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[发明专利]用于处理微电子工件的系统-CN201210165024.3有效
发明人：杰弗里·M·劳尔哈斯;吉米·D·柯林斯;特蕾西·A·加斯特;艾伦·D·罗斯 -专利权人： FSI国际公司
申请日： 2009-05-05 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理微电子工件的系统，包括：容纳工件的处理室，所述处理室包括将工件与环境空气隔离的边界，边界的一部分包括流动气体的帘幕；可移动盖，其覆盖在工件上并限定处理室的至少一部分边界，所述盖包括第一状态和第二状态，在第一状态中，所述盖在工件的处理期间处于第一位置，在第二状态中，所述盖处于允许向所述室逸出气体的第二位置，并且，所述盖包括至少一个入口，至少一种处理流体通过该至少一个入口被引入处理室；至少一个边界构件，其具有一边缘，当盖处于第一状态时，该边缘接近盖但与盖隔开，在工件处理期间，所述盖与至少一个边界构件之间存在间隙；流动气体的帘幕，在盖处于第一状态时，帮助将处理室与环境空气隔离。
用于处理微电子工件系统

[发明专利]使用在打开与关闭操作模式之间易于转换的处理室设计处理微电子工件的工具和方法-CN200980115786.9有效
发明人：杰弗里·M·劳尔哈斯;吉米·D·柯林斯;特蕾西·A·加斯特;艾伦·D·罗斯 -专利权人： FSI国际公司
申请日： 2009-05-05 - 公布日： 2011-04-13 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了工具设计及其使用的策略，其中，工具可在关闭或打开操作模式中操作。工具根据需要在打开与关闭模式之间轻松地转换。根据一个总体策略，受环境控制的路径将环境与一个或多个处理室接合。处理室上游的空气放大能力允许根据需要将大量气流引入处理室。替代地，诸如通过简单的阀致动将流体路径轻松地关闭，以阻止通过这些路径逸出至环境。然后，可经由至少部分地与用于引入环境空气的路径共用的路径将替代的非环境流体流引入到处理室中。在其他策略中，至少用流动气体帘幕密封可移动部件之间的间隙，而不是仅依赖于直接的物理接触来进行密封。
使用打开关闭操作模式之间易于转换处理设计微电子工件工具方法

[发明专利]包含压力传感器的旋涂方法以及用于旋涂的设备-CN03825584.7无效
发明人： 吉米·D·柯林斯;塞缪尔·A·库伯 -专利权人： FSI国际公司
申请日： 2003-09-10 - 公布日： 2005-12-28 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：说明用于在基片上旋涂工作溶液的方法和设备，其中，该方法和设备含有一个检测工作溶液的压力例如与从分配器分配工作溶液的开始和结束相关的压力的压力传感器；一些优选方法和设备测量分配管路中的光致抗蚀剂、显影剂、水、溶剂或清洁剂的压力；并且一些优选方法和设备包含涉及中断式并行控制方法的过程控制系统。
包含压力传感器方法以及用于设备