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[发明专利]一种基材抓取机构、基材移转装置以及基材移转方法-CN202310847528.1在审
发明人：熊福祥;高世松;严大;范方宇;汤宋波 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-07-11 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本申请提供了一种基材抓取机构、基材移转装置以及基材移转方法，该机构包括至少一个吸附单元，每个吸附单元包括第一吸盘组件、第二吸盘组件以及精调组件。第一吸盘组件用于吸附第一基材；第二吸盘组件在第一方向与第一吸盘组件相对设置，用于吸附第二基材；精调组件设置于第一吸盘组件和/或第二吸盘组件，用于调节第一吸盘组件和第二吸盘组件在第二方向上的相对位置，第二方向与第一方向相交；其中，第一吸盘组件和第二吸盘组件可以在第一方向上相互靠近至第一基材和第二基材在第二方向上交替排列，或第一吸盘组件和第二吸盘组件可以在第一方向上相互远离。本申请的基材抓取机构提高工作效率的同时可防止基材划伤。
一种基材抓取机构移转装置以及方法

[发明专利]一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法-CN202311211248.8在审
发明人：施述鹏;陈强利;严大 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-09-20 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本申请涉及薄膜沉积技术领域，公开了一种薄膜沉积设备和薄膜沉积方法，该薄膜沉积设备包括本体和进气部件；本体具有容置工件的容纳腔；进气部件具有气体腔室，气体腔室与容纳腔连通，进气部件用于将加热后的惰性气体送入容纳腔；本体包括内壳体和外壳体，内壳体位于外壳体内部，内壳体的内腔形成容纳腔；内壳体在轴向上的一端具有抽气口，内壳体和外壳体之间设有定位结构，定位结构用于防止内壳体相对外壳体向抽气口所在方向移动。该薄膜沉积设备通过结构优化，可缩短对工件的预热时间，以利于提升产能。
一种薄膜沉积设备方法

[发明专利]处理设备、镀膜设备、调整件及处理方法-CN202310878200.6在审
发明人：康旭;严大;张鹏;施述鹏 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-07-17 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理设备、镀膜设备、调整件及处理方法，包括出气结构及匀气板，出气结构具有贴合位，贴合位具有第一气孔，匀气板具有第二气孔，匀气板贴合于贴合位，且第二气孔与第一气孔连通。本申请的处理设备，可以实现向壳体内部的反应腔均匀送气，在处理设备作为镀膜设备时，实现对基片的均匀镀膜。
处理设备镀膜调整方法

[实用新型]一种处理设备-CN202321001589.8有效
发明人：施述鹏;严大 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B67B3/10 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理设备，处理设备包括壳体、载具和压盖装置，载具设于壳体的内腔；载具包括本体部和上盖，本体部的一侧为敞口结构，上盖盖合于敞口结构，压盖装置设于壳体，并能够按压上盖，使上盖与本体部贴合。上盖并不完全是通过自身重力的盖合于本体部的，结合压盖装置的驱动作用，能够确保上盖和本体部之间的密封性。
一种处理设备

[发明专利]组合舟、单舟、处理设备、载片方法及处理方法-CN202310760019.5有效
发明人：范方宇;严大 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-06-27 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及一种组合舟、单舟、处理设备、载片方法及处理方法，组合舟包括：外舟体，设有具有开口的容纳空间；独立于外舟体设置的单舟，用于放置基片；单舟能够经开口移入容纳空间内或者经开口从容纳空间移出。当需要进行水平载片时，将硅片放入单舟，将单舟移入外舟体内；而当需要进行竖直载片时，对外舟体的结构做适应性调整，将硅片放入单舟并旋转90°后放入调整后的外舟体中即可。相对于现有技术中一体设置的载片舟，该组合舟采用分体设置的外舟体与单舟的方式，在水平载片与竖直载片之间切换时，在不改变处理设备其他结构的情况下，不需要改变单舟的结构，只需要调整外舟体的结构即可，便于实现水平载片与竖直载片之间的切换。
组合处理设备方法

