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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]一种用于基板磨削的搬运装置和基板磨削装备-CN202311154280.7在审
发明人：路新春;李小娟;马旭;靳凯强;刘远航;赵德文 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司;华海清科股份有限公司
申请日： 2023-09-08 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于基板磨削的搬运装置和基板磨削装备，所述搬运装置包括固定座、摆臂和装载头，所述装载头设置于摆臂的端部并绕固定座摆动；所述装载头包括：导向轴，其竖向设置于所述摆臂的端部；第一吸盘，其滑动连接于所述导向轴；弹性件，其套设于导向轴的外侧并位于摆臂与第一吸盘之间；第二吸盘，其设置于导向轴的下端；装载基板时，下移的装载头使得第一吸盘抵接于基板，沿导向轴下移的第二吸盘抵接于基板，对第二吸盘抽真空以吸附基板；吸附有基板的装载头继续下移，使得第一吸盘和第二吸盘同时抵接于基板，对第一吸盘抽真空以吸附基板。
一种用于磨削搬运装置装备

[发明专利]一种晶圆刷洗装置-CN202311017745.4在审
发明人：张美美;请求不公布姓名;王鹏;请求不公布姓名 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-08-14 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆刷洗装置，其包括：箱体；夹持组件，其设置于箱体中，所述夹持组件夹持并带动待处理晶圆旋转；固定座，其设置于箱体中并位于夹持组件的外侧，其上转动连接有摆臂，刷洗组件设置于摆臂的端部并绕固定座摆动，所述刷洗组件包括：壳体；线圈，其设置于壳体的内侧；磁体，其滑动连接于线圈的内部；刷体，其连接于磁体的下部；所述线圈通入电流，使得磁体及其连接的刷体旋转，所述刷体能够竖向移动并对旋转的晶圆施加载荷。
一种刷洗装置

[实用新型]一种晶圆清洗装置-CN202320332363.X有效
发明人：王鹏;徐俊成;刘丰迪;张美美 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆清洗装置，其包括：夹持组件，其水平夹持并驱动晶圆旋转；刷洗组件，其设置于所述夹持组件的侧部；所述刷洗组件包括摆臂，所述摆臂能够摆动至夹持组件的上方，其上的清洗刷沿晶圆的半径方向摆动以刷洗晶圆；所述清洗刷随所述摆臂沿竖直方向移动并抵压于晶圆表面，并且，所述清洗刷能够绕竖向轴线转动以刷洗晶圆。
一种清洗装置

[发明专利]一种晶圆清洗装置-CN202310773372.7在审
发明人：请求不公布姓名;徐俊成;张美美;刘丰迪 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆清洗装置，其包括：槽体；夹持组件，其设置于槽体中，用于夹持并带动待清洗晶圆旋转；第一活动罩，其设置于所述夹持组件与槽体之间；第二活动罩，其设置于所述第一活动罩与槽体之间；所述槽体中竖向设置有环状的立板，其将槽体分隔为内腔和外腔，所述第一活动罩的下端朝向内腔设置，所述第二活动罩的下端朝向外腔设置，所述第一活动罩和第二活动罩能够沿竖向独立移动，以在夹持组件的外侧形成不同的腔室，晶圆清洗飞散的流体能够经由不同腔室排放至槽体的外部。
一种清洗装置

[发明专利]一种晶圆后处理装置-CN202310773373.1在审
发明人：徐俊成;请求不公布姓名;刘效岩 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆后处理装置，其包括：箱体；夹持组件，其设置于所述箱体中，用于夹持并带动晶圆旋转；固定罩，其环绕设置于夹持组件的外侧，所述固定罩的外周侧配置有第一排气孔；排风通道，其设置于所述箱体的外侧，所述排风通道与固定罩的第一排气孔相连通；所述箱体中的气体能够经由所述第一排气孔进入排风通道。
一种晶圆后处理装置

[发明专利]一种晶圆后处理装置、晶圆后处理方法和晶圆后处理装备-CN202310652502.1在审
发明人：张国铭;刘效岩;徐俊成 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-06-05 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆后处理装置、晶圆后处理方法和晶圆后处理装备，所述晶圆后处理装置包括：箱体；夹持组件，其设置于箱体中并水平夹持待处理晶圆，所述夹持组件能够带动晶圆绕中轴线旋转；清洗组件，其朝向待处理晶圆供给流体，以实现晶圆的清洗和/或干燥；第一防护组件，其设置于所述夹持组件的外周侧并能够沿竖向移动；所述第一防护组件包括护罩，所述护罩包括顶板和侧板，所述顶板为环状结构，所述侧板沿所述顶板的外沿向下延伸；所述顶板配置有多个匀流孔，以调节箱体中的流场，使得流体远离晶圆的边缘位置。
一种晶圆后处理装置方法装备

[发明专利]一种抛光液供应系统的使用方法-CN202310754694.7在审
发明人：张洪蛟;卢潇潇;徐俊成 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-06-26 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种抛光液供应系统的使用方法，其包括：按照质量配比或体积配比，向混液器通入抛光原液、化学液和超纯水，以形成预制抛光液；将混液器中的预制抛光液输送至供液器，在预制抛光液通入供液器之前开启加湿器，以对供液器内部进行保湿；通过循环装置和搅拌装置搅拌供液器中的预制抛光液，以通过供液管路为CMP系统提供至少一种抛光液。
一种抛光供应系统使用方法

