[发明专利]一种含羟基化合物的应用、基质改进剂、烟草中香味成分的分析方法在审

专利信息
申请号: 202110432078.0 申请日: 2021-04-21
公开(公告)号: CN113203823A 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 潘立宁;王晓瑜;秦亚琼;陈满堂;赵阁;樊美娟;崔华鹏;华辰凤;余晶晶;刘绍锋;刘克建;赵晓东 申请(专利权)人: 中国烟草总公司郑州烟草研究院
主分类号: G01N30/88 分类号: G01N30/88
代理公司: 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 代理人: 李宁
地址: 450001 *** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 羟基 化合物 应用 基质 改进 烟草 香味 成分 分析 方法
【说明书】:

发明涉及一种含羟基化合物的应用、基质改进剂、烟草中香味成分的分析方法,属于化学分析测试技术领域。本发明的含羟基化合物在在抑制气相色谱活性位点吸附中的应用,所述含羟基化合物为具有式I或式II所示结构的化合物,式I中,R1选自C2‑C18烷基;式II中,R2选自C2‑C18烷基酰氧基或C2‑C18烷基,n为1或2。本发明的含羟基化合物的应用,将具有式I或式II所示化合物加入待测溶液混匀后进样,式I或式II化合物可迅速填充气相色谱进样口、色谱柱、检测器内的活性位点,裸露在气相流路内的为烷基惰性基团,不会形成新的吸附位点,从而减小气相色谱分析过程中活性位点吸附对检测结果的影响。

技术领域

本发明涉及一种含羟基化合物在抑制气相色谱活性位点吸附中的应用、基质改进剂、烟草中香味成分的分析方法,属于化学分析测试技术领域。

背景技术

气相色谱作为一种复杂基质中化合物的分离技术手段,被广泛用于化学分析检测。然而,由于气相色谱流路(包括进样口、色谱柱以及检测器)表面存在活性位点,敏感化合物在活性位点发生吸附作用或降解,导致化合物损失或色谱峰拖尾,检测限较高并且更容易受到干扰。此外,气相分析过程还存在基质效应,基质在气相色谱流路中通过时,高沸点极性杂质容易残留于进样口、色谱柱或检测器内,形成新的吸附位点,又会造成待测物响应降低、峰形变差。

烟草中香味成分的含量水平和相互比例对烟叶和卷烟的风格品质具有关键影响,香味成分受到烟草调香人员的广泛关注。香味成分的种类包括醛、酮、醇、酚、酯、杂环、醚、烃、硫化物、酰胺、酸酐、缩醛、缩酮等。绝大部分香味成分含有活性基团,如羟基、氨基、羰基、不饱和键、杂原子等。目前关于香味成分的气相色谱基质效应尚未报道,农药残留分析领域已开展了基质效应的相关研究。研究显示,加入3-乙氧基-1,2-丙二醇、L-古洛糖酸-γ-内酯、聚乙二醇、D-山梨醇等化合物可对基质效应进行一定程度补偿。然而,由于这些化合物极性强,需要用强极性溶剂(如乙腈)进行溶解,甚至需要加入一定量水进行辅助溶解,限制了其在气相色谱分析方法中的应用范围。同时,由于羟基遍布于化合物分子周围,这些化合物进入气相色谱后自由随机的吸附于活性位点,虽然减少了原有活性位点对敏感性化合物的吸附,而其裸露在气相流路内的羟基同时成为了新的吸附位点,对待测物的保护作用有限。

发明内容

本发明的目的是提供一种含羟基化合物在抑制气相色谱活性位点吸附中的应用,不仅普适性强,而且可以有效抑制代分析物在气相流路内的吸附。

本发明还提供了一种用于气相色谱分析的基质改进剂以及一种烟草中香味成分的分析方法。

为了实现以上目的,本发明含羟基化合物在抑制气相色谱活性位点吸附中的应用所采用的技术方案是:

一种含羟基化合物在抑制气相色谱活性位点吸附中的应用,所述含羟基化合物为具有式I或式II所示结构的化合物;

式I中,R1选自C2-C18烷基;

式II中,R2选自C2-C18烷基酰氧基或C2-C18烷基,n为1或2。

本发明的含羟基化合物在抑制气相色谱活性位点吸附中的应用,将具有式I或式II所示化合物加入待测溶液混匀后进样,式I或式II化合物可迅速填充气相色谱进样口、色谱柱、检测器内的活性位点,裸露在气相流路内的为烷基惰性基团,不会形成新的吸附位点,从而减小气相色谱分析过程中活性位点吸附对检测结果的影响。此外,式I以及式II化合物的分子中间由醚键或酯基将醇羟基与非极性烷烃链连接,现有合成工艺即可制得,原料廉价、易得,并且普适性强,对极性和非极性溶剂提取的化合物均适用,可广泛使用。

式I所示结构的化合物为羟基乙酸酯。式I中,R1为C3-C18烷基时,R1可以为直链烷基或带有支链的烷基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国烟草总公司郑州烟草研究院,未经中国烟草总公司郑州烟草研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110432078.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top