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[发明专利]基片处理方法和基片处理装置-CN202310209034.0在审
发明人：依田悠;天野洋一;伊藤毅;若林孝德;安友淳志;松井久;宫内国男 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：本发明提供将附着于基片的物质高效地除去的基片处理方法和基片处理装置。基片处理方法进行基片的后处理，上述基片具有金属膜，并利用含氯的蚀刻等离子体对上述金属膜实施了蚀刻处理，上述基片处理方法包括：步骤a，将上述基片送入用于进行上述后处理的后处理腔室，并载置于配置在上述后处理腔室的内部的载置台；步骤b，对上述后处理腔室供给水蒸气，对上述基片实施利用上述水蒸气的处理；和步骤c，对上述后处理腔室从设置于上述后处理腔室的外部的后处理等离子体源供给后处理等离子体，对上述基片实施利用上述后处理等离子体的处理。
处理方法装置

[发明专利]光源装置及具备该光源装置的内窥镜系统-CN202180090362.2在审
发明人：龟江宏幸;伊藤毅;西尾真博;田中哲史 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： H05B45/22 文献下载
摘要：提供一种即使发光元件的光量发生变化也能够维持理想色彩平衡的光源装置。光源装置(1)具有：多个发光元件；光学系统(4)，其对来自多个发光元件的光进行合成；波长选择滤波器(5)，其位于光学系统(4)的光路上；以及光传感器(6)，其经由光学滤波器(7)接收来自多个发光元件中的一个发光元件(2)的光，光学滤波器(7)具有与波长选择滤波器(5)的波长选择特性对应的波长选择特性。
光源装置具备内窥镜系统

[发明专利]机器人装置以及控制方法-CN202310208436.9在审
发明人：大坪直幸;吉野胜彦;片冈泰宏;大和义英;石丸裕二;伊藤毅 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B25J11/00 文献下载
摘要：本发明提供机器人装置以及控制方法，实现省空间化。机器人装置具有门开闭机器人和控制门开闭机器人的控制装置。门开闭机器人具有基台、第1臂、第2臂、第3臂以及设置有能够保持安装于车身的门的工具的第4臂。门开闭机器人配置在车身的侧面与室侧壁之间。控制装置构成为依次执行如下控制：门打开控制，在输送线上的比第1轴靠上游处，以工具打开门的方式控制门开闭机器人；门追随控制，在沿着输送线输送车身的期间，以维持将门打开的状态的方式控制门开闭机器人；以及门关闭控制，在输送线上的比第1轴靠下游处，以工具关闭门的方式控制门开闭机器人。
机器人装置以及控制方法

[发明专利]门开闭机器人以及门开闭系统-CN202310211912.2在审
发明人：石丸裕二;宫园义彰;伊藤毅;吉野胜彦;大坪直幸 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B25J11/00 文献下载
摘要：本发明提供门开闭机器人以及门开闭系统，实现省空间化。门开闭机器人具有：基台，其设置于与输送车身的输送线不同的位置；第1臂，其以绕第1轴旋转的方式安装于基台，并向远离第1轴的方向延伸；第2臂，其以绕与第1轴平行的第2轴旋转的方式安装于第1臂，并向远离第2轴的方向延伸；第3臂，其以绕与第1轴平行的第3轴旋转的方式安装于第2臂，并向远离第3轴的方向延伸；以及第4臂，其以沿着上下方向延伸的方式安装于第3臂，使能够保持安装于车身的门的工具沿着上下方向移动。包含第2臂的末端部和第3臂的基端部的连结部的至少一部分与基台的至少一部分位于相同的高度。
开闭机器人以及系统

[发明专利]记录介质、动态解析系统以及动态解析装置-CN202310072794.1在审
发明人： 伊藤毅 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2023-02-07 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明的动态解析服务器(10)具备：保存部，保存对通过对被检者进行基于放射线的动态拍摄而得到的动态图像进行动态解析的动态解析算法；接收部，从第一数据收集装置(例如，A医院的数据收集服务器40)接收第一数据集，从第二数据收集装置(例如，B医院的数据收集服务器40)接收第二数据集，第一数据集包含对第一被检者进行动态拍摄而得到的第一动态图像、和通过对第一被检者的动态拍摄以外的第一检查而得到的信息，第二数据集包含对第二被检者进行动态拍摄而得到的第二动态图像、和通过对第二被检者的动态拍摄以外的第二检查而得到的信息；以及学习部，基于第一数据集和第二数据集，修正动态解析算法。
记录介质动态解析系统以及装置