[发明专利]一种晶圆翻转装置-CN202310173828.6在审
发明人：张美美;刘效岩;徐俊成 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆翻转装置，其包括：支撑组件，以支撑待翻转的晶圆；夹紧组件，其设置于所述支撑组件上方，以侧向夹紧待翻转的晶圆；翻转驱动组件，其连接于所述夹紧组件，以带动夹紧组件及其上的晶圆翻转；所述支撑组件包括多个支撑件，以处理多片待翻转的晶圆。
一种翻转装置

[实用新型]一种晶圆翻转装置-CN202320332440.1有效
发明人：张美美;刘效岩;徐俊成 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆翻转装置，其包括：支撑组件，以支撑待翻转的晶圆；夹紧组件，其设置于所述支撑组件上方，以侧向夹紧待翻转的晶圆；翻转驱动组件，其连接于所述夹紧组件，以带动夹紧组件及其上的晶圆翻转；所述支撑组件包括多个支撑件，以处理多片待翻转的晶圆。
一种翻转装置

[发明专利]一种晶圆清洗装置-CN202310173858.7在审
发明人：王鹏;徐俊成;刘丰迪;张美美 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆清洗装置，其包括：夹持组件，其水平夹持并驱动晶圆旋转；刷洗组件，其设置于所述夹持组件的侧部；所述刷洗组件包括摆臂，所述摆臂能够摆动至夹持组件的上方，其上的清洗刷沿晶圆的半径方向摆动以刷洗晶圆；所述清洗刷随所述摆臂沿竖直方向移动并抵压于晶圆表面，并且，所述清洗刷能够绕竖向轴线转动以刷洗晶圆。
一种清洗装置

[实用新型]一种晶圆夹持机构和晶圆清洗装置-CN202223233512.1有效
发明人：刘丰迪;徐俊成;王鹏 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆夹持机构和晶圆清洗装置，晶圆夹持机构包括：支撑盘；固定卡爪和活动卡爪，其设置于支撑盘的外沿；所述活动卡爪包括基座和夹持件，所述夹持件铰接于所述基座；所述夹持件配置有第一磁铁，所述第一磁铁位于铰接点的下侧；所述基座配置有第二磁铁，所述第二磁铁与第一磁铁的位置相对且相对面磁性相同，两者形成的磁斥力推动夹持件绕铰接点向内摆动，以夹持晶圆；以及移动件，其设置于支撑盘的外侧并能够沿竖直方向移动；所述移动件配置有第三磁铁，所述第三磁铁与第一磁铁的相对面磁性相同；当移动件的第三磁铁与所述第一磁铁位置相对时，所述第三磁铁与第一磁铁形成的磁斥力推动夹持件绕铰接点向外摆动，以释放晶圆。
一种夹持机构清洗装置

[发明专利]一种化学机械抛光头和抛光系统-CN202111209062.X有效
发明人：孟松林 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光头和抛光系统，所述化学机械抛光头包括联轴盘、承载盘、弹性膜和保持环，所述承载盘通过连接膜与所述联轴盘固定，所述弹性膜通过固定压环安装于所述承载盘的底部，所述保持环设置于所述弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部；还包括环状膜，其固定于承载盘的底部并位于弹性膜的上侧；加压后的环状膜抵压于所述弹性膜的顶部，以将环状膜施加的载荷经由弹性膜向下传递。
一种化学机械抛光抛光系统

[发明专利]一种化学机械抛光装置和抛光方法-CN202011396782.7有效
发明人：赵德文;郑广建 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2022-08-16 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学机械抛光装置和抛光方法，所述化学机械抛光装置包括抛光盘，其顶面配置有抛光垫；承载头，用以接收晶圆并将晶圆加载于所述抛光垫；温度调节部，其设置于抛光垫的上侧，以调节与抛光垫同心的环状区域的温度；承载头旋转并沿抛光垫的径向水平移动，以控制晶圆边缘部分与抛光垫的环状区域的接触时间，调节晶圆边缘部分的去除速率。
一种化学机械抛光装置抛光方法

[发明专利]晶圆清洗装置-CN202011153671.3有效
发明人：许振杰;王同庆 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： B08B1/02 文献下载
摘要：本发明公开了晶圆清洗装置，其包括：壳体；支撑组件，其位于所述壳体中，用于可旋转地支撑沿竖直方向设置的待清洗的晶圆；清洗刷，其平行、间隔设置并绕其轴线滚动；护板，其设置于所述清洗刷的上侧，以阻挡清洗刷滚动产生的流体溅落至晶圆表面。
清洗装置

[发明专利]晶圆清洗装置-CN202011153388.0有效
发明人：许振杰;王同庆 -专利权人： 华海清科（北京）科技有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： B08B1/02 文献下载
摘要：本发明公开了晶圆清洗装置，其包括：壳体；支撑组件，其位于所述壳体中，用于可旋转地支撑沿竖直方向设置的待清洗的晶圆；清洗刷，其平行、间隔设置并绕其轴线滚动；护板，其设置于所述清洗刷的上侧，以阻挡清洗刷滚动产生的流体溅落至晶圆表面。
清洗装置

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