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[发明专利]衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法-CN202111465867.0有效
发明人：王灵一;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-12-03 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请提供一种衍射光学元件及其制备方法、母版衍射图案的设计方法，涉及衍射光学技术领域，包括提供一透明基底；在透明基底的一侧表面通过第一母版形成第一光栅结构层；在形成有第一光栅结构层的透明基底上通过第二母版形成第二光栅结构层，其中，第一母版上的第一预设衍射图案和第二母版上的第二预设衍射图案不同，第一光栅结构层和第二光栅结构层中的至少一层为一维光栅结构层。第一光栅结构层和第二光栅结构层各自产生的点阵结合，形成预设的阵列点阵。采用双层光栅结构层后，分解后的点阵具备点阵少、形状规则等特征，大大降低了衍射光学元件设计与加工难度，获得高性能光束分束，保持二维点阵有较好的分束均匀性。
衍射光学元件及其制备方法母版图案设计

[发明专利]光学扩散片及其设计方法-CN202210149407.5在审
发明人：陶欢;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：一种光学扩散片及其设计方法，涉及光学技术领域。该光学扩散片包括基底和设于基底上的微透镜阵列；微透镜阵列包括多个无缝拼接的分区，每个分区包括至少一个微透镜，且当分区包括一个以上的微透镜时，相邻两个微透镜呈无缝拼接；其中，分区至少包括第一分区和第二分区，且第一分区的第一直径和第二分区的第一直径之比在0.1至0.85之间，第一直径为对应分区中所有的微透镜的外接圆的平均直径，第一分区为微透镜阵列中第一直径最小的分区，第二分区为微透镜阵列中第一直径最大的分区。该光学扩散片能够有效地消除衍射条纹，提高光斑的均匀性。
光学扩散及其设计方法

[实用新型]一种结构光投影光学元件和投影模组-CN202320261203.0有效
发明人：汪肇坤;王灵一;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03B15/02 文献下载
摘要：本申请提供一种结构光投影光学元件和投影模组，涉及成像技术领域，包括：透明基底，透明基底上依次设置有菲涅尔结构层、填充层和衍射层，菲涅尔结构层的折射率大于衍射层的折射率，填充层和衍射层的材料相同。菲涅尔结构层和填充层共同组成菲涅尔透镜，以具备准直作用；衍射层位于填充层之上，填充层和衍射层的材料相同，起到衍射作用。光先通过衍射层，再通过菲涅尔透镜，在保证本申请实施例提供的结构光投影光学元件依旧具备准直和衍射功能的前提下，能够提高模组的对位精度，降低组装成本，有利于投影模组的小型化。加工难度和可靠性与常规的衍射光学元件相同，结构具有更高的工作温度、更广的适用范围，以及更高的生产良率。
一种结构投影光学元件模组

[发明专利]一种菲涅尔透镜及其制备方法-CN202211254498.5在审
发明人：汪肇坤;程桂亮;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G02B3/08 文献下载
摘要：本申请提供一种菲涅尔透镜及其制备方法，涉及光学技术领域，包括透明基底，所述透明基底上设置有菲涅尔结构层，所述菲涅尔结构层包括多个台阶结构，每个所述台阶结构包括沿厚度方向设置的多个同心台阶，所述菲涅尔结构层上设置有多个沿所述厚度方向贯穿所述菲涅尔结构层的沟槽，所述沟槽的一端延伸至所述菲涅尔结构层的边缘、另一端向所述菲涅尔结构层的中心延伸。多个沟槽将菲涅尔结构层分割为多个区域，使得多个区域之间通过沟槽形成间隔，这样在制备菲涅尔透镜时，残余压印胶能够顺着沟槽向外排出，减少了胶水残留，避免压印过程中的气泡产生，能大幅提高菲涅尔透镜的制备良率。
一种菲涅尔透镜及其制备方法

[发明专利]一种结构光发射模组和三维成像装置-CN202011328146.0在审
发明人：陈柯有;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本发明提供一种结构光发射模组和三维成像装置，属于三维成像技术领域，包括以及沿主光轴依次设置的准直透镜和光束整形器，所述光源包括非相干的点阵光源或非相干的面光源，所述准直透镜的数值孔径大于0.5，以在所述光束整形器的出光侧形成具有光束叠加的图案。光源和准直透镜形成骨架斑点，准直透镜可以准直大角度斜入射的发散光束，光束整形器对骨架斑点进行复制或均匀化，以增加骨架斑点的密度，达到接近面光源的效果，形成光束叠加的图案。这样一来，依靠准直透镜形成大角度偏折光束的效果，不需额外对光束整形器提出高的限制要求，降低了对光束整形器的要求，提升了容差能力，易于模组集成。
一种结构发射模组三维成像装置

