专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]生产高强度直拉硅单晶用的籽晶的制备方法-CN200410053863.1无效
  • 杨德仁;余学功;李东升;马向阳;阕端麟 - 浙江大学
  • 2004-08-17 - 2005-03-23 - C30B15/36
  • 本发明的生产高强度直拉硅单晶用的籽晶的制备方法,步骤如下:选择间隙氧浓度在(3~30)×1017cm-3直拉硅单晶,先在350~1300℃温度范围热处理10分钟~60小时,然后,再将硅单晶切割加工成圆柱形或长方形籽晶;或者首先将间隙氧浓度在(3~30)×1017cm-3直拉硅单晶切割加工成圆柱形或长方形籽晶,然后,再在350~1300℃温度范围热处理10分钟~60小时。本发明方法简单易行,通过选择适当氧浓度的直拉硅单晶进行热处理,使得直拉硅单晶体内生成一定量的氧沉淀,这些氧沉淀可以增加硅单晶的机械强度。由此也就获得了高机械强度的籽晶,用于直拉硅单晶的生长,可有效提高直拉硅单晶生长的生产效率。
  • 生产强度直拉硅单晶用籽晶制备方法

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