[发明专利]一种分子印迹光子晶体及其制备方法和应用

权利要求书

1.结构式如式(1)所示的分子印迹光子晶体：

式(1)中的a、b、m和n为正整数；

分子印迹光子晶体的制备方法，包括以下步骤：

(1)二氧化硅微球乳液的制备：将醇、碱和溶剂混合，形成混合物A，然后加入偶联剂，反应，制得二氧化硅微球乳液；

(2)二氧化硅光子晶体的制备：将步骤(1)制得的二氧化硅微球乳液加入有机溶剂中，超声分散，得到混合物B；将含有二氧化硅的载体进行亲水处理，然后将混合物B涂覆在经过亲水处理后的含有二氧化硅的载体表面，制得二氧化硅光子晶体；所述亲水处理的过程为，将含有二氧化硅的载体浸入酸和氧化剂的混合溶液中，然后取出含有二氧化硅的载体；

(3)预聚液的制备：将镰刀菌酸、交联剂和功能单体加入溶剂中，降温，制得预聚液；所述功能单体用于形成氢键；

(4)取基底，将基底与步骤(2)处理得到的含有二氧化硅的载体贴合，得到贴合物，将贴合物浸入步骤(3)制得的预聚液与引发剂的混合物中，然后取出贴合物，反应，制得所述分子印迹光子晶体。

2.权利要求1所述的分子印迹光子晶体的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)二氧化硅微球乳液的制备：将醇、碱和溶剂混合，形成混合物A，然后加入偶联剂，反应，制得二氧化硅微球乳液；

(2)二氧化硅光子晶体的制备：将步骤(1)制得的二氧化硅微球乳液加入有机溶剂中，超声分散，得到混合物B；将含有二氧化硅的载体进行亲水处理，然后将混合物B涂覆在经过亲水处理后的含有二氧化硅的载体表面，制得二氧化硅光子晶体；所述亲水处理的过程为，将含有二氧化硅的载体浸入酸和氧化剂的混合溶液中，然后取出含有二氧化硅的载体；

(3)预聚液的制备：将镰刀菌酸、交联剂和功能单体加入溶剂中，降温，制得预聚液；所述功能单体用于形成氢键；

(4)取基底，将基底与步骤(2)处理得到的含有二氧化硅的载体贴合，得到贴合物，将贴合物浸入步骤(3)制得的预聚液与引发剂的混合物中，然后取出贴合物，反应，制得所述分子印迹光子晶体。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述混合物A中，所述醇、碱和溶剂的体积比为100：(8-18)：(40-80)。

4.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述含有二氧化硅的载体为玻璃。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述亲水处理的过程中，所述酸为硫酸；所述硫酸的质量分数大于80％；所述氧化剂为过氧化物。

6.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述亲水处理的过程中，所述酸与所述氧化剂的体积比为7：(1-5)。

7.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述交联剂为二甲基丙烯酸乙二醇酯；所述功能单体为甲基丙烯酸。

8.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述镰刀菌酸、交联剂和功能单体的摩尔比为1：(0.2-1.8)：(2-10)。

9.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤(4)中，反应后，将贴合物浸入质量分数为0.5-1％的氢氟酸溶液中2-3h至基底与载体分离，然后取出基底和载体，冲洗，然后浸入乙酸和甲醇的混合物中处理，得到所述分子印迹光子晶体，再放入磷酸缓冲溶液进行保存。

10.权利要求1所述的分子印迹光子晶体在检测镰刀菌酸或香蕉枯萎病菌中的应用。