[发明专利]花粉破裂抑制用组合物-CN202310415424.3在审
发明人：松原唯;伊藤毅;河畑昌宏 -专利权人：参天制药株式会社
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： A61K33/22 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供能够作为药学上允许的有效成分配合的花粉破裂抑制用组合物及花粉破裂的抑制方法。本发明为以选自由硼酸或其盐、乙二胺四乙酸或其盐、以及双氯苯双胍己烷或其盐组成的组中的至少一者作为有效成分的花粉破裂抑制用组合物。
花粉破裂抑制组合

[发明专利]树脂成型物品制造方法和树脂成型物品-CN202080011738.1有效
发明人：田中裕也;笠原朋树;守田清史;井上孝启;伊藤毅 -专利权人：松下知识产权经营株式会社
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： B29C39/12 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种易于使期望的图案出现的树脂成型物品制造方法和树脂成型物品。用于制造树脂成型物品1的方法是使用具有带有多个凹部3的成型表面20的模具2的方法。该制造方法包括注射步骤、固化步骤和基底形成步骤。注射步骤包括将树脂组合物4注入到多个凹部3中。固化步骤包括使注入到多个凹部3中的树脂组合物4固化。基底形成步骤包括将树脂组合物5注入模具2中以覆盖成型表面20并固化树脂组合物5。树脂组合物5具有与树脂组合物4的组成不同的组成。
树脂成型物品制造方法

[发明专利]使用了金属基材的排气净化装置及其制造方法-CN201880069346.3有效
发明人：高崎孝平;松久悠司;板东伸晃;大野弘志;水上友人;伊藤毅 -专利权人：株式会社科特拉
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： B01J35/04 文献下载
摘要：本发明提供通过将贵金属催化剂高效率地担载于排气的接触概率高的区域而具有高净化性能的排气净化装置及其制造方法。本发明涉及一种排气净化装置，是具备金属基材和所述金属基材上的催化剂层的排气净化装置，所述金属基材是1个或多个的金属箔的卷绕体，所述1个或多个的金属箔的卷绕体中的至少一者是具有孔的开孔金属箔的卷绕体，所述催化剂层包含贵金属催化剂粒子和担载所述贵金属催化剂粒子的载体，与朝向排气流动的下游侧的孔的侧面的所述催化剂层相比，朝向排气流动的上游侧的孔的侧面的所述催化剂层具有较多的所述贵金属催化剂粒子。
使用金属基材排气净化装置及其制造方法

[发明专利]涂装机器人以及涂装系统-CN202211183637.X在审
发明人：今野刚志;伊藤毅;宫园义彰 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： B05B13/04 文献下载
摘要：问题提高向工件的接近性。解决方案涂装机器人具备基台、回转基座、下臂、上臂以及腕部。基台固定于设置面。回转基座以基端侧支承于基台的上表面侧的方式绕沿着竖直方向的第一轴回转。下臂以基端侧支承于回转基座的方式绕与第一轴垂直的第二轴回转。上臂以基端侧支承于下臂的顶端侧的方式绕与第二轴平行的第三轴回转。腕部是基端侧支承于上臂的顶端侧并能供末端执行器安装于顶端侧的三轴结构。上臂具备基端侧的第一上臂和顶端侧的第二上臂。第二上臂绕与第三轴平行的第四轴回转，并且第二上臂的臂长比第一上臂的臂长长且比第一上臂的臂长的两倍短。
装机以及系统

[发明专利]基片水蒸气处理方法和基片水蒸气处理系统-CN202210878179.5在审
发明人：若林孝德;伊藤毅;安友淳志 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-07-25 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：本发明提供能够更加稳定地进行利用水蒸气的基片处理的基片水蒸气处理方法和基片水蒸气处理系统。基片水蒸气处理方法在处理容器中对基片实施利用水蒸气的处理。在处理容器中连接有至少包括贮水罐和汽化器的供给部以及至少包括气液分离部的排出部。基片水蒸气处理方法包括：贮水罐中贮存液水的贮存步骤；将转送通路的气体除去的气体除去步骤；在汽化器中生成水蒸气的水蒸气生成步骤；对基片实施利用水蒸气的处理的水蒸气处理步骤。基片水蒸气处理方法包括：将从处理容器排出的排出物分离为排气与排液的排出物分离步骤；以及将排气和排液分别进行排出的排气排液排出步骤。
水蒸气处理方法系统

