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[发明专利]等离子体装置用部件及其制造方法-CN201480064902.X有效
发明人： 佐藤道雄;日野高志;中谷仁 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2014-11-26 - 公布日： 2018-04-13 - 主分类号： C23C24/04 文献下载
摘要：一种等离子体装置用部件，其是由基材和形成于该基材上的最表面的氮化铝覆膜构成的、且具有通过冲击烧结法而形成的包含粒径为1μm以下的微小粒子的氮化铝覆膜的等离子体装置用部件，上述基材由金属或陶瓷构成，上述等离子体装置用部件的特征在于，上述氮化铝覆膜的厚度为10μm以上，膜密度为90％以上，氮化铝覆膜的单位面积20μm×20μm中存在的能够确认晶界的氮化铝粒子的面积率为0～90％，而不能确认晶界的氮化铝粒子的面积率为10～100％。根据上述构成，能够提供具有对等离子体攻击及自由基攻击具有强耐受性的氮化铝覆膜的等离子体装置用部件及其制造方法。
等离子体装置部件及其制造方法

[发明专利]等离子体处理装置用部件和等离子体处理装置用部件的制造方法-CN201380030708.5有效
发明人： 佐藤道雄;日野高志;中谷仁 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2013-05-22 - 公布日： 2017-09-22 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供等离子体处理装置用部件，该部件包括基材；覆盖该基材的表面的底层；和覆盖该底层的表面的氧化钇膜，其中该底层包括具有35W/m·K以下的热导率的金属氧化物膜，该氧化钇膜含有至少由氧化钇制成的粒子状部或由氧化钇制成的非粒子状部，该粒子状部是在显微镜下观察到与粒界的外部划界的粒界的部分，该非粒子状部是在显微镜下没有观察到该粒界的部分，该氧化钇膜具有10μm以上的膜厚和96％以上的膜密度，在显微镜下观察该氧化钇膜的表面时，在20μm×20μm的观察范围中该粒子状部的面积覆盖率为0～20％，该观察范围中该非粒子状部的面积覆盖率为80～100％。
等离子体处理装置部件制造方法

[发明专利]耐等离子体部件、耐等离子体部件的制造方法以及耐等离子体部件的制造中使用的膜沉积装置-CN201580017990.2在审
发明人： 佐藤道雄;日野高志;中谷仁;中村隆 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2015-03-20 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： C23C4/18 文献下载
摘要：本发明的一个实施方式涉及耐等离子体部件以及耐等离子体部件的制造方法，其中，所述等离子体部件的氧化物覆盖膜是0.05～3μm的微小粒子彼此之间在部件基材表面烧结结合而成为多晶粒子、进而以该多晶粒子的聚集体的形式形成的氧化物沉积覆盖膜，膜厚为10μm～200μm，膜密度为90％以上。根据上述构成，可以得到能够稳定且有效地抑制源于覆盖膜的颗粒的发生、进而在再生处理中难以受到腐蚀或变形等损害的耐等离子体部件以及耐等离子体部件的制造方法。
等离子体部件制造方法以及使用沉积装置

[发明专利]等离子体蚀刻装置部件及其制造方法-CN201180066637.5有效
发明人： 佐藤道雄;日野高志;六反田贵史;中谷仁 -专利权人：株式会社东芝;东芝高新材料公司
申请日： 2011-11-29 - 公布日： 2013-10-09 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供等离子体蚀刻装置部件1，所述部件包括基材1和通过冲击烧结方法形成的、并构造为覆盖基材表面的氧化钇涂层20。所述氧化钇涂层20包含颗粒部分和非颗粒部分的至少一种。所述氧化钇涂层20的膜厚度为10μm或以上，并且膜密度为90%或以上。颗粒部分的面积覆盖率为0～80%而非颗粒部分的面积覆盖率为20～100%。
等离子体蚀刻装置部件及其制造方法

[发明专利]保持器-CN03826251.7有效
发明人：丹羽宽;小野田文幸;佐藤道雄;谷口明 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2003-08-22 - 公布日： 2006-04-12 - 主分类号： A61B1/00 文献下载
摘要：在保持器(20)上设置有：形成了方孔(21a)和卡止槽(21b)的固定部(21)；保持槽(22)，设置了让探测器(1)的中途部通过的缺口部(22a)；保持孔(23)，插通配置有探测器(1)的顶端部。保持槽(22)的深度尺寸形成为至少可以重叠配置2次中途部(1b)。缺口部(22a)的宽度尺寸形成为可以防止中途部(1b)脱落。保持孔(23)的上部(23a)设定有间隔(B)，以使保持孔(23)的上部(23a)位于保持槽(22)的底部(22c)的下侧。固定部(21)的方孔(21a)为卡入方形突起(31a)的结构。
保持

[发明专利]保持器-CN200410080601.4无效
发明人：丹羽宽;小野田文幸;佐藤道雄;谷口明 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2003-08-22 - 公布日： 2006-04-05 - 主分类号： A61B1/00 文献下载
摘要：在保持器(20)上设置有：形成了方孔(21a)和卡止槽(21b)的固定部(21)；保持槽(22)，设置了让探测器(1)的中途部通过的缺口部(22a)；保持孔(23)，插通配置有探测器(1)的顶端部。保持槽(22)的深度尺寸形成为至少可以重叠配置2次中途部(1b)。缺口部(22a)的宽度尺寸形成为可以防止中途部(1b)脱落。保持孔(23)的上部(23a)设定有间隔(B)，以使保持孔(23)的上部(23a)位于保持槽(22)的底部(22c)的下侧。固定部(21)的方孔(21a)为卡入方形突起(31a)的结构。
保持

