专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]供液装置、涂布装置、老化装置及供液方法-CN202111579161.7在审
  • 芳川典生;伊藤隆介;前向正刚 - 株式会社斯库林集团
  • 2021-12-22 - 2022-09-09 - B05C11/10
  • 本发明提供一种能够恰当地把握适用于高粘度处理液的过滤的过滤器的寿命或老化程度的技术。供液单元(10)是一种供给高粘度的处理液的装置。供液单元(10)具有:供给罐(11)、供液口(19)、第一供液配管(12)和第二供液配管(14)、加压机构(15)、第二过滤器(F2)、测量模块(174)。供液单元能够贮存高粘度的处理液。供液口向供给对象供给处理液。第一供液配管和第二供液配管连接供给罐和供液口。加压机构用于从供给罐向供液口输送处理液。第二过滤器配置在第二供液配管,并过滤处理液。测量模块在第二过滤器的下游侧的位置对通过了第二过滤器的处理液中的颗粒量进行测量。
  • 装置老化方法
  • [发明专利]处理装置、处理系统以及处理方法-CN201910504522.8有效
  • 芳川典生;水野博喜;伊藤隆介;后藤顺一;川上刚史;广瀬干也 - 株式会社斯库林集团
  • 2019-06-12 - 2022-03-22 - H01L21/67
  • 本发明提供处理装置、处理系统以及处理方法。本发明提供一种技术,当对粘度高的液体进行过滤时,在过滤器的使用开始时,抑制异物从过滤器的脱离。所述处理装置是用于对用来过滤高粘度处理液的过滤器进行处理的处理装置。处理装置包括:循环配管,使处理液循环;送液机构,使循环配管内产生处理液的流动;以及安装机构及异物去除过滤器,介插在循环配管的流路途中。安装机构装卸自如地安装过滤器。若使用如上所述的处理装置来进行过滤器的时效处理,则循环使用处理液,从而能够降低处理液的消耗量。而且,能够利用与安装过滤器的装置独立的装置来去除从过滤器脱离的异物,因此不需要中断安装目标装置中的处理。
  • 处理装置系统以及方法
  • [发明专利]供给装置、涂覆装置以及供给方法-CN201910525682.0有效
  • 芳川典生;水野博喜;瀬川邦彦;伊藤隆介;后藤顺一 - 株式会社斯库林集团
  • 2019-06-18 - 2022-02-11 - B05C5/02
  • 本发明提供一种能够效率良好地去除粘度高的液体中的溶解气体的供给装置、包括所述供给装置的涂覆装置、以及供给方法。所述供给装置(30)是用于将高粘度的处理液供给至供给目标(22)的供给装置。所述供给装置(30)包括对贮存处理液的槽(31)与所述供给口(320)进行流路连接的送液配管(32)、以及从下游侧依序介插在送液配管中的主泵(33)、脱气单元(34)、辅助泵(35)及过滤器(36)。辅助泵(35)在脱气单元(34)的上游侧,朝向脱气单元对处理液进行加压。脱气单元具有收容在壳体内部的多个中空纤维膜、及对中空纤维膜的外侧空间进行减压的减压机构。由此,能够效率良好地去除粘度高的处理液中的溶解气体,并且能够使装置小型化。
  • 供给装置以及方法
  • [发明专利]涂布装置-CN201510053016.3有效
  • 伊藤隆介;高村幸宏;相良秀一;大宅宗明 - 斯克林集团公司
  • 2015-02-02 - 2017-09-22 - B05C5/00
  • 本发明提供一种涂布装置,在利用涂布液供给管对移动的喷嘴输送涂布液的构成中,可减少从喷嘴喷出的涂布液的流量紊乱。相对地固定配置于涂布单元(50)的配管(832~834)是沿着与涂布单元(50)的移动方向(X方向)正交的YZ面内而配设。因此,可有效防止如下情况因由往返移动所引起的惯性力,而导致在配管(832~834)的内部流动的涂布液产生流路方向的压力变动。另外,因为配管(832、833)作为压力变动吸收部发挥功能,所以可吸收在所述配管的内部流动的涂布液的压力变动。如此,能够使压力变动已减少的涂布液从连接于配管(834)的喷嘴喷出。
  • 装置
  • [发明专利]基板处理装置以及处理液赋予方法-CN201210210429.4有效
  • 大宅宗明;高村幸宏;相良秀一;伊藤隆介 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2012-06-20 - 2013-03-27 - C03C17/00
  • 本发明提供一种能够抑制从移动的喷嘴喷出的处理液的流量发生变动的技术。基板处理装置具有:基板保持部,其将基板保持为大致水平;主扫描机构,其具有沿着大致平行于基板的主扫描方向延伸的主扫描机构引导部、被主扫描机构引导部支撑且能够沿着主扫描方向移动的滑块;喷出部,其被滑块支撑且能够沿着主扫描方向移动,并用于向基板喷出涂敷液;挠性的涂敷液配管,其与喷出部连接且向喷出部引导涂敷液;可动配管支撑部,其支撑涂敷液配管的非端部部分,并且可动配管支撑部的朝向随着主扫描的反复进行引起的滑块周期性运动而周期性地变化。
  • 处理装置以及赋予方法
  • [发明专利]涂敷装置-CN201210194033.5有效
  • 相良秀一;高村幸宏;伊藤隆介;大宅宗明 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2012-06-13 - 2013-03-06 - B05C11/10
  • 本发明提供一种涂敷装置,涂敷装置即使在通过挠性的涂敷液供给管,从涂敷液贮存部向进行往复移动的喷嘴输送涂敷液的情况下,也能够将涂敷液的流量维持恒定来均匀地涂敷涂敷液。压力变动吸收机构(70)具有压力吸收部(71)和流量抑制部(72)。压力吸收部(71)由薄壁的树脂制的软管(73)构成,通过随着从涂敷液供给管(64)输送的涂敷液的压力变动而发生弹性变形来使涂敷液容置部的体积变化。另外,流量抑制部(72)由内径比涂敷液供给管(64)的内径和软管(73)的内径小即具有更小的节流孔厚壁的树脂制的硬管(74)构成。
  • 装置

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