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[发明专利]蓝宝石抛光组合物-CN201210046475.5无效
发明人：关飞飞;马超;唐会明 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种蓝宝石抛光组合物，包括以下组分：硅溶胶、pH调节剂、活性剂和缓冲剂，所述的硅溶胶、pH调节剂、活性剂与缓冲剂的重量百分比为84∶10∶1∶3。本发明的蓝宝石抛光组合物，具有如下技术效果：1)抛光去除速率高，抛光后蓝宝石表面粗糙度低、平整度高，抛光液不污染环境，不腐蚀设备。2）稀释比例高、循环时间长、稳定性好，有效降低了成本。
蓝宝石抛光组合

[发明专利]高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物-CN201210046522.6无效
发明人：李薇薇 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物，包括以下成分：磨料、盐、pH调节剂、螯合剂、活性剂和缓冲体系。本发明的高稀释比和高稳定性的硅片化学机械抛光组合物，具有如下技术效果：1）选用科学合理的缓冲体系，不盲目提高抛光组合物的pH，抛光过程中pH值变化幅度小，抛光后，硅片表面质量较好，没有表面划伤以及其他缺陷；2）在配制抛光组合物时，增加稳定硅溶胶粒子的物质，可使抛光组合物在配制过程中粒子间保持高度的平衡；增加特定缓冲体系可增加稀释液的pH缓冲性能，使得抛光组合物pH维持在一定的水平，稳定抛光速率；3）抛光组合物配制工艺简单，易操作，适于工业生产；可降低抛光组合物的使用成本。
稀释稳定性硅片化学机械抛光组合

[发明专利]碱性存储器硬盘抛光组合物-CN201210046523.0无效
发明人：张金平;唐会明;徐功涛 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2012-02-28 - 公布日： 2012-08-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种碱性存储器硬盘抛光组合物，所述的组合物包括如下组分：磨料、络合剂、氧化剂、助蚀剂和水，其中所述的磨料的重量百分含量为2-20%，所述的络合剂的重量百分含量为0.5-3%,所述的氧化剂的重量百分含量为0.05-1%，所述的助蚀剂的重量百分含量为0.1-2%。本发明的碱性存储器硬盘抛光组合物，具有如下技术效果：可用于计算机硬盘基片的粗抛光，抛光速率高，抛光后硬盘基片的表面平坦度好，解决了氧化铝硬盘抛光液存在的划伤问题，也解决了酸性抛光液对设备的严重腐蚀问题。
碱性存储器硬盘抛光组合

[发明专利]一种新型超大粒径高浓度硅溶胶的制备方法-CN201110220444.2无效
发明人：刘锡林;刘振华;关飞飞;马超 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2011-08-03 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： C01B33/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种新型超大粒径高浓度硅溶胶的制备方法，原料选用硅粉、氢氧化钠、硝酸铈铵以及纯水，所说的硅粉、氢氧化钠与硝酸铈铵的重量比为200：3：1.5，将硅粉制成活化硅粉；将氢氧化钠制成氢氧化钠催化剂；将硝酸铈铵制成硝酸铈铵水溶液。本发明的制备方法具有如下技术效果：1）采用单质硅水解法制备新型超大粒径硅溶胶，其可用于CMP抛光液的磨料，粒径超过150nm，浓度超过45%，提高了硅溶胶的浓度，并且稳定性能好；2）反应时间短只需30小时，节省了反应时间；3）在制备过程中进行铈掺杂，提高抛光速率达15%左右，有效提高了CMP抛光液的抛光速率，减少抛光后的表面划伤，抛光后的表面粗糙度。
一种新型超大粒径浓度硅溶胶制备方法

[发明专利]酸性硅溶胶的复配型稳定剂-CN201110242291.1无效
发明人：李家荣;徐功涛;张金平 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2011-08-23 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： C09C1/30 文献下载
摘要：本发明提供了一种酸性硅溶胶的复配型稳定剂，按照重量百分比包括下列成分：溶剂阻隔剂50-80%，有机分散剂20-50%。本发明的复配型稳定剂具有组方合理、方法简便、能有效提高酸性硅溶胶稳定性、成本较低等特点，宜于推广应用。将本发明的稳定剂加入到酸性硅溶胶中，可使酸性硅溶胶保持一年以上不凝胶，并且在放置过程中胶体的pH基本上无变化，显著提高了酸性硅溶胶的稳定性。
酸性硅溶胶复配型稳定剂

