[发明专利]一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法

权利要求书

1.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是由封闭剂，异氰酸酯基硅氧烷，溶剂，催化剂为原料制备得到。

2.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是封闭剂选用的是甲乙酮肟，正丁醇，卡必醇，乙二醇丁醚，3，5二甲基吡唑中的一种或几种。其带有活泼氢的小分子，将异氰酸酯的高活性异氰酸根基团保护起来，这样异氰酸酯在常温下能够与其他组分稳定的共存。

3.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是异氰酸酯基硅氧烷选用的是异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷，或异氰酸酯基丙基三甲氧基硅烷。

4.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是封闭剂中活泼氢与异氰酸酯化合物中的(-NCO)的摩尔比为1.0～1.3：1.0，优选1.0～1.2：1.0。

5.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是溶剂选用的是无水乙醇。

6.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是催化剂为盐酸。

7.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是由下列重量份配比的原料制备而成：封闭剂1.3-1.6％、异氰酸酯基硅氧烷4.0-5.0％、无水乙醇80-85％、盐酸10.0-10.6％。

8.一种封闭的异氰酸酯基POSS及其制备方法，其特征是其POSS以无机Si-O-Si为骨架及四周的有机基团(如烷基、氨基、氟基、羟基以及环氧基等)相互连接而成的笼形纳米分子。外部连接的有机基团赋予POSS与聚合物相容性好及易于加工的特性。