[发明专利]光源装置、内窥镜系统及光源装置的控制方法-CN201880098007.8有效
发明人：正木隆浩;西尾真博;桥本进;田中哲史;伊藤毅 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2018-09-27 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： H05B45/30 文献下载
摘要：一实施方式的光源装置具备：放射与施加电流相应的光量的光的半导体光源；基于所输入的控制信息来决定电流指示值的控制部；与半导体光源及控制部连接且能够向半导体光源输出与电流指示值对应的大小的电流的第1驱动部；以及与半导体光源及控制部连接且能够向半导体光源输出与电流指示值对应的大小的电流的第2驱动部。第1驱动部输出的最小电流值小于第2驱动部输出的最小电流值。第1驱动部输出的最大电流值小于第2驱动部输出的最大电流值，并且大于第2驱动部输出的最小电流值。
光源装置内窥镜系统控制方法

[发明专利]控制系统、监视装置、监视方法以及程序-CN201980097082.7有效
发明人：石津谦生;田畑壱;中田达也;菊池健太;伊藤毅 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2019-06-11 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本公开的一个方面的控制系统具备：排出控制部，以将涂料从排出部排出的方式控制涂布装置；机器人控制部，通过多关节机器人以将排出部所排出的涂料涂布于工件的方式变更排出部的位置和姿势；涂布异常检测部，基于涂布装置的状态和多关节机器人的状态中的至少一方来检测涂料的涂布状态的异常；涂布位置计算部，基于多关节机器人的状态来计算涂料从排出部向工件的涂布位置；以及异常通知部，基于涂布状态的异常的检测结果和涂布位置的计算结果来通知工件的涂布状态的异常的产生部位。
控制系统监视装置方法以及程序

[发明专利]废气净化用催化剂-CN202210808443.8在审
发明人：尾上亮太;坂神新吾;伊藤毅;竹内雅彦;三好直人;佐藤明美 -专利权人：株式会社科特拉;丰田自动车株式会社
申请日： 2015-10-07 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： B01J35/04 文献下载
摘要：本发明提供一种可以抑制压力损失的增高、并且废气净化性能优异的废气净化用催化剂。废气净化用催化剂(10)具备：具有分隔壁(26)的壁流构造的基材；第一催化剂层(261)，其在分隔壁(26)内部的与入侧室(24)相接的区域，从废气流入侧的端部(24a)沿分隔壁(26)的延伸方向，以比分隔壁(26)的全长(Lw)短的长度形成；和第二催化剂层(262)，其在分隔壁(26)内部的与出侧室(25)相接的区域，从废气流出侧的端部(25a)沿分隔壁(26)的延伸方向，以比分隔壁(26)的全长(Lw)短的长度形成。在上述延伸方向上，第一催化剂层(261)与第二催化剂层(262)部分相互重叠地构成。
废气净化催化剂

[发明专利]光源装置、内窥镜系统以及照明控制方法-CN201780091906.0有效
发明人： 伊藤毅 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： A61B1/07 文献下载
摘要：内窥镜系统(100)具有镜体(200)和向所述镜体供给照明光的照明光供给装置(302)。所述镜体具备：取得观察对象物的图像的摄像单元(220)；朝向观察对象物射出照明光的照明光射出单元(210)；以及将所供给的照明光引导至所述照明光射出单元的光导(232)。所述照明光供给装置具备：射出照明光的光源单元(320)；以及配置在从所述光源单元射出的照明光的光路上的光量分布变更器件(350)。所述光量分布变更器件变更被照射照明光的照明光照射区内的照明光的光量分布并向所述光导传输照明光，使得从所述照明光射出单元射出的照明光的光量分布成为所希望的光量分布。
光源装置内窥镜系统以及照明控制方法

[发明专利]涂装控制系统、涂装控制装置及其设定装置和方法、记录介质-CN202210176148.5在审
发明人：中田达也;菊池健太;渡边勇树;田岛翔;伊藤毅 -专利权人：株式会社安川电机
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： B05B12/00 文献下载
摘要：涂装控制系统、涂装控制装置及其设定装置和方法、记录介质。对控制用的设定作业进行简化。本发明的一个方面的涂装控制系统具有：装置指定部，其根据表示使用具有彼此不同的构成设备的多种涂装装置中的哪种涂装装置的用户输入，将多种涂装装置中的任意一方指定为控制对象装置；参数设定部，其根据装置指定部的指定结果确定用户能够设定的设定参数，根据表示参数的设定值的用户输入来设定设定参数的值；以及动作控制部，其根据参数设定部的设定结果对控制对象装置进行控制。
控制系统控制装置及其设定方法记录介质

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