[发明专利]处理腔室、基片处理方法及处理装置-CN202310437556.6有效
发明人：施述鹏;严大;黎微明;康旭;沈安磊 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-23 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请公开了一种处理腔室、基片处理方法及处理装置。处理腔室包括腔体组件以及腔门组件；腔体组件包括腔体；腔门组件包括喷淋板以及腔门，喷淋板设置在腔门上，腔门组件关闭时喷淋板盖设在腔体的一端，腔体与喷淋板围设成处理空间，喷淋板可向处理空间通入处理气体。本申请所提供的处理腔室，喷淋板盖设在腔体上，简化了处理腔室及其内部结构，在处理腔室占用相同使用空间的情况下增加了腔体的内部空间，使得腔体可容纳更大、更多的基片，提高了处理的产能，降低了处理的生产成本；采用喷淋板向处理空间通入处理气体，使得处理空间内的气流更加均匀稳定，可提高基片处理的均匀性。
处理方法装置

[发明专利]一种喷淋板、喷淋方法及处理装置-CN202310981606.7在审
发明人：施述鹏;严大 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-08-07 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开一种喷淋板、喷淋方法及处理装置，该喷淋板包括具有出气面的板体，其板体内设置有至少两个喷淋流道组，至少两个喷淋流道组顺次布置在喷淋板的喷淋幅面内；每个喷淋流道组包括至少两种工艺气体流道，且至少两个工艺气体流道在板体的厚度方向上错开布置；其中，每个工艺气体流道包括主气道、多个喷淋气道和若干出气孔，主气道与多个喷淋气道分别连通，且喷淋气道上间隔设置有多个出气孔，且多个出气孔均开设于板体的出气面。应用本方案，可将喷淋幅面划分形成多个区域，由此将流道长度有效缩短从而减少压降，同一流动路径上各出气孔的喷出气量得以合理控制，能够有效提高喷淋板的出气均匀性。
一种喷淋方法处理装置

[发明专利]一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法-CN202310389574.1在审
发明人：杨柳;廖宝臣;严大;范方宇 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供的一种载体舟、处理设备以及载体舟内压降控制方法，载体舟包括舟体和前置匀流板，所述舟体内部设有两端开口的放置腔，所述放置腔内适于放置若干间隔设置的待处理件，前置匀流板设于所述舟体内放置腔一端开口处，以填充所述舟体内放置腔开口端；其中，所述前置匀流板内设有若干间隔设置的第一阻隔件，且相邻所述第一阻隔件间的第一间隙与相邻所述待处理件间的第二间隙相连通，在外界由氮气携带的反应源从源瓶内通过前置匀流板时，由于前置匀流板为密集分布的多个前置阻隔件等间距组合而成，前置匀流板能够通过其上的前置阻隔件之间的第一间隙将携源气体进行重新均匀分布流入舟体内，使得进入舟体内的携源气体平行均匀的流过待处理件。
一种载体处理设备以及舟内压降控制方法

[发明专利]载具、处理设备、处理设备的上料方法及使用方法-CN202310456484.X在审
发明人：施述鹏;严大;康旭;张胜 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-25 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本申请涉及一种载具、处理设备、处理设备的上料方法及使用方法。该载具包括框架和遮盖件。框架具有用于放置待处理件的处理空间、以及连通所述处理空间内外的进气部、出气部及至少一个敞口部。遮盖件与所述框架可拆卸连接，并遮盖全部所述敞口部。本申请实施例中的遮盖件在装配于框架后，遮盖件可遮盖框架的敞口部，以使得框架的处理空间只具有相连通的进气部和敞口部。该处理空间可对通入的气体进行导流，并使得位于不同区域的气体量尽可能一致，从而提高了待处理件与气体反应后，待处理件表面所形成的膜层的均一性。
处理设备方法使用方法

[发明专利]一种吸盘组件及上下料系统-CN202310486351.7在审
发明人：范方宇;严大;周仁 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本申请公开了一种吸盘组件及上下料系统，该吸盘组件包括：吸盘片，吸盘片包括相背设置的第一表面和第二表面，第一表面设置有多个真空气槽口；至少一个密封件，设置于吸盘片的第一表面的一侧；密封件背离第一表面一侧齐平，密封件背离第一表面一侧凸出于第一表面；真空气槽口在第一表面上的正投影位于密封件在第一表面上的正投影的外轮廓内。通过上述方式，可以减少吸盘组件吸附待吸附件时所带来的吸盘印和划伤，减少待吸附件因吸盘组件导致的质量问题。
一种吸盘组件上下系统

