[发明专利]一种修正阵列波导光栅中心波长的方法和装置

权利要求书

1.一种修正阵列波导光栅中心波长的方法，其特征在于，在特定激光的光源与阵列波导光栅的阵列波导之间设置有辐射区域调整装置，所述辐射区域调整装置用于调整所述特定激光在阵列波导光栅的阵列波导中的辐射区域，所述方法包括：

确定将阵列波导光栅的实际中心波长调整至目标中心波长的波长改变量；

根据所述波长改变量，确定所述辐射区域调整装置的工作参数和/或所述特定激光的参数，根据所述辐射区域调整装置的工作参数和/或所述特定激光的参数，控制所述特定激光辐射所述辐射区域调整装置，使所述特定激光穿过所述辐射区域调整装置后，辐射在所述阵列波导光栅的阵列波导上，所述特定激光在所述阵列波导中的辐射区域为目标辐射区域；每两个相邻波导在所述目标辐射区域内的长度具有固定长度差，使所述阵列波导光栅的中心波长变为目标中心波长；所述特定激光表示单脉冲能量大于设定单脉冲能量的激光。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述目标辐射区域为三角形区域、梯形区域、菱形区域或扇形区域。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述波长改变量，确定所述辐射区域调整装置的工作参数，包括：

根据所述波长改变量，确定每两个相邻波导在所述目标辐射区域内的长度的差的大小，根据所述每两个相邻波导在所述目标辐射区域内的长度的差的大小确定所述辐射区域调整装置的工作参数。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述波长改变量，确定所述特定激光的参数，包括：

根据所述波长改变量，确定所述目标辐射区域内的阵列波导有效折射率变化量的大小，根据所述目标辐射区域内的阵列波导有效折射率变化量的大小确定所述特定激光的参数。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述特定激光的参数包括以下至少一项：脉冲宽度、功率密度、光斑尺寸、聚焦深度。

6.一种修正阵列波导光栅中心波长的装置，其特征在于，在光源与阵列波导光栅的阵列波导之间设置有辐射区域调整装置，所述辐射区域调整装置用于调整特定激光在阵列波导光栅的阵列波导中的辐射区域，所述装置包括：用于发出特定激光的光源和控制器，其中，所述控制器，用于确定将阵列波导光栅的实际中心波长调整至目标中心波长的波长改变量；根据所述波长改变量，确定所述辐射区域调整装置的工作参数和/或所述特定激光的参数，根据所述辐射区域调整装置的工作参数和/或所述特定激光的参数，控制所述特定激光辐射所述辐射区域调整装置，使所述特定激光穿过所述辐射区域调整装置后，辐射在所述阵列波导光栅的阵列波导上，所述特定激光在所述阵列波导中的辐射区域为目标辐射区域；每两个相邻波导在所述目标辐射区域内的长度具有固定长度差，使所述阵列波导光栅的中心波长变为目标中心波长；所述特定激光表示单脉冲能量大于设定单脉冲能量的激光。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述目标辐射区域为三角形区域、梯形区域、菱形区域或扇形区域。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述控制器，用于：

根据所述波长改变量，确定每两个相邻波导在所述目标辐射区域内的长度的差的大小，根据所述每两个相邻波导在所述目标辐射区域内的长度的差的大小确定所述辐射区域调整装置的工作参数。

9.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述控制器，用于：

根据所述波长改变量，确定所述目标辐射区域内的阵列波导有效折射率变化量的大小，根据所述目标辐射区域内的阵列波导有效折射率变化量的大小确定所述特定激光的参数。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述特定激光的参数包括以下至少一项：脉冲宽度、功率密度、光斑尺寸、聚焦深度。