[发明专利]一种压印母版及其制备方法-CN202011159005.0在审
发明人：徐世敏;程桂亮;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2020-10-26 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种压印母版及其制备方法，涉及微纳加工技术领域，包括：基底，在基底上设置有图案化结构，在图案化结构的刻蚀槽内的底壁和侧壁上设置有压印疏水膜层；压印疏水膜层的材质为含氟聚合物；图案化结构为硅基材质，且硅基材质中硅元素的质量分数为10％至100％；或，图案化结构为钼基材质，且钼基材质中钼元素的质量分数为10％至100％。从而能够使得图案化结构的每一个刻蚀槽内均对应形成致密的含氟聚合物，有效的避免了阴影效应导致的成膜质量较差的现象，同时，含氟气体的来源较为广泛，有效的降低制造压印母版的成本，便于后续压印成品的顺利脱模。
一种压印母版及其制备方法

[实用新型]一种偏振器-CN202122638109.6有效
发明人：李鹏;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种偏振器，涉及光学元件技术领域，本实用新型的偏振器,包括基底以及与基底层叠设置的折射率匹配层，折射率匹配层上背离基底的一侧设置有光栅层，光栅层包括多个相互平行且间隔设置的光栅片，折射率匹配层的等效折射率介于光栅层的等效折射率和基底的折射率之间。本实用新型提供的偏振器，能够有效的提高偏振器的透过效率，在同等周期条件下，偏振器的光效更好；在同样的光效要求下，光栅片的周期更大，加工难度显著降低。
一种偏振

[发明专利]灰度光刻的光强矫正方法、装置、设备及存储介质-CN202010992050.8在审
发明人：任常旭;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2020-09-21 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种灰度光刻的光强矫正方法、装置、设备及存储介质，属于灰度光刻技术领域。灰度光刻的光强矫正方法，包括：获取刻蚀图像中预设区域内坐标点的坐标值以及对应于各坐标值的实测深度值，其中，刻蚀图像为根据设计图像刻蚀后的实际图像，预设区域与设计图像上预设的采样区域相对应；获取设计图像中采样区域内坐标点的坐标值及对应于各坐标值的设计深度值和灰度值；根据坐标值及其对应的设计深度值、灰度值以及实测深度值分别计算确定各灰度值与矫正光强值之间的映射关系。能够对灰度光刻制程中灰度值与光强间的映射关系进行矫正，从而提高最终得到的刻蚀图像的精度。
灰度光刻矫正方法装置设备存储介质

[发明专利]一种光学扩散片及光发射模组-CN202111062075.9在审
发明人：陶欢;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G02B5/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种光学扩散片及光发射模组，涉及光学成像技术领域，本发明的光学扩散片，包括基底层和设置在基底层上的结构层，结构层包括微透镜组，微透镜组包括多个相互连接的微透镜，多个微透镜能够对光束方向偏折调制。本发明提供的光学扩散片，能够使照射在其上的光束发生偏折，在一束垂直入射的光束照射下，光学扩散片可以使发散光倾斜出射，实现更灵活的光束整形效果。
一种光学扩散发射模组

[发明专利]一种超表面光学元件及设计方法、结构光投影模组-CN202110980167.9在审
发明人：汪肇坤;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请提供一种超表面光学元件及设计方法、结构光投影模组，涉及光学技术领域，包括：基底，设置于基底上的多个通过传输相位调制入射光束的纳米天线，至少两个纳米天线的尺寸不同且多个纳米天线阵列分布于基底，相邻两个纳米天线的中心间距相同，每个纳米天线的传输相位为准直相位和衍射相位的叠加。如此，便可以使得形成的超表面光学元件能够同时具有准直和衍射功能，即将准直元件和衍射元件进行集成，有效降低了现有准直和衍射独立为两个光学元件所占用的空间，同时，由于取消了准直元件和衍射元件的对位装配，因此，能够有效降低其所导致的对位误差。
一种表面光学元件设计方法结构投影模组

