[发明专利]一种具有抗指纹印及抗刮耐磨的玻璃基材蚀刻效果成型工艺

权利要求书

1.一种具有抗指纹印及抗刮耐磨的玻璃基材蚀刻效果成型工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1，按如下重量份数的组分配制成蚀刻液：氟化氢铵5～10份、氟化钠5～10份、对甲苯磺酸10～15份、甲磺酸10～15份、月桂醇聚氧乙烯醚2～6份、聚丙烯酸钠2～4份、EDTA 2-10份、水90～95份，先将氟化氢铵和氟化钠研磨混合均匀，形成混合物1；再将对甲苯磺酸和甲磺酸研磨混合均匀，形成混合物2；接着将月桂醇聚氧乙烯醚和聚丙烯酸钠搅拌均匀形成混合物3；最后将水升温至50℃，在搅拌的同时，先后将混合物3、EDTA、混合物2和混合物1加入水中，之后进行静置熟化制得蚀刻液；

S2，将待蒙砂的玻璃基材表面用清水进行第一次清洗；

S3，将所述玻璃进行烘干，同时对不需要蒙砂的玻璃基材表面进行保护；

S4，将玻璃基材放入蒙砂设备里，用S1中配制的蚀刻液对玻璃基材表面进行蒙砂80秒；

S5，将S4中蚀刻完的玻璃基材放入常规抛光液中进行7分钟的抛光；

S6，将抛光之后的玻璃基材表面用清水进行第二次清洗；

该成型工艺应用于玻璃手机背盖的化学蚀刻，采用大型设备对玻璃手机背盖进行喷淋，在玻璃手机背盖表面形成一层类蜂窝状的颗粒层。

2.根据权利要求1所述的一种具有抗指纹印及抗刮耐磨的玻璃基材蚀刻效果成型工艺，其特征在于：S1中熟化时间为24h，熟化过程中每间隔4h搅拌一次。

3.根据权利要求1所述的一种具有抗指纹印及抗刮耐磨的玻璃基材蚀刻效果成型工艺，其特征在于：S4中蒙砂时保持蚀刻液温度为28~32℃，并且蚀刻液温差控制在3%以内。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的一种具有抗指纹印及抗刮耐磨的玻璃基材蚀刻效果成型工艺，其特征在于：采用所述成型工艺对玻璃基材表面进行蒙砂后，玻璃基材表面均匀分布有类蜂窝状的颗粒层。