[实用新型]一种基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置

权利要求书

1.一种基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，包括：真空室(5)及与其连接的真空获得装置；工件架(2)：设于真空室的内腔用于承载氮化产品；离子氮化偏压电源(3)：其阳极接真空室(5)的室壁、阴极接工件架(2)；其特征是：还包括弧光电子源装置，所述的弧光电子源装置又包括弧光电子源辅助阳极(7)以及含有电弧靶的弧光电子源主体(1)；所述的弧光电子源主体(1)绝缘地置于真空室室内壁上并配有弧光电子源主体电源(4)，主体电源(4)的阳极接真空室室壁、阴极接弧光电子源主体(1)中的阴极电弧的电弧靶上；所述的弧光电子源辅助阳极(7)绝缘置于真空室內靠近弧光电子源主体并配有辅助阳极电源(6)，阳极电源(6)阴极接真空室室壁，阳极与辅助阳极(7)连接。

2.根据权利要求1所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：所述的弧光电子源主体中的阴极电弧的电弧靶的靶前方设有挡板。

3.根据权利要求2所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：所述的离子氮化偏压电源(3)为高精度脉冲偏压电源，20-1200V可调，10-100KHZ，1-10us。

4.根据权利要求3所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：所述的真空获得装置为：依次连接的高阀(13)、分子泵或扩散泵(8)、前级阀(12)、罗茨泵(9)和机械泵(10)，高阀连通所述真空室，而机械泵连通大气，同时在真空室与前级阀和罗茨泵之间的管道上还设有接有粗抽阀(11)的旁路。

5.根据权利要求4所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：所述的机械泵、扩散泵或分子泵极限真空优于5*10^-4Pa，本底真空优于3*10^-3Pa。

6.根据权利要求5所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：所述的真空室的内腔为U型或者圆形真空腔，直径600-2000mm，高度不超过1200mm。

7.根据权利要求6所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：还设有加热器：设在真空室的腔内的PVD用U型或者铠装加热器，最高加热温度600℃。

8.根据权利要求7所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：还设有供气系统及其控制装置：气体采用高纯的氩气和氮气，控制装置为1个氩气流量计和1个氮气流量计，控制装置有管道与气源以及炉腔进气口连接。

9.根据权利要求8所述的基于弧光电子源辅助的高真空离子氮化装置，其特征是：还设有真空测量系统：包括与真空室连通的真空测量规管和真空测量仪表。