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[实用新型]液处理装置-CN201821288962.1有效
发明人： 吉村好贵;高桥彰吾;泷口靖史;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-07-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种液处理装置，其在将处理液供给到基片进行处理中，能够抑制颗粒向基片的附着。上述液处理装置在从各喷嘴部(5、6、7)对保持为水平的晶片(W)供给处理流体进行处理时，由设置有用于使各喷嘴部(5、6、7)移动的开口部(16a、16b、16c)的覆盖部件(15)覆盖移动基台(54、64、74)和导轨(55、65、75)的上方，对覆盖部件(15)的下方的驱动区域进行排气，其中，移动基台(54、64、74)用于使各喷嘴部(5、6、7)在晶片的上方与待机位置之间移动。并且，当使各喷嘴部位于待机位置时，上述开口部(16a、16b、16c)分别被各个喷嘴部的喷嘴臂(52、62、72)封闭。
喷嘴部液处理装置待机位置覆盖部件移动基台开口部晶片本实用新型处理液供给处理流体处理装置喷嘴部位驱动区域喷嘴臂移动导轨附着排气种液封闭覆盖

[发明专利]液处理装置-CN201810908250.3在审
发明人： 吉村好贵;高桥彰吾;泷口靖史;山本太郎 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种在将处理液供给到基片进行处理的液处理装置中，抑制颗粒向基片的附着的技术。上述液处理装置构成为，在从各喷嘴部(5、6、7)对保持为水平的晶片(W)供给处理流体进行处理时，由设置有用于使各喷嘴部(5、6、7)移动的开口部(16a、16b、16c)的覆盖部件(15)覆盖移动基台(54、64、74)和导轨(55、65、75)的上方，对覆盖部件(15)的下方的驱动区域进行排气，其中，移动基台(54、64、74)用于使各喷嘴部(5、6、7)在晶片的上方与待机位置之间移动。并且，当使各喷嘴部位于待机位置时，上述开口部(16a、16b、16c)分别被各个喷嘴部的喷嘴臂(52、62、72)封闭。
喷嘴部液处理装置待机位置覆盖部件移动基台开口部晶片处理液供给处理流体喷嘴部位驱动区域喷嘴臂移动导轨附着排气封闭覆盖

[发明专利]液处理装置、液处理方法和存储介质-CN201010119641.0有效
发明人：泷口靖史;吉村好贵;宫田雄一郎;山本裕介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-02-20 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供一种液处理装置，该液处理装置具备：具备在横方向上配置为一列的基板保持部的多个液处理部、这些液处理部共用的处理液喷嘴，目的在于抑制处理液从所述处理液喷嘴向基板落下，防止成品率降低。在横方向排列为一列的多个杯体的开口部间，在处理液喷嘴的移动路的下方侧，设置有与从通过移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触，用于将该液滴从处理液喷嘴除去除液部。因此，为了对基板进行处理而使处理液喷嘴在待机部与各液处理部间移动时，能够防止所述液滴从处理液喷嘴向基板上落下。其结果是，能够抑制成品率的降低。
处理装置方法存储介质