[发明专利]一种烤盘清洗设备有效

专利信息
申请号: 202110363500.1 申请日: 2021-04-02
公开(公告)号: CN113083826B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 楼洪亮;邱振东 申请(专利权)人: 义乌工商职业技术学院
主分类号: B08B9/20 分类号: B08B9/20;B08B9/28;B08B13/00;F26B21/00;A21B3/16
代理公司: 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 王丰毅
地址: 322000 *** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洗 设备
【权利要求书】:

1.一种烤盘清洗设备,包括:待清洗烤盘输入端(1),以及设置在其下方的翻转台(2),以及设置在翻转台(2)下方的待清洗流转台(3),以及设置在待清洗流转台(3)相对一端的完成输出端(4),其特征在于,还包括:设置在清洗流转台(3)和完成输出端(4)之间的装置本体(5),以及设置在装置本体(5)一侧的控制面板箱(6),以及设置在装置本体(5)上方的升降负压吸盘装置(7),所述装置本体(5)包括:设置在待清洗烤盘输入端(1)一侧的浸泡作业装置(51),以及与其相邻设置的清洗作业装置(52),以及在清洗作业装置(52)远离浸泡作业装置(51)一侧,设置的设备间(53),以及与设备间(53)相邻,远离浸泡作业装置(51)一侧,设置的供水箱(54);所述清洗作业装置(52)设有往复擦抹机构(521),在往复擦抹机构(521)中设有洁净液喷头(522)以及高压冲洗喷头(523)以及风干喷嘴(524),能够将待清洗烤盘,喷射洁净液后,再进行同步前后和左右的往复擦抹,再进行清水冲洗,最后进行风干;

所述往复擦抹机构(521)包括:设置在清洗池(525)底部的若干轨道安装座(5211),以及安装在轨道安装座(5211)上部的轨道(5212),以及与轨道(5212)滑动配合的若干轨道滑块(5213),以及在轨道滑块(5213)上设置的滑移底壳(5214),以及在滑移底壳(5214)上端部设置与其配合的滑移盖板(5215),以及在滑移盖板(5215)下底部外表面设置的往复机构(5216),以及在滑移盖板(5215)上底部外表面,设置的安装在往复机构(5216)上的擦抹海绵块(5217),以及安装在滑移底壳(5214)侧边外表面,为往复机构(5216)提供动力的第一驱动电机(5218);所述擦抹海绵块(5217)整体呈环形,所述洁净液喷头(522)安装在擦抹海绵块(5217)环形的中间空心位置,所述风干喷嘴(524)安装在滑移盖板(5215)上部外表面的中间位置、所述高压冲洗喷头(523)安装在风干喷嘴(524)长度方向的两侧。

2.根据权利要求1所述的烤盘清洗设备,其特征在于,所述浸泡作业装置(51)包括:浸泡池(511),以及设置在浸泡池(511)中的过滤板(512),以及设置在过滤板(512)上部的液位感应器(513),以及设置在过滤板(512)下部的下水管(514),以及在下水管(514)下部设置的电磁阀(515),所述电磁阀(515)能够根据液位感应器(513)的信号反馈,通过控制面板箱(6)的执行命令,执行开阀和闭阀;所述清洗作业装置(52),还包括:清洗池(525),以及设置在清洗池(525)上部的透明伸缩帘关门机构(526),以及在清洗池(525)池壁四个边设置的,相互连接的烤盘置放垫板(527),所述清洗池(525)底部,靠近浸泡池(511)的一侧设有汇聚口,该汇聚口下部为清洗水收集池(528),在该清洗水收集池(528)中设置潜水泵(5281),在该清洗水收集池(528)靠近浸泡池(511)的一侧,设置连通内外池壁的电磁进水控制阀(5282);所述设备间(53)包括:安装在其内部的加热器(531)、负压发生器(532)、风机(533)、离心泵(534)。

3.根据权利要求1所述的烤盘清洗设备,其特征在于,所述升降负压吸盘装置(7)包括:装置框架主体(71),以及安装在装置框架主体(71)上部的平移机构(72),以及设置在平移机构(72)上部的升降动力元件伸缩气缸(73),以及设置在伸缩气缸(73)下部的若干负压吸盘装置(74),以及为平移机构(72)传递平移动力的电机丝杆组件(75);所述平移机构(72)其较短边框下部的外表面设有定滑轮组(721),平移机构(72)中部位置下部的外表面设有安装底板(722),该安装底板(722)上部连接安装伸缩气缸(73),下部连接安装负压吸盘装置(74)。

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