[发明专利]立式处理设备及立式处理设备的控制方法-CN202310388206.5在审
发明人：严大;黄宗健 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请提供一种立式处理设备及立式处理设备的控制方法，涉及作业与运输技术领域。立式处理设备包括处理腔室和运输装置，处理腔室具有室体和室门，室体具有处理腔和进出口，运输装置具有升降机构及可沿升降机构升降的承载机构，承载机构可将处理件送入或送出处理腔，承载机构在将处理件送入处理腔后可沿升降机构下降，室门可移动至封堵进出口、并与室体紧密配合。本申请通过升降机构和承载机构配合实现对处理件的升降运输控制，提高了上下料效率；在处理件送入处理腔后，室门可封堵室体的进出口、并与室体紧密配合，而不必设置独立的支撑结构或利用承载机构支撑室门，降低了设备成本。
立式处理设备控制方法

[发明专利]处理设备及其使用方法-CN202310494251.9在审
发明人：施述鹏;严大;范方宇 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-05-05 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本申请涉及一种处理设备及处理设备，包括腔本体、载具和喷淋件，腔本体具有腔室。载具可操作地设置在腔室内，且被构造为能够沿第一方向引流，并用于承载被布置于载具的引流路径上的基片。喷淋件设置于腔室内，并盖合于载具在第一方向上的入口端，喷淋件用于向载具输送气体。本申请的技术方案，由于载具自身能够引流，在载具与腔本体之间无需设置其他气流结构，在腔本体体积不变的情况下，载具的体积可以做的更大，如此载具所承载的基片的数量更多，处理设备的空间利用率更大，处理设备的产量和效率更高。而且，能够兼顾各个基片的反应环境基本不变，基片镀膜质量较好。同时，无需扩大腔本体的体积，处理设备成本较低。
处理设备及其使用方法

[发明专利]导气装置、腔体结构及其使用方法、处理设备-CN202310402168.4在审
发明人：施述鹏;严大 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-14 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： F16L27/12 文献下载
摘要：本申请涉及一种导气装置、腔体结构及其使用方法、处理设备，包括导气筒、动力源、推动件和弹性组件，导气筒沿设定方向导气，推动件被配置为在设定方向上可移动地安装于承重体上，动力源被配置于承重体，且用于驱动推动件移动。弹性组件被构造为在设定方向上可弹性形变的连接导气筒和推动件之间。本申请的技术方案，可以提高导气装置的入口端与外部通道的出口端的气密性，降低外部通道内物质的外逸，有助于降低设备的维护周期，降低设备的维护成本，并且提高资源利用率。
装置结构及其使用方法处理设备

[发明专利]炉门组件、炉门控制方法和处理设备及处理方法-CN202310413501.1在审
发明人：施述鹏;严大;范方宇 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： F27D1/18 文献下载
摘要：本申请提供了一种炉门组件、炉门控制方法和处理设备及处理方法，炉门组件包括门体和驱动机构，驱动机构与门体连接，用于驱动门体能够沿与被遮盖腔体开口所在平面相平行的方向移动，以遮盖腔体。炉门组件的门体沿与被遮盖腔体开口所在平面相平行方向移动来进行开启/遮盖腔体，能够减少腔体占地面积。
炉门组件控制方法处理设备

[发明专利]基片处理系统及方法、载具、支撑及吸盘组件、插片方法-CN202310392892.3在审
发明人：严大 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2023-04-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本申请公开了一种基片处理系统及方法、载具、支撑及吸盘组件、插片方法，属于基片处理技术领域。基片处理系统包括载具、支撑组件以及吸盘组件，载具上设有多个容纳基片的工位；吸盘组件可将基片转移到支撑组件中或从支撑组件中的取出基片；支撑组件可将基片平稳放入载具的工位中，或将容纳在工位中的基片平稳顶出载具。本申请提供的基片处理系统，支撑组件可将基片平稳放入或顶出载具，吸盘组件向支撑组件放入基片或从支撑组件中取出基片，使得基片可在吸盘组件与支撑组件之间以及支撑组件与载具之间平稳转移，从而实现基片的平稳取放，可提高基片的良品率。
处理系统方法支撑吸盘组件

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