专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有增强性能的晶片级扇出封装-CN201980079375.2在审
  • 乔纳森·哈勒·哈蒙德;朱利奥·C·科斯塔 - QORVO美国公司
  • 2019-10-09 - 2021-07-23 - H01L21/60
  • 本公开涉及一种增强晶片级封装的性能的封装工艺。所公开的封装包含多个模制化合物(26、34、42)、多层重布结构,以及具有装置层和所述装置层下方的裸片凸块(30)的经薄化裸片(10T)。所述多层重布结构包含在所述多层重布结构的底部处的封装接触件(50)以及将所述裸片凸块连接到所述封装接触件的重布互连件(46)。第一模制化合物(26)驻留于所述经薄化裸片周围以囊封所述经薄化裸片的侧壁,且延伸超出所述经薄化裸片的顶部表面以界定所述经薄化裸片上方的开口。第二模制化合物(34)驻留于所述多层重布结构与所述第一模制化合物之间以囊封所述装置层的底部表面和每一裸片凸块。第三模制化合物(42)填充所述开口且与所述经薄化裸片的所述顶部表面接触。
  • 具有增强性能晶片级扇出封装
  • [发明专利]具有增强性能的晶片级扇出封装-CN201980077328.4在审
  • 乔纳森·哈勒·哈蒙德;朱利奥·C·科斯塔;乔恩·查德威克 - QORVO美国公司
  • 2019-10-09 - 2021-07-23 - H01L21/60
  • 本公开涉及一种晶片级扇出封装,其包含第一经薄化裸片(12T)、第二裸片(14)、所述第一经薄化裸片和所述第二裸片下方的多层重布结构(16)、所述第二裸片上方的第一模制化合物(18)、所述多层重布结构上方以及所述第一经薄化裸片和所述第二裸片周围的第二模制化合物(20),以及第三模制化合物(22)。所述第二模制化合物延伸超出所述第一经薄化裸片以界定所述第二模制化合物内和所述第一经薄化裸片上方的开口(42),使得所述第一经薄化裸片的顶部表面在所述开口的底部处。所述第一模制化合物的顶部表面和所述第二模制化合物的顶部表面是共面的。所述第三模制化合物填充所述开口且与所述第一经薄化裸片的所述顶部表面接触。
  • 具有增强性能晶片级扇出封装

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