[发明专利]一种非球形纳米级硅溶胶的制备方法-CN201110220438.7无效
发明人：李家荣;唐会明;张金平 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2011-08-03 - 公布日： 2012-03-28 - 主分类号： C01B33/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种非球形纳米级硅溶胶的制备方法，以2～5%小粒径非球形硅溶胶为晶种，滴加5～40%混合碱溶液调节其pH值至10，搅拌加热至90～100℃；然后向体系中滴加活性硅酸，采用加热浓缩法维持恒液位，反应时间为10～40h，期间滴加混合碱溶液以保持反应体系的pH值在9～10。本发明的非球形纳米级硅溶胶的制备方法具有如下有益效果：以小粒径非球形硅溶胶为晶种制备粒径大小为30～50nm得非球形硅溶胶，其稳定性好；适用于化学机械抛光，抛光速率高，其抛光速率比传统方法制备的大粒径(130nm)球形硅溶胶的抛光速率快10%以上。
一种球形纳米硅溶胶制备方法

[发明专利]双粒径二氧化硅溶胶及其制备方法-CN201110242293.0有效
发明人：李家荣;关飞飞;王航波 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2011-08-23 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： C01B33/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种双粒径二氧化硅溶胶，包括两个粒径范围：一个粒径范围为50～100nm，一个粒径范围为150～200nm。本发明还提供了一种制备双粒径二氧化硅溶胶的方法，以粒径均匀，大小为80nm，比重为1.15～1.25的碱性二氧化硅溶胶为晶种制成。本发明的双粒径二氧化硅溶胶的制备方法，具有方法简单、制备出的二氧化硅溶胶有较长的储藏期，适用于金属、半导体、存储器硬盘基片、化合物晶体、精密仪器等的化学机械抛光。
粒径二氧化硅溶胶及其制备方法

[发明专利]一种铈掺杂二氧化硅溶胶的制备方法-CN201110220443.8无效
发明人：李家荣;唐会明;徐功涛;马超 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2011-08-03 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种铈掺杂二氧化硅溶胶的制备方法，包括以下步骤：1）以离子交换法得到的不同粒径硅溶胶作为晶种，加入一定量的碱催化剂使得晶种的pH值控制在9-10内，升温60-90℃；2）将一定量的硝酸铈铵加纯水溶解成硝酸铈铵水溶液，备用；3)利用水浴加热，将步骤1）中的晶种伴随搅拌升温至60-90℃，加入一定量的硅粉，此后每隔30-45min加入一次一定量的硅粉和一定量步骤2）中配好的硝酸铈铵水溶液；4）按照步骤3）的加料方式，重复加入5-10次；5）加料完毕后，继续搅拌反应1-2h。本发明具有如下技术效果：1、生长周期短、工艺简单，能够应用于CMP技术粗抛过程的研磨抛光；2、对降低设备成本和安全生产十分有益；3、在抛光过程中对介质材料具有更高的去除速率。
一种掺杂二氧化硅溶胶制备方法

[发明专利]一种硅酸纯化方法-CN201110220439.1无效
发明人：刘锡林;徐功涛 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2011-08-03 - 公布日： 2012-01-11 - 主分类号： C01B33/113 文献下载
摘要：本发明提供了一种硅酸纯化方法，包括以下步骤：1）阳离子树脂的处理；2）阴离子树脂的处理；3）水玻璃溶液的配制；4)硅酸的制备；5）硅酸的酸化；6）第二次阳离子树脂处理；7）pH调节；8）硅酸的纯化。本发明的硅酸纯化方法，可将铝元素的去除率由6%提高到94%，将镁元素的去除率由27%提高到61.5%，将钙元素的去除率由40%提高到90%。用有机碱将纯化后的硅酸pH值调节至4，可避免使用无机碱与酸中和生成的盐造成硅酸凝胶，纯化后的硅酸金属杂质明显减少，增加了硅酸的稳定性，利于以硅酸为原料所进行的硅溶胶合成。
一种硅酸纯化方法

[发明专利]生活用水杀菌剂-CN201010537552.8无效
发明人：李家荣;刘锡林;吴亮 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2010-11-10 - 公布日： 2011-04-20 - 主分类号： C02F1/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种生活用水杀菌剂，按照重量百分比百分比包括下列组成部分：渗透剂1％～5％，无机碱2％～8％，表面活性剂5％～10％，消泡剂1％～10％和余量去离子水。本发明为一种弱碱性水基清洗剂，能够有效清除水中细菌以及微生物，通过本清洗剂清洗后的工业用水可以符合国家关于工业用水的各项标准要求；其腐蚀性小，是弱碱性而且不含有对人体有害的ODS物质，便于废弃清洗剂的处理排放，符合环境保护的要求；配方设计合理，制备工艺简单，成本较低。
生活用水杀菌剂

[发明专利]水基型轴承油垢清洗剂-CN201010538731.3无效
发明人：李家荣;刘锡林;吴亮 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2010-11-10 - 公布日： 2011-03-09 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种水基型轴承油垢清洗剂，按照重量百分比包括下列组成部分：磷酸盐3％～10％，表面活性剂5％～10％，pH值调节剂1％～6％，硅酸盐1％～5％和余量的去离子水，其中，所说的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺；所说的调节剂为氢氧化钠、氢氧化钾、多羟多胺或胺。对金属铝材料具有高效易清洗的功效，使金属轴承表面油污和锈斑清洗彻底，并能够防止表面再次形成锈斑，还能缩短清洗时间，提高工作效率；其为水溶性清洗剂，清洗后的废液便于处理排放，符合环保要求，且对设备的腐蚀性低，有效降低生产成本，使用安全可靠。
水基型轴承油垢洗剂

