[实用新型]基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置

权利要求书

1.基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置，包括工件托盘、转送机构和吸附固定机构，其特征在于：所述工件托盘上设有用于放置钕铁硼铸片的上下料工位和检测工位，所述转送机构设置于所述上下料工位与所述检测工位之间,所述转送机构用于将上下料工位处的钕铁硼铸片转动至所述检测工位处以及将所述检测工位处的钕铁硼铸片转动至所述上下料工位处；所述工件托盘上位于所述检测工位处设有抽气口，所述吸附固定机构设置于所述上下料工位处，所述吸附固定机构包括真空泵和吸附管道，所述吸附管道一端与所述真空泵连接，所述吸附管道另一端设置于所述抽气口处；当所述吸附管道吸气时，所述抽气口吸气固定钕铁硼铸片。

2.根据权利要求1所述的基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置，其特征在于：所述工件托盘包括盖板和腔板，所述腔板内形成有腔体，所述盖板设置于所述腔板上并将所述腔板的腔体密封，所述盖板上设有与所述腔体连通的吸附槽，所述抽气口设置于所述腔板底部并与所述腔体连通。

3.根据权利要求2所述的基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置，其特征在于：所述工件托盘上设有位于检测工位处的胶垫，所述胶垫上设有与所述吸附槽相配合的通孔。

4.根据权利要求1所述的基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置，其特征在于：所述工件托盘上设有位于所述上下料工位处的支撑座，所述支撑座的顶部表面积小于所述钕铁硼铸片的底部表面积。

5.根据权利要求1所述的基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置，其特征在于：所述吸附管道与所述抽气口连接的一端设有调节阀，所述吸附管道与所述真空泵连接的一端设有压力表。

6.根据权利要求1所述的基于XRF和XRD分析钕铁硼铸片设备的转送固定装置，其特征在于：所述转送机构包括四轴机械手和设置于所述四轴机械手上的取料座，所述四轴机械手带动所述取料座沿X轴、Y轴、Z轴移动以及沿Z轴转动，所述取料座上具有第一气动吸盘和第二气动吸盘，所述四轴机械手与第一气动吸盘配合将所述上下料工位处的钕铁硼铸片转动至检测工位处，所述四轴机械手与第二气动吸盘配合将所述检测工位处的钕铁硼铸片转动至上下料工位处。