专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种VDMOS器件-CN202021577536.7有效
  • 姜岩峰;李茹;姜淋馨 - 南京明尼晶磁电子科技有限公司
  • 2020-07-31 - 2021-05-28 - H01L29/78
  • 本实用新型公开了一种VDMOS器件,具有场板结构,该结构能够起到屏蔽与补偿可动离子的作用,仿真结果显示该结构能有效降低器件的表面电场强度。技术方案包括:N型芯片衬底,所述N型芯片衬底上设有至少两道P型沟槽,每道P型沟槽内设有N型栅区;栅极氧化层,覆盖于N型芯片衬底上,遮覆P型沟槽;栅极接触电极,覆盖于栅极氧化层上;场氧化层,覆盖于栅极接触电极上;源极接触电极,覆盖于场氧化层上,源极接触电极上设有凹陷,用于与有源区部分导电连通。
  • 一种vdmos器件
  • [实用新型]一种基于MTJ器件的神经信号放大器及脑机接口系统-CN202021329648.0有效
  • 姜岩峰;李茹;姜淋馨 - 南京明尼晶磁电子科技有限公司
  • 2020-07-08 - 2021-05-04 - H03F3/26
  • 本实用新型公开了一种基于MTJ器件的神经信号放大器及脑机接口系统,属于生物信号处理技术领域。该放大器设置了两条反馈回路,其中的伪电阻RH采用MTJ和MOS管组成,针对低于300Hz的频段内的信号,根据其幅值进行选择性的放大,即只对高脉冲的神经动作信号进行有效识别并放大。伪电阻RH采用MTJ和MOS管串联构成,缓解了MOS电流正负向不匹配的问题,噪声更低,减小了放大器的失真,还降低了对神经信号的干扰。由于伪电阻具有极高的电阻,电容C2不需要很大的面积就能实现一个很低的低频截止点,一定程度上减少了芯片面积,另外,本申请MTJ采用MEMS工艺直接制作在第四、五层金属中,也减少了芯片面积的占用。
  • 一种基于mtj器件神经信号放大器接口系统
  • [实用新型]一种新型高速光电耦合集成电路-CN202021329094.4有效
  • 姜岩峰;李茹;姜淋馨 - 南京明尼晶磁电子科技有限公司
  • 2020-07-08 - 2021-03-30 - H03K19/013
  • 本实用新型公开了一种新型高速光电耦合集成电路,由电流偏置电路、跨阻电路、比较器电路、整形缓冲电路依次级联;所述跨阻电路采用电流复用可控共源共栅跨阻,包括上下对称的两部分,每一部分包括:跨阻偏置电路、跨阻负反馈、电容,跨阻电路的输入级与电流偏置电路、跨阻负反馈连接,所述镜像电流电路与输入级之间连接有一交流耦合电容器;比较器电路包括:偏置电路,放大电路,比较器电路的输入级串联一个有源负载,输入端与放大电路连接;所述整形电路由两级反相器构成。本实用新型将电流复用的方法应用于RGC跨阻放大器,改善互阻性能并获得更高的响应度和整体系统转换增益,同时实现相同的系统带宽。
  • 一种新型高速光电耦合集成电路
  • [发明专利]一种基于MTJ器件的神经信号放大器-CN202010654203.8在审
  • 姜岩峰;李茹;姜淋馨 - 南京明尼晶磁电子科技有限公司
  • 2020-07-08 - 2020-09-25 - H03F3/26
  • 本发明公开了一种基于MTJ器件的神经信号放大器,属于生物信号处理技术领域。该放大器设置了两条放大器反馈回路,其中的伪电阻RH采用MTJ和MOS管组成,针对低于300Hz的频段内的信号,根据其幅值进行选择性的放大,即只对高脉冲的神经动作信号进行有效识别并放大。因为伪电阻RH采用MTJ和MOS管串联构成,所以缓解了MOS电流正负向不匹配的问题,噪声更低,减小了放大器的失真,还降低了对神经信号的干扰。由于伪电阻具有极高的电阻,电容C2不需要很大的面积就能实现一个很低的低频截止点,一定程度上减少了芯片面积,另外,本申请MTJ采用MEMS工艺直接制作在第四、五层金属中,也减少了芯片面积的占用。
  • 一种基于mtj器件神经信号放大器
  • [发明专利]一种VDMOS器件-CN202010763057.2在审
  • 姜岩峰;李茹;姜淋馨 - 南京明尼晶磁电子科技有限公司
  • 2020-07-31 - 2020-09-18 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种VDMOS器件及制备方法,具有场板结构,该结构能够起到屏蔽与补偿可动离子的作用,仿真结果显示该结构能有效降低器件的表面电场强度。技术方案包括:N型芯片衬底,所述N型芯片衬底上设有至少两道P型沟槽,每道P型沟槽内设有N型栅区;栅极氧化层,覆盖于N型芯片衬底上,遮覆P型沟槽;栅极接触电极,覆盖于栅极氧化层上;场氧化层,覆盖于栅极接触电极上;源极接触电极,覆盖于场氧化层上,源极接触电极上设有凹陷,用于与有源区部分导电连通。
  • 一种vdmos器件
  • [发明专利]一种新型高速光电耦合集成电路-CN202010649106.X在审
  • 姜岩峰;李茹;姜淋馨 - 南京明尼晶磁电子科技有限公司
  • 2020-07-08 - 2020-09-15 - H03K19/013
  • 本发明公开了一种新型高速光电耦合集成电路,由电流偏置电路、跨阻电路、比较器电路、整形缓冲电路依次级联;所述跨阻电路采用电流复用可控共源共栅跨阻,包括上下对称的两部分,每一部分包括:跨阻偏置电路、跨阻负反馈、电容,跨阻电路的输入级与电流偏置电路、跨阻负反馈连接,所述镜像电流电路与输入级之间连接有一交流耦合电容器;比较器电路包括:偏置电路,放大电路,比较器电路的输入级串联一个有源负载,输入端与放大电路连接;所述整形电路由两级反相器构成。本发明将电流复用的方法应用于RGC跨阻放大器,改善互阻性能并获得更高的响应度和整体系统转换增益,同时实现相同的系统带宽。
  • 一种新型高速光电耦合集成电路

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