[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

背板；

设置在所述背板一侧的像素界定层，所述像素界定层具有多个开口；

设置在所述像素界定层远离所述背板一侧的气体吸收层，所述气体吸收层在所述背板上的正投影位于所述像素界定层在所述背板上的正投影范围内，或者，所述气体吸收层在所述背板上的正投影与所述像素界定层在所述背板上的正投影重合；以及，

多个发光层，一个发光层至少部分位于一个开口内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述气体吸收层的材料包括乙烯/丙烯酸甲酯/丙烯酸环己烯基三元共聚物、顺酐酯化合物和二胺四乙酸亚铁盐中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述气体吸收层的厚度的取值范围为0.05μm～0.5μm。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述气体吸收层远离所述背板一侧的光线吸收层；

所述光线吸收层在所述背板上的正投影位于所述气体吸收层在所述背板上的正投影范围内，或者，所述光线吸收层在所述背板上的正投影与所述气体吸收层在所述背板上的正投影重合。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光线吸收层在所述背板上的正投影与所述发光层在所述背板上的正投影无交叠。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光线吸收层的材料包括丙烯酸脂预聚物、紫外线吸收剂和二氧化钛中的至少一种。

7.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光线吸收层的厚度的取值范围为0.05μm～0.5μm。

8.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

制备背板；

在所述背板的一侧形成像素界定层；所述像素界定层具有多个开口；

在所述像素界定层远离所述背板的一侧形成气体吸收层；所述气体吸收层在所述背板上的正投影位于所述像素界定层在所述背板上的正投影范围内，或者，所述气体吸收层在所述背板上的正投影与所述像素界定层在所述背板上的正投影重合；

在所述气体吸收层远离所述背板的一侧形成多个发光层；一个发光层至少部分位于一个开口内。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：

在形成所述多个发光层之前，在所述气体吸收层远离所述背板的一侧形成光线吸收层。

10.根据权利要求9所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述气体吸收层和所述光线吸收层在相同的步骤中形成；

形成所述气体吸收层和所述光线吸收层的步骤，包括：

在所述像素界定层远离所述背板的一侧依次形成牺牲层和光刻胶层；

对所述牺牲层和所述光刻胶层进行图案化，去除所述牺牲层和所述光刻胶层覆盖所述像素界定层的部分，保留所述牺牲层和所述光刻胶层位于所述多个开口内的部分；

在图案化后的光刻胶层远离所述背板的一侧以及所述像素界定层远离所述背板的一侧依次形成气体吸收薄膜和光线吸收薄膜；

对图案化后的牺牲层进行剥离，去除图案化后的牺牲层、图案化后的光刻胶层，以及所述气体吸收薄膜和所述光线吸收薄膜中位于所述多个开口内的部分，得到所述气体吸收层和所述光线吸收层。

11.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1～7中任一项所述的显示基板。