[发明专利]显示模组及其制作方法、电子装置

权利要求书

1.一种显示模组，其特征在于，包括：

阵列基板；

位于所述阵列基板上的发光器件层；

位于所述发光器件层上的薄膜封装层；

位于所述薄膜封装层上的偏光片层；

位于所述偏光片层上的盖板层；

其中，所述偏光片层与所述盖板层在所述发光器件层上通过沉积工艺形成。

2.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括触控层和彩膜层，所述触控层和所述彩膜层位于所述偏光片层与所述薄膜封装层之间；

其中，所述触控层位于所述彩膜层上。

3.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括触控层和彩膜层，所述触控层和所述彩膜层位于所述偏光片层与所述薄膜封装层之间；

所述彩膜层位于所述触控层上。

4.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括触控层和彩膜层，所述触控层和所述彩膜层位于所述偏光片层与所述盖板层之间；

其中，所述彩膜层位于所述触控层上。

5.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括触控层和彩膜层，所述触控层和所述彩膜层位于所述偏光片层与所述盖板层之间；

所述触控层位于所述彩膜层上。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的显示模组，其特征在于，所述彩膜层的面积与所述显示模组显示区域的面积相等。

7.根据权利要求2至5中任一项所述的显示模组，其特征在于，所述偏光片层的面积大于所述显示模组显示区域的面积。

8.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述盖板层包括柔性层和硬化层，所述硬化层位于所述柔性层上；

其中，所述柔性层及所述硬化层通过所述沉积工艺形成。

9.一种显示模组的制作方法，其特征在于，包括：

提供一阵列基板；

在所述阵列基板上依次形成发光器件层、薄膜封装层；

利用第一沉积工艺，在所述薄膜封装层上形成偏光片层；

利用第二沉积工艺，在所述偏光片层上形成盖板层。

10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述薄膜封装层上形成所述偏光片层之前，还包括：

在所述薄膜封装层上沉积触控层；

在所述触控层上沉积一黑色遮光层，经图案化处理形成黑色矩阵层；

在所述黑色矩阵层上沉积一彩色滤光层，以形成彩膜层。

11.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述薄膜封装层上形成所述偏光片层之前，还包括：

在所述薄膜封装层上沉积一黑色遮光层，经图案化处理形成黑色矩阵层；

在所述黑色矩阵层上沉积一彩色滤光层，以形成彩膜层；

在所述彩膜层上沉积触控层。

12.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述薄膜封装层上形成偏光片层之后，还包括：

在所述偏光片层上沉积一黑色遮光层，经图案化处理形成黑色矩阵层；

在所述黑色矩阵层上沉积一彩色滤光层，以形成彩膜层；

在所述彩膜层上沉积触控层。

13.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在所述薄膜封装层上形成偏光片层之后，还包括：

在所述偏光片层上沉积触控层；

在所述触控层上沉积一黑色遮光层，经图案化处理形成黑色矩阵层；

在所述黑色矩阵层上沉积一彩色滤光层，以形成彩膜层。

14.根据权利要求10至13中任一项所述的制作方法，其特征在于，所述彩膜层的面积与所述显示模组显示区域的面积相等。