[发明专利]核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置有效

专利信息
申请号: 202110269793.7 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113050564B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 李运杰;莫丹;胡正国;段敬来;姚会军;刘杰 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;C08J7/12
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 刘美丽
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要:
搜索关键词: 核孔膜 蚀刻 反馈 联动 生产 控制 装置
【说明书】:

发明涉及一种核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置,包括核孔膜蚀刻线本体装置、蚀刻液残渣自动处理单元,被配置为对蚀刻液浓度进行监测,并对残渣进行清洗;蚀刻液温度自动监测单元,被配置为对蚀刻液温度进行监测,通过温度监测与自动加热实现蚀刻液温度平衡;蚀刻膜孔密度探测单元,被配置为通过对显微镜下的蚀刻膜图像进行分析,实现蚀刻膜孔密度探测;自反馈自动化生产单元,被配置为通过对蚀刻膜厚度测量,利用蚀刻膜厚度与卷膜机速度关系实现核孔膜蚀刻的自动化生产。本发明的核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置能够以自动化的生产方式显著提高核孔膜蚀刻的生产效率,降低残次率。

技术领域

本发明是关于一种核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置,涉及核孔膜蚀刻线的生产自动化控制领域。

背景技术

核孔膜主要是靠离子在塑料薄膜上打孔,再经过特殊的化学液体进行蚀刻,从而形成小孔。核孔膜材料因为具有众多的优点,广泛应用于电子、生物、食品、医疗及化工领域,核孔膜的生产具有重大的经济价值与社会意义。

核孔膜辐照完成后只是初始的膜,还需要经过蚀刻才能成为成品膜,这个过程是缺一不可的。核孔膜的蚀刻是一个复杂的过程,核孔膜蚀刻生产的流程为:将辐照后的核孔膜原膜在设定浓度的碱液里浸泡,再在清水池里进行清洗,最后风干成为标准的核孔膜,现有的核孔膜蚀刻面临以下几个问题:

(1)蚀刻液的残渣问题

核孔膜实现原理主要是利用重离子或裂变碎片在绝缘物质薄膜上打孔然后化学蚀刻扩孔而成。在进行蚀刻机的设计时,一定要考虑到薄膜在化学蚀刻后所散落到蚀刻液中的薄膜屑,如果液体中集聚过多的薄膜屑会影响到蚀刻效果。

(2)蚀刻液温度问题

核孔膜蚀刻液用到的主要是碱液,在生产中对这种碱液温度的要求很高,要保持在一定的范围内,既不能过高也不能过低,否则会影响核孔膜蚀刻的效果。

(3)蚀刻膜的孔密度探测问题

当辐照膜在蚀刻液中蚀刻后,这时并不能认为它就是一个合格的核孔膜,要对其进行孔径的检验,达到所要求孔的密度和数量后,才能最终成功。目前所采用的方法是人工在显微镜下数孔的个数和观察孔密度,这样既费时费力,又不精准。

(4)自反馈自动化生产问题

在核孔膜蚀刻生产中,由于不能实时知晓蚀刻效果,需要不停地在显微镜下化验后,才能知道最终实验效果,直到蚀刻膜卷膜机的速度调校合适,这样会浪费大量的时间。

(5)生产故障回溯与诊断问题

在生产中会出现各种各样的问题,现有技术中没有故障回溯功能,不能及时分析判断出产生故障的原因,也不能进行及时的故障诊断。

综上所述,现有核孔膜蚀刻生产中存在费时、费力以及不精准等问题,影响到最终生产的核孔膜的蚀刻效果。

发明内容

针对上述问题,本发明的目的是提供一种能够通过自动化的生产方式显著提高核孔膜蚀刻的生产效率,且能够降低残次率的核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置。

为实现上述目的,本发明采取以下技术方案:一种核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置,包括:

核孔膜蚀刻线本体装置,被配置为完成辐照原膜的蚀刻,所述核孔膜蚀刻线本体装置包括放料装置、蚀刻槽、清洗槽、烘干槽、测厚装置和收料装置;

蚀刻液残渣自动处理单元,被配置为对蚀刻液浓度进行监测,并对残渣进行清洗;

蚀刻液温度自动监测单元,被配置为对蚀刻液温度进行监测,通过温度监测与自动加热实现蚀刻液温度平衡;

蚀刻膜孔密度探测单元,被配置为通过对蚀刻膜显微图像进行分析,实现蚀刻膜孔密度检测;

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