[发明专利]一种透镜及检测模组和穿戴设备

权利要求书

1.一种透镜，包括基体以及位于所述基体至少一面上的多个锯齿结构，相邻所述锯齿结构之间形成沟槽，其特征在于，每个所述锯齿结构包括第一侧边和第二侧边，同一个所述锯齿结构中第一侧边和第二侧边远离所述基体的一端相接并形成齿顶，相邻所述锯齿结构中第一侧边和第二侧边靠近所述基体的一端相接并形成齿底，所述沟槽的横截面形状为三角形，所述三角形的三边分别为第一侧边、第二侧边以及两个所述齿顶之间形成的底边，所述底边的长度为5～100μm；所述沟槽的深度为3～150μm；所述三角形中第一侧边与底边之间的夹角和/或所述第二侧边与底边之间的夹角大于或等于30°。

2.根据权利要求1所述的透镜，其特征在于，所述锯齿结构的齿顶和/或齿底为圆弧形设置，所述圆弧形对应的角度为30°～100°，对应的半径为0～10μm。

3.根据权利要求1所述的透镜，其特征在于，所述锯齿结构包括由内向外同心圆设置的多个齿环，相邻齿环之间形成所述沟槽。

4.根据权利要求3所述的透镜，其特征在于，多个所述沟槽的深度相同；多个所述齿环的齿顶位于同一水平面上；多个所述齿环的齿底位于另一个水平面上。

5.根据权利要求3所述的透镜，其特征在于，所述沟槽的深度由内向外逐渐增加；或，所述沟槽的深度由内向外逐渐减小。

6.根据权利要求5所述的透镜，其特征在于，所述齿环的齿底位于同一水平面上，所述齿环的齿顶由内向外逐渐远离所述基体；和/或，

所述齿环的齿顶位于同一水平面上，所述齿环的齿底由内向外逐渐靠近所述基体；和/或，

所述齿环的齿底由内向外逐渐靠近所述基体，所述齿环的齿顶由内向外逐渐远离所述基体。

7.根据权利要求5所述的透镜，其特征在于，所述齿环的齿底位于同一水平面上，所述齿环的齿顶由内向外逐渐靠近所述基体；和/或，

所述齿环的齿顶位于同一水平面上，所述齿环的齿底由内向外逐渐远离所述基体；和/或，

所述齿环的齿底由内向外逐渐远离所述基体，所述齿环的齿顶由内向外逐渐靠近所述基体。

8.根据权利要求1所述的透镜，其特征在于，所述锯齿结构包括多个平行设置的锯齿条；和/或，

所述锯齿结构包括多个平行设置的第一锯齿条以及与所述第一锯齿条垂直设置的第二锯齿条。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的透镜，其特征在于，所述第一侧边和/或第二侧边为由多个台阶形成的锯齿状。

10.一种检测模组，包括电路板和壳体、设置在所述电路板上的发光单元以及接收单元、设置在所述发光单元、接收单元和壳体之间的透镜，其特征在于，所述透镜为权利要求1-9任意一项所述的透镜。

11.根据权利要求10所述的检测模组，其特征在于，所述锯齿结构包括第一锯齿部和第二锯齿部，所述第一锯齿部和第二锯齿部之间设置有阻挡部，所述阻挡部用于阻挡光线直接在所述第一锯齿部和所述第二锯齿部之间传播；

所述第一锯齿部对应设置在所述发光单元的上方，所述第二锯齿部对应设置在所述接收单元的上方，所述阻挡部设置在所述发光单元和接收单元之间。

12.一种包括了如权利要求10-11任意一项所述的检测模组的穿戴设备。