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[发明专利]产生半导体制造设备的数字孪生体-CN202280005400.4在审
发明人：萨珊·罗汉姆;米卡尔·达内克;卡皮尔·索拉尼 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2023-03-17 - 主分类号： G06N3/0464 文献下载
摘要：本文中的各种实施例涉及用于产生半导体制造设备的数字孪生体的系统、方法和媒体。在一些实施例中，提供一种半导体制造设备的处理室的数字孪生体，包括一或多个非暂时性机器可读媒体，所述一或多个非暂时性机器可读媒体包括配置成实施以下的逻辑：处理室的第一位置的第一模型；和处理室的第二位置的第二模型，其中将第一模型耦合到第二模型，且其中第一模型和第二模型是为以下中的一个的模型类型中的每一个：1)AI/ML模型；2)HFS模型；和3)闭式解，且其中第一模型和第二模型各自表示为以下中的一个的一类物理现象：1)热特性；2)等离子体特性；3)流体动力学；4)结构特性；和5)化学反应。
产生半导体制造设备数字孪生

[发明专利]半导体制造设备的预测性维护-CN202180044620.3在审
发明人：郭健;萨珊·罗汉姆;卡皮尔·索拉尼;金晓强;米卡尔·达内克;布莱恩·约瑟夫·威廉姆斯;纳坦·所罗门 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-11-09 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本文中的各种实施方式涉及用于半导体制造设备的预测性维护系统和方法。在一些实施方式中，预测性维护系统包括处理器，该处理器被配置成：接收指示对应于进行制造工艺的制造设备的历史操作条件和历史制造信息的离线数据；通过使用将离线数据作为输入的训练模型来计算预测设备健康状态信息；接收指示制造设备的当前操作条件的实时数据；通过使用将实时数据作为输入的训练模型来计算估计设备健康状态信息；通过结合预测设备健康状态信息和估计设备健康状态信息来计算调整设备健康状态信息；以及呈现包括制造设备的至少一个部件的预期剩余使用寿命(RUL)的调整设备健康状态信息。
半导体制造设备预测维护

[发明专利]使用特征尺度建模的填充工艺优化-CN202080011487.7在审
发明人：迈克尔·鲍斯;阿塔施·巴苏;卡皮尔·索拉尼;李东耀;阿南德·查德拉什卡;大卫·M·弗瑞德;米卡尔·达内克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-01-28 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：在此提供了用于优化特征填充工艺的系统与方法。该特征填充优化系统与方法可用于从小量的图案化晶片测试来优化特征填充。该系统与方法可用于优化增强的特征填充工艺，其中该增强的特征填充工艺包括有包含抑制和/或蚀刻操作与沉积操作的操作。来自试验的结果可用于校准特征尺度行为模型。一旦被校准了，参数空间可迭代地被探索，以优化该工艺。
使用特征尺度建模填充工艺优化

[发明专利]半导体设备的缺陷分类和来源分析-CN202080008796.9在审
发明人： 卡皮尔·索拉尼;理查德·A·戈奇奥;迈克尔·达内克;基思·威尔斯;基思·汉森 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：可利用计算缺陷分析系统对包含电子组件的衬底上的缺陷进行分类，该计算缺陷分析系统可以多个阶段实现。例如，第一阶段分类引擎可处理计量数据以产生缺陷的初始分类。第二阶段分类引擎可利用该初始分类、以及制造信息和/或先验缺陷知识，以输出由一或更多个潜在来源造成缺陷的概率。
半导体设备缺陷分类来源分析

[发明专利]使用计算机视觉系统的原位室清洁终点检测系统和方法-CN201811223497.8在审
发明人： 卡皮尔·索拉尼;盖瑞·B·利德;迈克尔·丹克;罗纳德·鲍威尔;迈克尔·拉莫;卡伊翰·阿什蒂亚尼 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2018-10-19 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及使用计算机视觉系统的原位室清洁终点检测系统和方法。一种系统包括安装在处理室的窗外部并邻近所述窗的相机，所述处理室被配置成处理半导体衬底。所述窗使得所述相机能观察到所述处理室内的部件。所述相机被配置为于在正在所述处理室内执行的处理期间生成指示所述部件的状态的视频信号。该系统还包括耦合到所述处理室上的控制器。该控制器被配置成：控制所述相机；处理来自所述相机的所述视频信号；根据对所述视频信号的所述处理确定所述部件的状态；以及根据所述部件的所述状态确定是否终止所述处理。
相机视频信号计算机视觉系统检测系统清洁终点控制器原位室配置室内处理期间状态确定耦合到衬底半导体邻近观察