[发明专利]用于基于电子全息术检测测量值的设备和方法

权利要求书

1.用于检测测量值的方法，

其特征在于，

-将具有或不具有叠加的直流分量(Uoffset)的、具有预给定的激励频率(f)的正弦的电的激励信号(Ue)馈送给元器件(100、C)的输入端，所述元器件对电的激励信号有反应并且依赖于激励信号地在能测量的程度内改变特性，

-执行至少一个电子全息术测量步骤，在其中，

-将电子束(Se)对准所述元器件(100、C)，所述电子束穿过和/或经过所述元器件(100、C)，并且随后与参考电子束(Sr)

叠加，并且

-测量在预给定的测量窗(F)期间通过两个电子束(Se、Sr)的干涉产生的电子全息图影(EHG)并且由此获知相位图像(PB)，并且

-借助相位图像(PB)获知在地点上的相位变化并形成斜率值，并且输出所述斜率值作为测量值或利用所述斜率值通过乘以常数(K)来形成测量值，

-其中，所述电子全息术测量步骤的测量窗(F)的时间长度(Tf)小于所述正弦的激励信号(Ue)的周期持续时间(T)的一半，

-以不同的激励频率(f)依次执行至少两个所述电子全息术测量步骤，

-在其中每个电子全息术测量步骤中，将所述测量窗(F)的长度(Tf)和所述正弦的激励信号(Ue)的各自的周期长度(T)彼此匹配，

-在其中每个电子全息术测量步骤中，无论各自的激励频率(f)如何，关于所述激励信号(Ue)的时间变化曲线，所述测量窗(F)位置始终相同。

2.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

相对于所述激励信号(Ue)的最大斜率部位选择所述测量窗(F)的位置，使得所述测量窗(F)位于这些部位之间并且不包括这些部位。

3.根据前述权利要求中任一项所述的方法，

其特征在于，

选择所述测量窗(F)的位置，使得测量窗要么囊括了所述激励信号的最大值(Max)要么囊括了所述激励信号的最小值(Min)。

4.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，

其特征在于，

选择所述测量窗(F)的位置，使得窗中心位于所述激励信号(Ue)的极限部位上或至少位于所述激励信号(Ue)的极限部位的区域中。

5.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

在其中每个电子全息术测量步骤中，无论各自的激励频率(f)如何，窗中心始终处于所述激励信号(Ue)的所选出的极限部位上。

6.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

在其中每个电子全息术测量步骤中，无论各自的激励频率(f)如何，窗中心始终处于所述激励信号(Ue)的所选出的极限部位的区域中。

7.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，

其特征在于，

作为测量值获知施加到所述元器件(100、C)上的电压。

8.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，

其特征在于，

作为测量值获知流动穿过所述元器件(100、C)的电流。

9.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，

其特征在于，

所述测量窗(F)的时间长度(Tf)小于所述激励信号(Ue)的周期持续时间(T)的五分之一。

10.根据权利要求1-2中任一项所述的方法，

其特征在于，

所述测量窗(F)的时间长度(Tf)位于正弦信号的周期持续时间(T)的二十分之一至百分之一之间的区域中。