专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]显示装置-CN202280014889.1在审
  • 山崎舜平;冈崎健一;中村太纪;佐藤来 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2022-02-10 - 2023-10-03 - H05B33/22
  • 提供一种显示品质高的显示装置。提供一种可靠性高的显示装置。提供一种功耗低的显示装置。提供一种高清晰的显示装置。提供一种对比度高的显示装置。该显示装置包括第一绝缘层上的多个像素,其中,多个像素各自包括沿着第一绝缘层的开口部设置的第一导电层、第一导电层上的第二绝缘层、第一导电层上及第二绝缘层上的EL层以及EL层上的公共电极,第二绝缘层在第一导电层上并与第一导电层接触,且配置在EL层的下方,相邻像素的第一导电层隔着包含无机材料的第三绝缘层和包含有机材料的第四绝缘层分离,第一导电层的侧面和EL层的侧面具有与第三绝缘层接触的区域,并且,第四绝缘层在第三绝缘层上并与第三绝缘层接触,且配置在公共电极的下方。
  • 显示装置
  • [发明专利]显示装置-CN202280012780.4在审
  • 佐藤来;片山雅博;后藤尚人;中泽安孝;冈崎健一 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2022-01-28 - 2023-09-19 - G09F9/30
  • 提供一种高清晰显示装置。提供一种高开口率的显示装置。显示装置包括第一像素电极、第二像素电极、第一绝缘层、第二绝缘层、第一EL层、第二EL层及公共电极。第一绝缘层覆盖第一像素电极及第二像素电极的端部。第二绝缘层设置在第一像素电极、第二像素电极及第一绝缘层上,并覆盖第一绝缘层的端部。第一EL层设置在第一像素电极上,第二EL层设置在第二像素电极上。第一EL层的端部与第二EL层的端部彼此对置,并与第一绝缘层重叠。公共电极具有与第一EL层重叠的部分及与第二EL层重叠的部分。第一绝缘层包含有机树脂,第二绝缘层包含无机绝缘材料。
  • 显示装置
  • [发明专利]半导体装置-CN202180079563.2在审
  • 神长正美;井口贵弘;佐藤来 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2021-12-01 - 2023-09-01 - G02F1/1368
  • 提供一种电特性良好的半导体装置。提供一种可靠性高的半导体装置。提供一种电特性稳定的半导体装置。半导体装置包括半导体层、栅极绝缘层、栅电极、第一绝缘层、第二绝缘层及导电层。栅极绝缘层与半导体层的顶面及侧面接触,栅电极隔着栅极绝缘层具有与半导体层重叠的区域。第一绝缘层包含无机材料且与栅极绝缘层的顶面以及栅电极的顶面及侧面接触。栅极绝缘层及第一绝缘层在与半导体层重叠的区域具有第一开口。第二绝缘层包含有机材料且在第一开口的内侧具有第二开口。此外,第二绝缘层与第一绝缘层的顶面及侧面以及栅极绝缘层的侧面接触。导电层通过第二开口与半导体层电连接。
  • 半导体装置
  • [发明专利]显示装置、电子设备及显示装置的制造方法-CN202180082270.X在审
  • 中村太纪;佐藤来;小久保竜;安达广树 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2021-12-14 - 2023-08-22 - G02B5/20
  • 提供一种显示品质高的显示装置的制造方法。提供一种包括第一至第三绝缘体、第一、第二导电体以及第一、第二EL层的显示装置的制造方法。在第一绝缘体上形成第一导电体,在第一绝缘体上及第一导电体上形成第二绝缘体。在第二绝缘体中形成到达第一导电体的第一开口部。在第二绝缘体上及第一开口部的底面上形成牺牲层,在牺牲层上涂敷抗蚀剂。对抗蚀剂进行曝光及显影且在重叠于第一导电体的区域形成到达牺牲层的第二开口部。在第二开口部的底面的区域形成第三开口部,在抗蚀剂上、牺牲层上及第一导电体上形成第一EL层。然后,通过去除抗蚀剂及牺牲层,去除抗蚀剂上及牺牲层上的第一EL层。在第一EL层上及第二绝缘体上形成第二EL层,在第二EL层上依次形成第二导电体及第三绝缘体。
  • 显示装置电子设备制造方法
  • [发明专利]显示装置、显示模块及电子设备-CN202080012674.7在审
  • 初见亮;镰田太介;久保田大介;佐藤来;安达广树;山内谅;渡边一德 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2020-02-03 - 2021-09-10 - H05B33/02
  • 提供一种具有光检测功能的显示装置。该显示装置包括第一衬底、第二衬底、受光元件、发光元件、树脂层及遮光层。受光元件、发光元件、树脂层及遮光层各自位于第一衬底与第二衬底之间。受光元件包括第一衬底上的第一像素电极、第一像素电极上的活性层及活性层上的公共电极。发光元件包括第一衬底上的第二像素电极、第二像素电极上的第一发光层及第一发光层上的公共电极。树脂层及遮光层各自位于公共电极与第二衬底之间。树脂层包括与发光元件重叠的部分。遮光层包括位于公共电极与树脂层之间的部分。树脂层包括与受光元件重叠的开口或被设置为岛状。经过第二衬底的光的至少一部分入射到受光元件,而不经过树脂层。
  • 显示装置显示模块电子设备
  • [发明专利]半导体装置-CN201980065656.2在审
  • 佐藤来;神长正美;土桥正佳;白石孝;斋藤晓;中泽安孝 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2019-09-27 - 2021-05-14 - H01L29/786
  • 提供一种电特性的良好的半导体装置。提供一种可靠性高的半导体装置。本发明是一种半导体装置,包括半导体层、第一绝缘层、第二绝缘层、金属氧化物层以及导电层,其中第一绝缘层、金属氧化物层及导电层依次层叠在半导体层上,第一绝缘层的端部位于半导体层的端部的内侧,金属氧化物层的端部位于第一绝缘层的端部的内侧,导电层的端部位于金属氧化物层的端部的内侧。第二绝缘层优选以覆盖半导体层、第一绝缘层、金属氧化物层及导电层的方式设置。半导体层优选具有第一区域、一对第二区域以及一对第三区域,第一区域优选与第一绝缘层及金属氧化物层重叠,第二区域优选夹持第一区域与第一绝缘层重叠且不与金属氧化物层重叠,第三区域优选夹持第一区域及一对第二区域且不与第一绝缘层重叠,第三区域优选与第二绝缘层接触。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN201980014757.7在审
  • 中泽安孝;冈崎健一;大出贵之;佐藤来 - 株式会社半导体能源研究所
  • 2019-02-18 - 2020-10-02 - H01L21/336
  • 提供一种电特性良好的半导体装置。提供一种电特性稳定的半导体装置。利用包括如下工序的方法制造半导体装置。在绝缘层上形成含有金属氧化物的半导体膜的第一工序。在半导体膜上形成导电膜的第二工序。在导电膜上形成第一抗蚀剂掩模并通过对导电膜进行蚀刻形成第一导电层并使不被第一导电层覆盖的半导体膜的上表面露出的第三工序。形成覆盖第一导电层的上表面及侧面并覆盖半导体膜的上表面的一部分的第二抗蚀剂掩模,通过对半导体膜进行蚀刻形成半导体层并使不被半导体层覆盖的绝缘层的上表面露出的第四工序。
  • 半导体装置及其制造方法

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