[发明专利]一种超表面光学元件及设计方法、结构光投影模组-CN202110980751.4在审
发明人：汪肇坤;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-08-25 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本申请提供一种超表面光学元件及设计方法、结构光投影模组，涉及光学技术领域，包括：基底，设置于基底上的多个通过几何相位调制入射光束的纳米天线，多个纳米天线的形状、尺寸均相同，且多个纳米天线阵列分布于基底，部分纳米天线的相位不同，每个纳米天线的相位均为准直相位和衍射相位的叠加。使得超表面光学元件能够在光束在入射纳米天线时，对其同时实现准直和衍射的功能，即将准直元件和衍射元件进行集成，有效降低了现有准直和衍射独立为两个光学元件所占用的空间，同时，由于取消了准直元件和衍射元件的对位装配，因此，能够有效降低其所导致的对位误差。
一种表面光学元件设计方法结构投影模组

[实用新型]红外3D探测发射端模组及深度相机-CN202120924254.8有效
发明人：陈柯有;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-11-05 - 主分类号： G03B15/05 文献下载
摘要：一种红外3D探测发射端模组及深度相机，涉及光学及电子技术领域。该红外3D探测发射端模组包括光源组和依次沿光源组的出光方向设置的准直镜和光束整形器，其中，准直镜上划分有至少两个第一光学区域，光源组包括至少两组，每组光源组与一个第一光学区域对应；光源组用于朝向对应的第一光学区域发射光束；准直镜通过第一光学区域对光束进行准直和偏转，以呈预设角度出射平行光束；光束整形器用于对自第一光学区域出射的光束进行整形，并将整形后的整形光束投射至待测物体上。该红外3D探测发射端模组能够提升红外3D探测发射端模组的集成度，进而缩小红外3D探测发射端模组的整体体积。
红外探测发射模组深度相机

[实用新型]一种光学元件及光学模组-CN202120741281.1有效
发明人：陶欢;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本申请公开了一种光学元件及光学模组，涉及光学技术领域。该光学元件包括透明基底、阵列微透镜层和菲涅尔透镜层，所述阵列微透镜层和所述菲涅尔透镜层在所述透明基底上层叠设置，或，所述阵列微透镜层和所述菲涅尔透镜层分别位于所述透明基底的相对两侧，其中，所述菲涅尔透镜层用于调节入射的光束的出射角度，所述随机阵列微透镜层用于对由所述菲涅尔透镜层出射的光束进行匀化处理。能够调整光束方向和光强分布，并减小占用空间。
一种光学元件模组

[发明专利]红外3D探测发射端模组及深度相机-CN202110479233.4在审
发明人：陈柯有;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2021-04-29 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： G03B15/05 文献下载
摘要：一种红外3D探测发射端模组及深度相机，涉及光学及电子技术领域。该红外3D探测发射端模组包括光源组和依次沿光源组的出光方向设置的准直镜和光束整形器，其中，准直镜上划分有至少两个第一光学区域，光源组包括至少两组，每组光源组与一个第一光学区域对应；光源组用于朝向对应的第一光学区域发射光束；准直镜通过第一光学区域对光束进行准直和偏转，以呈预设角度出射平行光束；光束整形器用于对自第一光学区域出射的光束进行整形，并将整形后的整形光束投射至待测物体上。该红外3D探测发射端模组能够提升红外3D探测发射端模组的集成度，进而缩小红外3D探测发射端模组的整体体积。
红外探测发射模组深度相机

[实用新型]一种结构光发射模组和三维成像装置-CN202022747708.7有效
发明人：陈柯有;伍未名;刘风雷 -专利权人：浙江水晶光电科技股份有限公司
申请日： 2020-11-24 - 公布日： 2021-07-09 - 主分类号： G02B27/09 文献下载
摘要：本实用新型提供一种结构光发射模组和三维成像装置，属于三维成像技术领域，包括以及沿主光轴依次设置的准直透镜和光束整形器，所述光源包括非相干的点阵光源或非相干的面光源，所述准直透镜的数值孔径大于0.5，以在所述光束整形器的出光侧形成具有光束叠加的图案。光源和准直透镜形成骨架斑点，准直透镜可以准直大角度斜入射的发散光束，光束整形器对骨架斑点进行复制或均匀化，以增加骨架斑点的密度，达到接近面光源的效果，形成光束叠加的图案。这样一来，依靠准直透镜形成大角度偏折光束的效果，不需额外对光束整形器提出高的限制要求，降低了对光束整形器的要求，提升了容差能力，易于模组集成。
一种结构发射模组三维成像装置

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