专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构-CN202310519120.1在审
  • 赵黎杰;宋国芳;邢建升;冀鲁豫;凌丽 - 中国原子能科学研究院
  • 2023-05-09 - 2023-10-03 - H05H6/00
  • 本发明公开了一种水冷系统与真空夹持系统共用空间的靶站结构,包括靶架、靶基、真空夹持机构、直线气缸、水冷管道;其特点是:所述真空夹持机构设有一对”L”型通孔,该一对”L”型通孔向下通向靶基上表面的水槽,该一对”L”型通孔和靶基上表面的水槽紧密贴合形成了分时占用且共用的密封空间,该分时占用且共用的密封空间为抽真空空间和水冷空间。本发明将真空加持头内的“L”型通道、靶基上的“船”型水槽、以及分别布设在真空加持头和靶基上的密封圈有机结合起来,形成了一个密闭的水冷通道和密闭的抽真空通道、将靶站整体高度降低将近二分之一,并且结构简化、减少成本和物料、减少错误发生率。
  • 一种水冷系统真空夹持共用空间结构
  • [发明专利]中子捕获治疗系统-CN201611205434.0有效
  • 刘渊豪 - 南京中硼联康医疗科技有限公司
  • 2016-12-23 - 2023-09-26 - H05H6/00
  • 本申请提供一种中子捕获治疗系统,包括用于产生带电粒子束的加速器、经带电粒子束照射后产生中子射束的中子产生部、对中子射束进行整形的射束整形体以及准直器,所述射束整形体包括缓速体及包覆于缓速体外周的反射体,所述中子产生部经带电粒子束照射后产生中子,所述缓速体将自中子产生部产生的中子减速至预设能谱,所述反射体将偏离的中子导回以提高预设能谱内的中子强度,所述准直器将中子产生部产生的中子进行集中,所述中子产生部为多个连续连接的波折结构。本申请主要是通过改变中子产生部的结构,即将中子产生部设置为多个连续连接的波折结构,来增加带电粒子束照射至中子产生部而发生反应的反应面积。
  • 中子捕获治疗系统
  • [实用新型]一种靶的屏蔽与抽气结构-CN202320523730.4有效
  • 钱玉忠;陶鑫;梁立振;吴亮亮;王宾;胡纯栋 - 合肥综合性国家科学中心能源研究院(安徽省能源实验室)
  • 2023-03-17 - 2023-09-01 - H05H6/00
  • 本实用新型公开了一种靶的屏蔽与抽气结构,包括引出电极内层筒、引出电极头部、引出电极外层筒、磁铁、磁铁过渡件、靶。引出电极外层筒筒身开设有放气窗便于分子泵抽取引出电极筒内的空气。所述引出电极头部开设有离子束引出孔,使离子束能轰击到所述靶的中心。所述引出电极内层筒用于屏蔽二次电子的溅射。所述磁铁连接于引出电极外层筒的外侧筒身,用于添加磁场来对离子进行约束。引出电极外层筒设置于所述内层筒的底脚上,且与所述引出电极内层筒身之间设置有一定间距,使在对二次电子的屏蔽的同时能抽取引出因离子束轰击靶产生的杂质气体。本实用新型不仅能够实现对腔体内真空的稳定保持,而且还能对靶上的二次电子溅射的有效抑制,从而减少了真空腔体内的打火现象。
  • 一种屏蔽结构
  • [实用新型]一种高功率束流下的同位素生产靶组件-CN202223323136.5有效
  • 何源;贾欢;蔡汉杰;张勋超;普能;秦元帅 - 中国科学院近代物理研究所
  • 2022-12-12 - 2023-08-01 - H05H6/00
  • 本实用新型涉及一种高功率束流下的同位素生产靶组件,包括:靶室,所述靶室由靶室前板、靶室后板、靶室上盖板、靶室下盖板及左右侧板组成,所述靶室前板和所述靶室后板上设置有若干呈阵列布置的靶窗;靶胶囊,数量若干,呈单层平面阵列排布或多层立体阵列排布,所述靶室内竖直间隔布置有若干靶室单元隔板,若干所述靶室单元隔板将所述靶室分隔成若干空腔,每个所述空腔内均布置有偶数片栅板,每个所述栅板上均开设有若干靶胶囊定位孔,每个所述靶室单元隔板上均设置有与所述栅板相对应的刻槽,若干所述靶胶囊呈阵列形式嵌入所述靶胶囊定位孔内,并通过所述刻槽进行限位固定;若干所述靶窗与束流在射入或射出端面上正对的所述靶胶囊一一对应布置。
  • 一种功率流下同位素生产组件
