[发明专利]X射线管和X射线分析系统

权利要求书

1.一种X射线管，包括：

阳极，所述阳极具有目标表面；

阴极，所述阴极包括用于发射电子束的发射部分，其中，所述发射部分被配置成用电子照射所述阳极的所述目标表面以使所述阳极发射X射线；

窗口，所述窗口被布置成允许X射线通过所述X射线管的输出端离开所述X射线管，其中，所述X射线管的纵轴穿过所述输出端；以及

其中，所述阳极的所述目标表面以相对于所述纵轴的一斜角倾斜。

2.根据权利要求1所述的X射线管，其中，所述阳极包括锥形主体，且所述阳极的所述目标表面是所述锥形主体的表面。

3.根据权利要求2所述的X射线管，其中，所述目标表面的至少一部分在沿着所述纵轴的方向上比所述发射部分更靠近所述窗口。

4.根据权利要求2或3所述的X射线管，其中，所述锥形主体是圆锥形的。

5.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述发射部分包括围绕所述纵轴延伸的发射弧。

6.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述阴极包括围绕所述纵轴延伸的发射环。

7.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述纵轴是所述X射线管的中心轴。

8.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述发射部分和所述阳极被配置成使得在使用中，在来自所述阴极的电子束与来自所述阳极的通过所述窗口离开所述X射线管的X射线束之间的检测角小于175度，且优选地小于150度。

9.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述阳极的所述目标表面相对于所述纵轴倾斜，使得在垂直于所述目标表面的矢量和沿着所述纵轴在从所述阳极朝着所述窗口的方向上的矢量之间的角大于5度。

10.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述阴极包括第一发射弧和第二发射弧，其中，所述第一发射弧在沿着所述纵轴的方向上比所述第二发射弧更靠近所述窗口。

11.根据任一前述权利要求所述的X射线管，其中，所述阳极的所述目标表面包括第一部分和第二部分，并且所述阴极包括被布置成照射所述第一部分的第一发射弧和被布置成照射所述第二部分的第二发射弧；

其中，所述第一部分的材料不同于所述第二部分的材料。

12.根据任一前述权利要求所述的X射线管，还包括包围所述阴极和所述阳极的外壳，其中，所述外壳包括在沿着所述纵轴的方向上朝着所述X射线管的所述输出端逐渐变细的锥形端部。

13.一种X射线分析系统，所述系统包括：

根据任一前述权利要求所述的X射线管；

样本保持器，所述样本保持器用于保持样本；

检测器，所述检测器被配置为检测来自所述样本的X射线；

处理器，所述处理器被配置为从所述检测器接收与检测到的X射线的强度相关的强度数据。

14.根据权利要求13所述的X射线分析系统，其中，所述X射线分析系统是X射线成像系统；或

其中，所述X射线分析系统是X射线衍射分析系统或X射线荧光分析系统，以及所述处理器被配置成从所述检测器接收与X射线的所述强度和所述检测器相对于所述样本的位置相关的数据；并且记录随着在所述检测器和所述样本的表面之间的角度变化的X射线强度值。

15.一种X射线分析系统，包括：

根据权利要求10到12中的任一项所述的X射线管，其中，所述阴极包括第一发射弧和第二发射弧；

电路，所述电路被配置为向所述阴极提供电流；以及

控制器，所述控制器被配置为控制所述电路以向所述第一发射弧或所述第二发射弧提供所述电流。