[发明专利]不锈钢除油剂-CN201010539808.9无效
发明人：李家荣;刘锡林;李鹏 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2010-11-10 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： C23G1/19 文献下载
摘要：本发明提供了一种不锈钢除油剂，按照重量百分比包括下列组成部分：有机溶剂5％～25％，缓蚀剂2％～5％，表面活性剂10％～25％，无机盐5％～10％，消泡剂1～3％和余量的去离子水，其中，所说的有机溶剂为溴代烃；所说的缓蚀剂为苯甲酸钠、苯甲酸铵、三乙醇胺、乙醇胺或苯并三氮唑；所说的表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种或多种；所说的无机盐为碱性盐；所说的消泡剂为磷酸三丁酯、有机硅、油酸或油酸钠。本发明的不锈钢除油剂能替代目前使用的ODS类清洗剂，即能达到ODS类清洗剂的清洗效果，对不锈钢表面无损伤，清洗效果明显，清洗数量大，对人体无伤害，制备方法简便，安全环保无污染。
不锈钢

[发明专利]排水管疏通缓蚀剂-CN201010538526.7无效
发明人：李家荣;周云昌;吴亮 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2010-11-10 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： C23G1/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种排水管疏通缓蚀剂，按照重量百分比包括下列组成部分：硝酸盐3％～10％，渗透剂1％～5％，表面活性剂5％～10％，有机碱3％～6％和余量的去离子水，其中，所说的硝酸盐为硝酸三钠、硝酸二钠、三聚硝酸钠、硝酸三钾或三聚硝酸钾；所说的渗透剂为碱性木质素磺酸钠或乙二醇醚类化合物；所说的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚和月桂酰单乙醇胺中的一种或多种；所说的有机碱为吡啶盐酸盐、麻黄碱或秋水仙碱。本发明对排水管路具有高效易清洗的功效，使排水管路表面油污和杂质清洗彻底，并能够防止排水管路表面再次形成锈斑，还能缩短清洗时间，提高工作效率；其为水溶性清洗剂，且对排水管路的腐蚀性低，有效降低生产成本，使用安全可靠。
排水管疏通缓蚀剂

[发明专利]水基印刷版清洗液-CN201010539821.4无效
发明人：李家荣;周云昌;王莎莎 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2010-11-10 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： C11D1/66 文献下载
摘要：本发明提供了一种水基印刷版清洗液，按照重量百分比百分比包括下列组成部分：无机盐1％～5％，增溶剂2％～8％，消泡剂1％～3％，表面活性剂5％～10％和余量的去离子水，其中，所说的无机盐为硫酸钠、硫酸二钠、多聚硫酸钠、磷酸三钾或三聚磷酸钾；所说的增溶剂为油酰单乙醇胺、油酰二乙醇胺、椰子酰单乙醇胺、椰子酰二乙醇胺、硬脂酰单乙醇胺或硬脂酰二乙醇胺；所说的消泡剂为丙二醇聚氧丙烯醚或甘油聚氧丙烯醚；所说的表面活性剂为聚乙二醇月桂酸脂或月桂酰单乙醇胺。本发明的水基印刷版清洗液对机械设备具有高效易清洗的功效，使机械设备表面油污和锈斑清洗彻底，并能够防止机械设备表面再次形成锈斑，还能缩短清洗时间，提高工作效率。
印刷清洗

[发明专利]手机玻璃镜片清洗剂-CN201010540143.3无效
发明人：李家荣;刘锡林;李鹏 -专利权人： 南通海迅天恒纳米科技有限公司
申请日： 2010-11-10 - 公布日： 2011-02-23 - 主分类号： C11D10/02 文献下载
摘要：本发明的手机玻璃镜片清洗剂，按照重量百分比包括下列组成部分：有机溶剂5％～10％，缓蚀剂2％～5％，表面活性剂5％～20％，无机盐5％～15％，消泡剂1～5％和余量的去离子水，其中，所说的有机溶剂为醇类溶剂，所说的缓蚀剂为苯甲酸钠、苯甲酸铵、三乙醇胺、乙醇胺或苯并三氮唑，所说的表面活性剂为烷基酚聚氧乙烯醚和脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种或多种，所说的无机盐为碱性盐，所说的消泡剂为消泡剂是磷酸三丁酯、有机硅、油酸、油酸钠。本发明的手机玻璃镜片清洗剂，能替代目前使用的碱性清洗剂，即能达到碱性清洗剂的清洗效果，对手机镜片无损伤，清洗效果明显，清洗数量大，对人体无伤害，制备方法简便，安全环保无污染。
手机玻璃镜片洗剂

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