  • [实用新型]一种常温氮气吹扫系统-CN202222732379.8有效
  • 梁辉宏;何宁;刘宇;范霖;姚从菊;林雄;殷雯 - 散裂中子源科学中心;中国科学院高能物理研究所
  • 2022-10-14 - 2023-07-04 - H05H6/00
  • 本发明提供了一种常温氮气吹扫系统,其是用于靶站的冷却系统或设备;所述的常温氮气吹扫系统设置在冷却系统的前端,所述冷却系统具有冷却介质流通的冷却系统管道;所述常温氮气吹扫系统包括供氮装置、前端加热器和用于稳定气压的缓冲罐,所述缓冲罐通过管道与冷却系统前端相通连接,且所述缓冲罐与供氮装置之间通过氮气传输管道相通连接,所述氮气传输管道上安装有前端加热器。本发明解决了现有的冷却系统单纯利用冷却介质自身的重力进行排,使得冷却系统的壁上必定还会残留有冷却介质的问题,实现了冷却系统壁上残留的冷却介质被常温氮气吹扫掉落,并由排液管引流至贮存罐,达到冷却系统进一步减排冷却介质含量的目的。
  • 一种常温氮气系统
  • [发明专利]一种用于放射性核素制备的固体靶系统-CN202310437062.8有效
  • 彭学兵;韩旭;陈永华;刘鹏;卯鑫;魏江华;丁开忠 - 中国科学院合肥物质科学研究院
  • 2023-04-23 - 2023-06-30 - H05H6/00
  • 本发明公开了一种用于放射性核素制备的固体靶系统,包括:固体靶元件盒、顶靶系统、激光雷达定位系统、冷却系统和控制柜。其中,固体靶元件盒包括内外两个部分,内部为进行核素制备的靶元件,外部为屏蔽盒。固体靶系统内安装有顶靶系统,当核素制备完成后,顶靶系统会将固体靶元件盒顶至回收孔。激光雷达定位系统位于顶靶系统上方,其与控制柜进行电性连接,从而保证顶靶系统能准确地将靶元件盒顶落至回收孔。冷却系统配置在靶元件盒两侧,用于给固体靶元件降温。控制柜与直流伺服电动机电性连接,用于控制所述直流伺服电动机的工作状态。本发明操作方便,靶元件可承受高强度束流轰击,可生产更高产量、更多种类的核素。
  • 一种用于放射性核素制备固体系统
  • [发明专利]一种高功率束流下的同位素生产靶组件-CN202211590423.4在审
  • 何源;贾欢;蔡汉杰;张勋超;普能;秦元帅 - 中国科学院近代物理研究所
  • 2022-12-12 - 2023-05-23 - H05H6/00
  • 本发明涉及一种高功率束流下的同位素生产靶组件,包括:靶室,所述靶室由靶室前板、靶室后板、靶室上盖板、靶室下盖板及左右侧板组成,所述靶室前板和所述靶室后板上设置有若干呈阵列布置的靶窗;靶胶囊,数量若干,呈单层平面阵列排布或多层立体阵列排布,所述靶室内竖直间隔布置有若干靶室单元隔板,若干所述靶室单元隔板将所述靶室分隔成若干空腔,每个所述空腔内均布置有偶数片栅板,每个所述栅板上均开设有若干靶胶囊定位孔,每个所述靶室单元隔板上均设置有与所述栅板相对应的刻槽,若干所述靶胶囊呈阵列形式嵌入所述靶胶囊定位孔内,并通过所述刻槽进行限位固定;若干所述靶窗与束流在射入或射出端面上正对的所述靶胶囊一一对应布置。
  • 一种功率流下同位素生产组件
  • [实用新型]用于粒子束产生装置的靶材及其加工设备-CN202221811372.9有效
  • 刘渊豪;林峻霆 - 中硼(厦门)医疗器械有限公司
  • 2022-07-14 - 2023-04-07 - H05H6/00
  • 本实用新型提供一种用于粒子束产生装置的靶材加工设备,能提升靶材的散热性能,减少起泡,增加靶材寿命。本实用新型的靶材包括作用层、抗发泡层、散热层,作用层与带电粒子束作用产生中子束,抗发泡层抑制带电粒子束引起的起泡,第一散热层将沉积在作用层的热量直接快速地传导到第二散热层,并在第二散热层通过冷却介质将热量排出;所述加工设备包括真空室、排气装置、蒸发源、支架和加热装置,排气装置用于对真空室排气以形成真空环境,蒸发源用于将抗发泡层、作用层的材料在真空室中依次蒸发为气体,支架用于放置散热层,加热装置用于将散热层加热后,使得所述气体的材料依次沉积在散热层面向所述蒸发源的表面。
  • 用于粒子束产生装置及其加工设备

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