[实用新型]多系统Parylene真空冷却镀膜机有效
申请号: | 201821043007.1 | 申请日: | 2018-06-29 |
公开(公告)号: | CN208604207U | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 张卫兴;张振兴;钱雪冰 | 申请(专利权)人: | 江苏可润光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 冯子玲 |
地址: | 210000 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空沉积 分流器 裂解室 外循环冷却系统 真空系统 蒸发室 本实用新型 控制面板 真空冷却 真空外壳 镀膜机 多系统 冷循环 蒸发腔 室内 抽气 进气 水套 电镀技术领域 真空沉积室 并列设置 有效手段 制备 室外 复合 | ||
本实用新型公开了一种多系统Parylene真空冷却镀膜机,属于电镀技术领域,其特征在于,包括控制面板、蒸发室、裂解室、真空沉积室、真空系统,外循环冷却系统,真空沉积室内设有进气分流器和抽气分流器,控制面板分别与蒸发室、裂解室、真空系统、外循环冷却系统连接,蒸发室包括若干个并列设置的蒸发腔,蒸发腔的一端与裂解室连接,裂解室通过管路与真空沉积室内的进气分流器连接,真空沉积室内的抽气分流器通过管路与真空系统连接,真空沉积室外设有真空外壳冷循环水套,真空外壳冷循环水套接有外循环冷却系统。本实用新型扩大了Parylene薄膜的原料范围,同时以多种类型的Parylene固体为原料,为制备出多功能的复合Parylene薄膜提供了有效手段。
技术领域
本实用新型涉及电镀技术领域,尤其涉及一种多系统Parylene真空冷却镀膜机。
背景技术
Parylene中文称:派瑞林、聚对二甲苯,或派拉伦,是对一系列独特的高聚物的一个通常的称呼。主要分为N型、C型、D型、F型,不同的类型具有不同的性能。N型是对二甲苯的高聚物,具有最强的渗透能力,能够有效地在各种细缝或针孔表面形成薄膜;C型是在其芳香基中一氢分子被氯所取代,具有极低的水分子和腐蚀性气体的穿透率,沉积速率比N型快。D型是在其芳香基中二个氢原子被二个氯原子所取代,因而在更高温度下具有相对更好的物理及电性能,同时与N、C型相比,具有更好的热稳定性;F型是将二甲基上的H原子替换为F原子,F-C键是已知最强的共价键,键能高达445KJ/mol,仅次于C-H键,但是键能却比C—H键强得多,因而能抵抗紫外线对它的破坏,改善抗紫外线能力;氟原子取代亚甲基上的氢原子也极大地改变化学键的极性,进而提高了其热稳定性和抗老化性能,使其在航空及半导体领域将有可观的应用前景。
但是,目前现有的Parylene真空镀膜机往往只有一个蒸发腔室,升华温度单一,每次只能制备单一类型的Parylene薄膜,性能好的复合Parylene薄膜的制备成为一个难以攻克的难题。ZL201320607540.7公开了《一种复合式聚对二甲苯防水膜沉积装置》,该装置并列设置多个蒸发腔,并各自对应连接裂解室,可实现同时沉积两种以上分子结构的聚对二甲苯膜。由于Parylene在蒸发室内的蒸发温度不一样,会存在一定的工艺差异,而在裂解室的裂解温度基本相同,所以多裂解室会造成浪费,而且裂解室数量的增加,无疑增加了仪器制造的难度,同时也增加工艺成本。
实用新型内容
本实用新型提供一种设有多蒸发腔、单裂解室,能耗低,沉积速度快且均匀,可制备多功能复合型Parylene薄膜的多系统Parylene真空冷却镀膜机。本实用新型提供的技术方案如下:
一种多系统Parylene真空冷却镀膜机,其特征在于,包括控制面板、蒸发室、裂解室、真空沉积室、真空系统,外循环冷却系统,所述真空沉积室内设有进气分流器和抽气分流器,所述控制面板分别与蒸发室、裂解室、真空系统、外循环冷却系统连接,所述蒸发室包括若干个并列设置的蒸发腔,所述蒸发腔的一端与裂解室连接,所述裂解室通过管路与真空沉积室内的进气分流器连接,所述真空沉积室内的抽气分流器通过管路与真空系统连接,所述真空沉积室外设有真空外壳冷循环水套,所述真空外壳冷循环水套接有外循环冷却系统。
本实用新型的工作过程如下:
向蒸发腔分别加入不同类型的Parylene固体原料,控制面板发出控制信号,启动真空系统,保证本实用新型体系内为真空状态;控制面板发出控制信号,分别将各个蒸发腔、裂解室设置到指定温度,固体原料升华后经异形管路扩散至裂解室,裂解成具有反应特性的活性单体,活性单体经管路在进气分流器和抽气分流器的作用下,均匀的扩散至整个真空沉积室,在外循环冷却系统的作用下,真空外壳冷循环水套一直保持低温的状态,使形成气相活性单体快速均匀的涂覆在样品表面形成Parylene薄膜,有效的防止了气相沉积在真空系统的连接管路。
通过采用以上技术方案,本实用新型所达到的有益效果为:
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的