[发明专利]多结太阳能电池及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811458811.0 申请日: 2018-11-30
公开(公告)号: CN111261744A 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 罗轶;张新勇;李琳琳;宋士佳 申请(专利权)人: 东泰高科装备科技有限公司
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0693;H01L31/18
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 韩建伟;谢湘宁
地址: 102209 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 及其 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种多结太阳能电池及其制备方法。该多结太阳能电池包括多个子电池以及连接子电池的隧道结层,隧道结层由层叠的N型半导体层和P型半导体层组成,N型半导体层和P型半导体层均包括多层第一类掺杂层,第一类掺杂层选自轻掺杂层和非掺杂层中的任一种,N型半导体层和P型半导体层还分别包括与第一类掺杂层交替层叠的第二类掺杂层,第二类掺杂层为重掺杂层,且N型半导体层和P型半导体层的最外层均为第一类掺杂层。上述超晶格结构的隧道结能够减少掺杂缺陷,不仅便于隧道结生长,降低了工艺难度,而且与上下层子电池匹配性高;并且,上述超晶格结构的隧道结还能降低隧道结阻抗,提高其隧穿效果。

技术领域

本发明涉及光伏技术领域,具体而言,涉及一种多结太阳能电池及其制备方法。

背景技术

多结GaAs太阳能电池是以GaAs材料为基础,利用不同禁带宽度的材料相互搭配形成多结电池,各结子电池分别吸收不同波段的太阳光谱,并用隧道结串联组成的电池组件,具有40%以上光电转化效率,另外具有发电稳定,重量轻,抗辐射能力强,土地利用率高等优点。

目前,GaAs太阳能电池主要是采用金属有机化合物,并通过气相沉积(MOCVD)或分子束外延(MBE)的方法进行制备。作为有效互连两个子电池的过渡结,隧道结应具有高透光率和阻抗小的特点,且其晶格常数和热膨胀系数应与上下层的子电池匹配。

然而,目前多结GaAs太阳能电池中的隧道结多由重掺杂的材料组成,重掺材料生长较为困难,且与上下层失配较大,从而影响了多结太阳能电池的发光效率等性能。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种多结太阳能电池及其制备方法,以解决现有技术中多结太阳能电池中的隧道结与子电池失配的问题。

为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种多结太阳能电池,包括多个子电池以及连接子电池的隧道结层,隧道结层由层叠的N型半导体层和P型半导体层组成,N型半导体层和P型半导体层均包括多层第一类掺杂层,第一类掺杂层选自轻掺杂层和非掺杂层中的任一种,N型半导体层和P型半导体层还分别包括与第一类掺杂层交替层叠的第二类掺杂层,第二类掺杂层为重掺杂层,且N型半导体层和P型半导体层的最外层均为第一类掺杂层。

进一步地,第一类掺杂层的掺杂浓度为0-1E19,第二类掺杂层的掺杂浓度为1E19-1E23。

进一步地,N型半导体层中的第一类掺杂层为N型轻掺杂层,P型半导体层中的第一类掺杂层为P型轻掺杂层。

进一步地,隧道结层由N型超晶格结构和P型超晶格结构组成,N型半导体层中的第二类掺杂层为N型重掺杂层,P型半导体层中的第二类掺杂层为P型重掺杂层,N型超晶格结构包括交替层叠的N型轻掺杂层和N型重掺杂层,P型超晶格结构包括交替层叠的N型轻掺杂层和N型重掺杂层。

进一步地,相邻的一层N型轻掺杂层和一层N型重掺杂层构成N型超晶格结构的一个周期,相邻的一层P型轻掺杂层和一层P型重掺杂层构成P型超晶格结构的一个周期,N型超晶格结构和P型超晶格结构的周期独立地选自2~30个。

进一步地,N型超晶格结构与P型超晶格结构的周期数相同。

进一步地,N型超晶格结构和P型超晶格结构的厚度各自独立地满足5~30nm。

根据本发明的另一方面,提供了一种上述的多结太阳能电池的制备方法,包括形成隧道结层的步骤:在子电池上形成N型半导体层和P型半导体层,N型半导体层位于子电池远离P型半导体层的一侧,或P型半导体层位于子电池远离N型半导体层的一侧,其中,形成N型半导体层的步骤以及形成P型半导体层的步骤独立地包括:在子电池上交替形成层叠的第一类掺杂层和第二类掺杂层,第一类掺杂层选自轻掺杂层和非掺杂层中的任一种,第二类掺杂层为重掺杂层,并使形成的N型半导体层和P型半导体层的最外层均为第一类掺杂层。

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