[发明专利]显示面板及其制备方法、显示装置

说明书

本申请提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。所述显示面板包括基板、形成于所述基板上的TFT层和形成于所述TFT层上的封装层。所述TFT层包括第一金属层、位于所述第一金属层上的第一无机层及位于所述第一无机层上的第二金属层，所述第二金属层包括第一区和第二区，所述第一区与所述第二区之间形成镂空区，所述第一区与所述第二区通过所述第一金属层导通。所述封装层位于所述镂空区的部分与所述第一无机层接触。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

背景技术

OLED显示器件由于具有自发光的特点，与其他显示器件相比，具有功耗低、显示亮度好等优点。

现有的OLED显示器件的边缘处，封装层与TFT层(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)的金属层接触，由于封装层与金属层之间的粘附性差，导致封装层与下方的金属层易发生剥离，显示器件容易出现边缘处封装失效的问题，影响显示器件的显示效果和使用寿命。

发明内容

根据本申请的第一方面，提供了一种显示面板，包括：

基板；

位于所述基板上的TFT层，所述TFT层包括第一金属层、位于所述第一金属层上的第一无机层及位于所述第一无机层上的第二金属层，所述第二金属层包括第一区和第二区，第一区与所述第二区之间形成镂空区，所述第一区与所述第二区通过所述第一金属层导通；

位于所述TFT层上的封装层，所述封装层位于所述镂空区的部分与所述第一无机层直接接触设置。

在一个实施例中，所述第一无机层上设置有间隔分布的第一接触孔和第二接触孔，所述第一接触孔和所述第二接触孔内分别填充有金属，所述第一区与所述第一金属层通过所述第一接触孔内的金属导通，所述第二区与所述第一金属层通过所述第二接触孔内的金属导通。

在一个实施例中，所述TFT层还包括形成于所述第二金属层上的环形的堤坝，所述第二区位于所述堤坝的外侧，所述第一金属层至少部分位于所述堤坝下方。

在一个实施例中，所述显示面板还包括形成于所述TFT层和所述封装层之间的OLED层，所述OLED层位于被所述堤坝围合的区域。

在一个实施例中，所述第一金属层的宽度范围为200至2000μm。

在一个实施例中，所述TFT层还包括电容上极板和源电极，所述第一金属层与所述电容上极板位于同一层，所述第二金属层与所述源电极位于同一层。

在一个实施例中，所述TFT层还包括栅电极和源电极，所述第一金属层与所述栅电极位于同一层，所述第二金属层与所述源电极位于同一层。

在一个实施例中，所述显示面板为柔性显示面板。

根据本申请的第二方面，提供了一种显示面板的制备方法，所述制备方法包括：

提供基板；

在所述基板上形成TFT层，所述TFT层包括第一金属层、位于所述第一金属层上的第一无机层及位于所述第一无机层上的第二金属层，所述第二金属层包括第一区和第二区，所述第一区与所述第二区之间形成镂空区，所述第一区与所述第二区通过所述第一金属层导通；

在所述TFT层上形成封装层，所述封装层位于所述镂空区的部分与所述第一无机层直接接触。

根据本申请的第三方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。