[发明专利]真空成膜装置用部件及使用该部件的真空成膜装置及其觇板装置-CN200510052974.5有效
发明人： 佐藤道雄;中村隆;矢部洋一郎 -专利权人：东芝株式会社
申请日： 2000-12-28 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种真空成膜装置用部件，具有部件本体和形成于所述部件本体表面的喷镀膜。喷镀膜具有局部峰顶平均间隔S为50～150μm范围、最大谷深Rv和最大峰高Rp分别为20～70μm范围的表面粗糙度。喷镀膜具有从维氏硬度Hv30以下的Al系喷镀膜、维氏硬度Hv100以下的Cu系喷镀膜、维氏硬度Hv200以下的Ni系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Ti系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Mo系喷镀膜和维氏硬度Hv500以下的W系喷镀膜中选择的低硬度覆膜。采用这种真空成膜装置用部件，能在成膜工序中稳定而有效地抑制粘附在部件上的成膜材料的剥离，并能大幅度削减装置清洗及部件交换等的次数。觇板具有同样的喷镀膜。真空成膜装置将上述真空成膜装置用部件适用于被成膜试料保持部、成膜源保持部、防粘附部件等。
真空装置部件使用及其

[发明专利]碳膜覆盖部件-CN02142923.5有效
发明人： 佐藤道雄;山野边尚 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2002-08-21 - 公布日： 2003-05-21 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种低磨耗性、耐磨耗性、耐腐蚀性卓越的在恶劣条件下使用时也很少产生剥离、落尘、劣化，很少给半导体产品带来不良影响，并且耐久性卓越的碳膜覆盖部件。在基材2表面的至少一部分形成了无定形碳4构成的基体中含有金属和/或金属碳化物5的覆盖膜6的碳膜覆盖部件1中，构成上述覆盖膜的金属(M)与碳(C)的原子比(M/C)在0.01～0.7的范围内。
覆盖部件

[发明专利]真空成膜装置用部件及使用该部件的真空成膜装置及其觇板装置-CN00804326.4有效
发明人： 佐藤道雄;中村隆;矢部洋一郎 -专利权人：东芝株式会社
申请日： 2000-12-28 - 公布日： 2002-03-20 - 主分类号： C23C14/00 文献下载
摘要：一种真空成膜装置用部件,具有部件本体和形成于所述部件本体表面的喷镀膜。喷镀膜具有局部峰顶平均间隔S为50～150μm范围、最大谷深Rv和最大峰高Rp分别为20～70μm范围的表面粗糙度。喷镀膜具有从维氏硬度Hv30以下的Al系喷镀膜、维氏硬度Hv100以下的Cu系喷镀膜、维氏硬度Hv200以下的Ni系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Ti系喷镀膜、维氏硬度Hv300以下的Mo系喷镀膜和维氏硬度Hv500以下的W系喷镀膜中选择的低硬度覆膜。采用这种真空成膜装置用部件,能在成膜工序中稳定而有效地抑制粘附在部件上的成膜材料的剥离,并能大幅度削减装置清洗及部件交换等的次数。觇板具有同样的喷镀膜。真空成膜装置将上述真空成膜装置用部件适用于被成膜试料保持部、成膜源保持部、防粘附部件等。
真空装置部件使用及其

[发明专利]玻璃纤维原丝连续拉丝设备-CN86102213.0无效
发明人：河西新;川口裕;佐藤道雄 -专利权人：日东纺绩株式会社
申请日： 1986-04-02 - 公布日： 1992-02-26 - 主分类号： C03B37/03 文献下载
摘要：用于卷绕玻璃纤维原丝之拉丝机用的机头，而此种原丝则是从漏板式坩埚拉制出的一批玻璃单丝，经集束与涂敷上浸润剂所成。拉丝机的转台上以可旋转的方式设置有两个径向对称的机头，当处于卷绕位置的机头满卷装时，则此转台可将另一个机头换到此卷绕位置。机头的远端有一圆周形沟槽，由一平截头锥形的导丝面确定于机头的一侧，此导丝面在接近该沟槽底面沿轴向下凹，在此导丝面的下侧构成一带锐角的圆形板状件。
玻璃纤维连续拉丝设备

[其他]玻璃纤维原丝连续拉丝设备用的机头-CN86102213无效
发明人：河西新;川口裕;佐藤道雄 -专利权人：日东纺绩株式会社
申请日： 1986-04-02 - 公布日： 1987-03-04 - 主分类号： C03B37/03 文献下载
摘要：用于卷绕玻璃纤维原丝之拉丝机用的机头，而此种原丝则是从漏板式坩埚拉制出的一批玻璃单丝，经集束与涂敷上浸润剂所成。拉丝机的转台上以可旋转的方式设置有两个径向对称的机头，当处于卷绕位置的机头满卷装时，则此转台可将另一个机头换到此卷绕位置。机头的远端有一圆周形沟槽，由一平截头锥形的导丝面确定于机头的一侧，此导丝面在接近该沟槽底面沿轴向下凹，在此导丝面的下侧构成一带锐角的圆形板状件。
玻璃纤维连续拉丝备用机头

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