[发明专利]一种原子层沉积二硫化钨软涂层刀具及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811331570.3 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN109161868A 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: 吴泽;刘磊;邢佑强;黄鹏 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: C23C16/02 分类号: C23C16/02;C23C16/30;C23C16/455
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 曾教伟
地址: 210000 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 原子层沉积 二硫化钨 软涂层刀具 基体材料 软涂层 制备 刀具 硬质合金刀具材料 难加工金属材料 干式切削加工 基体材料表面 金属切削工具 工艺制备 弱化学键 使用寿命 涂层材料 硫源 钨源 应用 制造
【权利要求书】:

1.一种原子层沉积二硫化钨软涂层刀具,其特征在于:刀具结构包括基体和表面二硫化钨软涂层,基体材料为硬质合金刀具材料,表面二硫化钨软涂层是通过原子层沉积的方法获得,涂层材料与基体材料存在部分弱化学键结合,涂层与基体材料的结合强度较高。

2.按权利要求1所述的一种原子层沉积二硫化钨软涂层刀具,其特征是通过如下方法制备:

(1)硬质合金刀具基体材料投入可溶解钴元素的酸液,将材料基体表面酸腐去钴。

(2)将酸腐处理后的刀片材料进行有机溶液浸泡的超声辅助清洗,并进行真空干燥处理。

(3)采用原子层沉积的方法,通过钨源和硫源的自限制化学反应在酸腐并清洗处理的刀具基体表面逐层沉积二硫化钨薄膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811331570.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top