的表面进行离子铣削,对该覆盖层在小于其总膜厚的范围内进行蚀刻(图4的f);第五工序,与在第四工序后保留的覆盖层的表面接触,对成为产品的一部分的上部层(51)进行成膜(图4的g)。
  • 磁阻元件以及制造方法
  • [发明专利]探针-CN201180051529.0有效
  • 城野纯一;泷村俊则;田尾祥一 - 柯尼卡美能达株式会社
  • 2011-10-20 - 2013-08-07 - A61B1/00
  • 本发明提供一种探针,在该光学探针中,分别独立地具有照射照射光的照射导光路以及用于取得放射光的受光导光路,从而能够高效地取得要测定的放射光。探针(10)分别独立地具有:第一光纤(1),其构成用于引导照射光的照射导光路;第二光纤(2),其构成用于取得来自生物体的放射光的受光导光路,探针(10)还具有聚光透镜(3),该聚光透镜(3)接收从第一光纤射出的照射光并向测定对象部位侧射出,并接收从测定对象部位放射的放射光并向第一、第二光纤侧聚光。第一光纤的射出端中心轴相对于聚光透镜的光轴偏移和/或倾斜,聚光透镜表面上的反射光远离第二光纤的受光端中心,并且使被聚光透镜聚光的放射光接近第二光纤的受光端中心。
  • 探针
  • [发明专利]光耦合装置及光断层摄影装置-CN201080022737.3有效
  • 城野纯一;长井史生;藤原胜巳 - 柯尼卡美能达精密光学株式会社
  • 2010-03-05 - 2012-05-02 - G02B6/26
  • 为了提供一种不产生噪声、能够得到没有变形等的良好摄影图像的光耦合装置以及光断层摄影装置,构成下述光耦合装置:在插管内腔从两端分别插入光纤,相对插管固定一光纤,保持另一光纤能够相对所述插管旋转,形成:在腔内使一光纤的端部与另一光纤的端部离间的间隙;连通插管外部空间与间隙的连通部;并且,在外部空间、间隙以及连通部中,收容由光能够透过的材料构成的液体或流体,这样,即使相对的光纤间的间隔变动,协调液中也不产生大的压力变动。
  • 耦合装置断层摄影

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